本实用新型专利技术公开了一种磁控溅射设备传送系统，包括传送轴,传送轴上设有链式传送带，带有卡槽的传送托盘设置于链式传送带上，且由传送托盘侧壁的第一卡扣固定于链式传送带上。所述传送托盘内设有样品托盘，样品托盘包括设置于样品托盘两旁侧壁上的滑动扳手，滑动扳手可带动样品托盘在卡槽内做平行移动。卡槽内设有第二卡扣，用于阻止样品托盘在卡槽内进一步向后运动。链式传送带的上下方至少设置四个阴极靶材。上阴极靶材与下阴极靶材之间且平行于样品托盘上面扳手的位置设有倒三角弹性阻挡器。本实用新型专利技术结构简单，运行稳定，并且可操作性强，可随意控制台阶长短，适于工业生产。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术公开了 一种磁控溅射设备传送系统 ，包括传送轴,传送轴上设有链式传送带，带有卡槽的传送托盘设置于链式传送带上，且由传送托盘侧壁的第一卡扣固定于链式传送带上。所述传送托盘内设有样品托盘，样品托盘包括设置于样品托盘两旁侧壁上的滑动扳手，滑动扳手可带动样品托盘在卡槽内做平行移动。卡槽内设有第二卡扣，用于阻止样品托盘在卡槽内进一步向后运动。链式传送带的上下方至少设置四个阴极靶材。上阴极靶材与下阴极靶材之间且平行于样品托盘上面扳手的位置设有倒三角弹性阻挡器。本技术结构简单，运行稳定，并且可操作性强，可随意控制台阶长短，适于工业生产。【专利说明】一种磁控溅射设备传送系统
本技术涉及一种传送系统，特别是涉及一种磁控溅射设备传送系统。
技术介绍
磁控溅射技术在上世纪80年代得到迅猛的发展，已经在镀膜领域占有举足轻重的地位，在工业生产和科学领域发挥着极大的作用，然而，传统的磁控溅射设备基本都是通过控制真空室中的气压，溅射功率来获得稳定的沉积速率。从而通过沉积速率和沉积时间来计算出薄膜沉积的厚度，或者根据装在靶材附近的探测器来标定沉积厚度。但是这些均可能与已沉积薄膜实际厚度值存在差异，传统厂家一般通过一个修正系数将其校准，一旦其设备长时间使用出现偏差，非设备厂商专业人员很难将其重新修正，而且在一般的工艺生产中，如我们想随时测试已沉积的薄膜厚度，往往不具备条件。
技术实现思路
专利技术目的:本技术的目的在于解决现有的磁控溅射设备传送系统无法准确测得薄膜沉积的厚度，设备易偏差，修正困难的问题。
技术实现思路
:本技术的技术方案是这样的:一种磁控溅射设备传送系统，包括传送轴，传送轴上设有链式传送带，带有卡槽的传送托盘设置于链式传送带上，且由传送托盘侧壁的第一卡扣固定于链式传送带上；所述卡槽内设有样品托盘，样品托盘包括设置于样品托盘两旁侧壁上的可带动样品托盘在卡槽内做平行移动的滑动扳手，卡槽内设有用于阻止样品托盘在卡槽内进一步向后运动的第二卡扣；链式传送带的上方和下方分别设置至少两个阴极靶；卡槽出口处设有倒三角弹性阻挡器。 作为优化，所述样品托盘长度小于卡槽长度。 作为优化，倒三角弹性阻挡器设置于卡槽出口且与滑动扳手在同一平面内。 工作原理:将样品放置于样品托盘中，并根据需要调节样品托盘的滑动扳手将样品托盘向与传送托盘移动相反的方向移动一段距离，根据操作人员的需要将放在样品托盘上的样品一部分送入传送托盘内，未送入传送托盘内的样品正反面仍暴露在外，且暴露在外的这部分样品正反面将会被沉积第一层薄膜。 根据需要将第二卡扣固定在卡槽内用于阻挡样品托盘进一步移动。