【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开一种磁纳米粒子浓度成像方法，其主要创新在于采用交流磁化率的虚部来进行浓度成像，有效提高磁纳米粒子成像的空间分辨率。对磁纳米粒子施加交流磁场和直流梯度磁场，检测出一次谐波幅值和相位。利用幅值差和相位差或直接利用磁化强度变化量计算出磁纳米粒子交流磁化率的实部和虚部。通过控制直流梯度磁场的零磁场点位置，求解出不同空间位置的磁纳米粒子交流磁化率的实部和虚部，进而利用交流磁化率的虚部实现磁纳米浓度成像。从仿真数据来看，利用交流磁化率虚部进行浓度成像可以很好地提高磁纳米成像的空间分辨率。【专利说明】
本专利技术涉及纳米材料测试
，具体涉及一种基于磁纳米粒子交流磁化率虚 部的成像方法。
技术介绍
磁纳米成像方法是一种全新的蓬勃发展中的浓度成像方法。2005年，Philips ResearchHamburg的两位科学家在Nature上发表了名为"Tomographicimagingusing thenonlinearresponseofmagneticparticles，'的文章，介绍了一种新的成像方法，即 磁性纳米...
【技术保护点】
一种基于磁纳米粒子交流磁化率虚部的成像方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)对待成像区域内的磁纳米粒子试剂施加激励磁场H(X,t)＝Haccos(ωt)+G·(X0‑X)，其中Hac为交流磁场的幅值，ω为交流磁场的角频率，G为直流磁场梯度，X为空间位置坐标，X0为直流梯度磁场的零磁场点，t为时间；(2)检测磁纳米粒子的交流磁化响应M(X0,t)，并根据交流磁化响应M(X0,t)计算直流梯度磁场零磁场点在空间位置X0时磁纳米粒子带来的相位变化量Δθ(X0)，以及直流梯度磁场零磁场点在空间位置X0时磁纳米粒子带来的幅值变化量ΔA(X0)，或者得到磁纳米粒子引起的交流磁化响应的变...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：皮仕强，刘文中，何乐，王秀英，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：湖北;42
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