一种超细含氟铈基抛光粉的制备方法技术

本发明专利技术涉及一种超细含氟铈基抛光粉的制备方法，属于稀土研磨材料化学及制备技术领域。本发明专利技术以碳酸镧铈为原料，用无机酸溶解制备可溶性无机盐溶液；将氟化剂直接加入到沉淀剂的水溶液中，得到沉淀剂和氟化剂的混合溶液。本发明专利技术采用共沉淀法，将可溶性无机盐溶液和混合溶液进行共沉淀反应，通过调节混合溶液控制沉淀过程pH值。本发明专利技术具有反应温度低，反应时间短，陈化时间短的优势，工艺流程简单，易于工业化生产。本发明专利技术在与传统生产超细抛光粉的工艺对比中可省去球磨或粉碎这两种工序，可以得到的抛光粉粒度细D50在0.5-0.7μm之间，D100小于4μm且分布均匀，直接满足客户需要的超细抛光粉，具有较高的经济效益和成本优势。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种超细含氟铈基抛光粉的制备方法，属于稀土研磨材料化学及制备

技术介绍
在过去的几十年里，稀土材料的应用如雨后春笋般出现在各个领域，它们起到的作用也越来越明显，含稀土材料的产品趋于多元化。铈基抛光粉在玻璃行业抛光加工这一领域，已成为主力军，然而随着高新技术产业的不断发展，对玻璃材料的表面平面化的要求越来越高，而且对抛光粉的品种规格需求及抛光性能要求越来越严格和精确。 在铈基抛光粉中，主要起到抛光作用的成分是CeO2，还可以在抛光粉中掺杂一些其他元素，如La、Pr、Nd、Fe、Zr、F和P等。这些元素对CeO2的晶体结构和抛光性能起到不同的作用，因而研究这些元素在抛光材料的制备过程中的作用及存在形式，对了解稀土抛光材料的抛光性能及制备工艺有着指导意义。在现有的抛光粉生产的工艺中大多数都采用掺F，它主要以LaOF或LaF3的形式存在，还可以少量固溶于CeO2的晶体结构中，从而改变抛光粉的形貌、粒度大小及晶型结构，来提高抛光粉的抛光能力。在抛光过程中氟的作用主要体现在它可以参与化学吸附和化学反应。目前市场上较多使用的是先碳沉后氟化的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种超细含氟铈基抛光粉的制备方法，其特征是，包括以下步骤：a、以碳酸镧铈为原料，用无机酸溶解制备可溶性无机盐溶液，用去离子水稀释到质量浓度为100g/L‑130g/L；将沉淀剂直接溶于去离子水配制质量浓度为100g/L‑150g/L的沉淀剂水溶液，将氟化剂直接加入到沉淀剂的水溶液中使其全部溶解，它的用量用F‑/TREO =0.5‑10%折算，得到沉淀剂和氟化剂的混合溶液；b、利用上述可溶性无机盐溶液和沉淀剂、氟化剂的混合溶液进行共沉淀制备稀土抛光粉前驱体；c、前驱体经过高温焙烧可以得到含氟铈基抛光粉。

【技术特征摘要】
1.一种超细含氟铈基抛光粉的制备方法，其特征是，包括以下步骤：
a、以碳酸镧铈为原料，用无机酸溶解制备可溶性无机盐溶液，用去离子水稀释到质量浓度为100g/L-130g/L；将沉淀剂直接溶于去离子水配制质量浓度为100g/L-150g/L的沉淀剂水溶液，将氟化剂直接加入到沉淀剂的水溶液中使其全部溶解，它的用量用F-/TREO =0.5-10%折算，得到沉淀剂和氟化剂的混合溶液；
b、利用上述可溶性无机盐溶液和沉淀剂、氟化剂的混合溶液进行共沉淀制备稀土抛光粉前驱体；
c、前驱体经过高温焙烧可以得到含氟铈基抛光粉。
2.根据权利要求1所述的一种超细含氟铈基抛光粉的制备方法，其特征是，所述步骤a中：碳酸镧铈的TREO=45%-55%，其中La2O3=0%-40%、CeO2=60%-100%、Pr6O11<0.1%、Nd2O3<0.1%、Sm2O3<0.1%。
3.根据权利要求1所述的一种超细含氟铈基抛光粉的制备方法，其特征是，所述步骤a中：无机酸采用摩尔浓度为12M的盐酸或摩尔浓度为16M的硝酸的一种。
4.根据权利要求1或3所述的一种超细含氟铈基抛光粉的制备方法，其特征是，所述步骤a中：用无机酸溶解制备可溶性无机盐溶液：先将500ml无机酸放入烧杯中，将2kg的碳酸镧铈加入烧杯中，在搅拌的条件下加入2L的无机酸，直到没有气泡产生为止，控制pH值终点为3-4之间，测其稀土氧化物浓度，再用去离子水稀释，制得可溶性无机盐溶液的质量浓度为100g/L-130g/L。

【专利技术属性】
技术研发人员：黄令漫，郝志庆，萧桐，
申请(专利权)人：包头市金蒙研磨材料有限责任公司，
类型：发明
国别省市：内蒙古;15