磁体表面处理方法技术

本发明专利技术提供一种磁体表面处理方法，该方法包括：真空离子镀膜的步骤；在含有三价铬酸盐的钝化液中对形成的镀膜进行钝化处理的步骤。本发明专利技术采用的真空离子蒸发镀膜法与纯蒸发镀膜法相比增加了离子源，使铝原子有较高的离化率，铝离子经负偏压电场加速，沉积到产品表面上时能量更大，从而生成无晶界连续镀层，且镀层与基体结合力良好，同时镀层能达到更为优良的防腐效果。此外，本发明专利技术还采用三价铬酸盐对真空离子蒸发镀铝后的产品进行钝化，从而使镀层具备很好的防腐能力，同时避免对环境产生污染。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，通过真空离子镀膜的方式在磁体表面镀膜， 然后在含有三价铬酸盐的钝化液中对形成的镀膜进行钝化处理。
技术介绍
钕铁硼磁体的组织结构造成了自身容易氧化的特点，因此需要对磁体表面进行处 理，以提高磁体的耐腐蚀能力。在钕铁硼磁体的表面镀铝膜不但具有良好的防腐性能，无磁 屏蔽效应，而且使产品外观优美。中国专利文件CN1021085IOA公开了 一种钕铁硼磁体真空 镀铝和阴极电泳复合防护工艺及一种具有复合防护层的钕铁硼磁体。 真空磁控溅射方法虽然能产生比较致密的铝层，但是成膜速度慢，生产效率低。而 真空多弧镀铝，容易在镀层表面产生大颗粒液滴，影响表面质量。真空蒸镀方式成膜虽然速 度快，但是由于铝原子蒸发能量小，即便施加-3000V的偏压，由于铝原子在偏压作用下变 成铝离子的离化率较低，能量依然不够突破晶界的束缚，产生的铝及铝合金膜仍为柱状晶， 在扫描电镜下将采用掰断的方式得到的磁体断面放大3000倍观察，如图1所示，其晶粒1 之间存在孔隙2,镀膜层致密性差，导致防腐效果不理想。 铝是双性金属，容易与酸、碱及酸碱盐反应，所以铝表面容易产生一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁体表面处理方法，包括：真空离子镀膜的步骤；在含有三价铬酸盐的钝化液中对形成的镀膜进行钝化处理的步骤。

【技术特征摘要】
1. 一种磁体表面处理方法，包括： 真空离子镀膜的步骤； 在含有三价铬酸盐的钝化液中对形成的镀膜进行钝化处理的步骤。2. 根据权利要求1所述的磁体表面处理方法，其特征在于，所述真空离子镀膜的步骤 采用真空离子蒸发镀膜的方法，包括： 在真空环境下加热待处理磁体； 充入保护性气体； 对所述待处理磁体的表面进行清洗轰击； 将蒸发材料离化成离子，对所述待处理磁体加载负偏压，所述离子沉积在加载有所述 负偏压的所述待处理磁体的所述表面形成所述镀膜。3. 根据权利要求2所述的磁体表面处理方法，其特征在于，所述保护性气体为氩气，通 过离化所述氩气产生氩离子对所述待处理磁体的所述表面进行所述清洗轰击。4. 根据权利要求2所述的磁体表面处理方法，其特征在于，所述保护性气体为氩气，通 过对所述待处理磁体施加负偏压来对所述待处理磁体的所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王进东，张纪功，饶晓雷，胡伯平，
申请(专利权)人：北京中科三环高技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11