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本发明提供一种磁体表面处理方法，该方法包括：真空离子镀膜的步骤；在含有三价铬酸盐的钝化液中对形成的镀膜进行钝化处理的步骤。本发明采用的真空离子蒸发镀膜法与纯蒸发镀膜法相比增加了离子源，使铝原子有较高的离化率，铝离子经负偏压电场加速，沉积到产...
该专利属于北京中科三环高技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京中科三环高技术股份有限公司授权不得商用。

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