【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种含有氧化还原体系的存储器硬盘基片的无磨粒抛光液组合物，0.003~1.78%还原剂有机胺类化合物、1.0~6.0%氧化剂双氧水、1.0~4.0%分散剂六偏磷酸钠、1.0~4.0%表面活性剂十六烷基聚氧乙烯醚羧酸盐和余量的去离子水。本专利技术抛光液制备方法为：按抛光液组分称取各原料，在搅拌作用下，依次将还原剂、分散剂和表面活性剂加入到去离子水中，待搅拌溶解后，在不断搅拌下加入氧化剂，得到透明液，即得到抛光液组合物。本专利技术抛光液不含颗粒，同时含有氧化还原体系，特别适用于Ni-P镀敷的计算机硬盘基片抛光，使用该抛光液抛后可提高基片去除速率，减少表面微观划痕、凹陷，提高硬盘基片表面平整度。【专利说明】含有氧化还原体系的存储器硬盘基片的无磨粒抛光液组合 物及其制备方法
本专利技术涉及一种抛光液及其制备方法，特别是一种无磨粒抛光液及其制备方法， 应用于原子级材料表面平整
。
技术介绍
近年来，随着存储器硬盘容量及存储密度的快速上升，要求磁头去读更小、更弱的 信号，因而磁头与磁盘磁介质之间的距离需要进一步...
【技术保护点】
一种含有氧化还原体系的存储器硬盘基片的无磨粒抛光液组合物，包括分散剂、表面活性剂和去离子水，其特征在于，还含有氧化剂和还原剂，不含固体颗粒，其中氧化剂为双氧水，还原剂为有机胺类化合物，形成氧化还原体系，其中分散剂为六偏磷酸钠，表面活性剂为十六烷基聚氧乙烯醚羧酸盐，该无磨粒抛光液组合物的组成及其重量百分比含量如下：胺类化合物 0.003~1.78%；双氧水 1.0~6.0%；六偏磷酸钠 1.0~4.0%；十六...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：雷红，蒋婷，陈入领，任小艳，顾倩，仝开宇，黄丽琴，
申请(专利权)人：上海大学，
类型：发明
国别省市：上海;31
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