而此时第二卡扣与样品托盘滑动扳手之间的距离为第二层膜可沉积的具体范围，此范围需小于第一层膜的沉积范围。如仅只沉积单层膜可拆卸第二卡扣。 设备正常运行后，传送托盘经过第一阴极靶，第三阴极靶后将会在样品暴露在外的部分沉积第一层膜。直到样品托盘滑动扳手被倒三角弹性阻挡器所阻挡，而此时传送托盘继续向前传送，样品托盘即被相对的向后推入传送托盘内部一段距离直到被第二卡扣阻挡。此时由于倒三角弹性阻挡器由于弹性可控遇到无法继续移动的阻挡后即会根据受力向上抬起，使样品托盘滑动扳手通过倒三角弹性阻挡器，这样第二卡扣与样品托盘滑动扳手之间的距离将会在经过第二阴极靶，第四阴极靶后被沉积第二层薄膜。 设备操作完成后即会出现带有台阶的双层膜结构，此结构可轻易得通过台阶仪或类似原理测试设备测出每层膜膜厚。同样的，如遇到多层膜结构，可使用类似方法增加阴极靶数量分别做多层薄膜的沉积而后完成测试工作。 技术效果:本技术与现有技术相比:本技术解决了磁控溅射设备对于镀单层膜或多层膜厚度的不确定性，通过倒三角弹性阻挡器在样品镀膜过程中的打开有效的在样品镀膜过程中制造处膜层台阶，在工艺结束后可简单有效的测试出样品所镀各个膜层的膜厚。该装置结构简单，运行稳定，并且可操作性强，可随意控制台阶长短，可有效的运用于工业生产。 【专利附图】【附图说明】 图1为本技术结构示意图； 图2为本技术传送托盘的结构示意图。 【具体实施方式】 下面结合实施例对本技术作进一步说明，但不作为对本技术的限定。 如附图1和附图2所示，一种磁控溅射设备传送系统，包括传送轴1，传送轴1上设有链式传送带2，带有卡槽3的传送托盘4设置于链式传送带2上，且由传送托盘3侧壁的第一卡扣5固定于链式传送带2上；所述卡槽3内设有样品托盘6，样品托盘6包括设置于样品托盘6两旁侧壁上的可带动样品托盘6在卡槽3内做平行移动的滑动扳手7，卡槽3内设有用于阻止样品托盘6在卡槽3内进一步向后运动的第二卡扣8 ;链式传送带2的上方和下方分别设置第一阴极靶9，第二阴极靶10，第三阴极靶11，第四阴极靶12 ;卡槽3出口处设有倒三角弹性阻挡器13。样品托盘6长度为10mm,卡槽3长度为15mm。倒三角弹性阻挡器13设置于卡槽3出口且与滑动扳手7在同一平面内，倒三角弹性阻挡器13靠近倒三角底边的部分通过转轴活动设置于于传送托盘4内，在重力作用下，尖端垂下，在遇到不可阻挡的力的时候还是会翻转而打开倒三角弹性阻挡器13。 将样品放置于样品托盘6中，并根据需要调节样品托盘6的滑动扳手7将样品托盘6向与传送托盘4移动相反的方向移动一段距离，根据操作人员的需要将放在样品托盘6上的样品一部分送入传送托盘4内，未送入传送托盘4内的样品正反面仍暴露在外，且暴露在外的这部分样品正反面将会被沉积第一层薄膜。 根据需要将第二卡扣8固定在卡槽3内用于阻挡样品托盘6进一步移动。而此时第二卡扣8与样品托盘滑动扳手7之间的距离为第二层膜可沉积的具体范围，此范围需小于第一层膜的沉积范围。如仅只沉积单层膜可拆卸第二卡扣8。 设备正常运行后，传送托盘经过第一阴极靶9，第三阴极靶11后将会在样品暴露在外的部分沉积第一层膜。直到样品托盘滑动扳手7被倒三角弹性阻挡器13所阻挡，而此时传送托盘4继续向前传送，样品托盘6即被相对的向后推入传送托盘4内部一段距离直到被第二卡扣8阻挡。此时由于倒三角弹性阻挡器13由于弹性可控遇到无法继续移动的阻挡后即会根据受力向上抬起，使样品托盘滑动扳手7通过倒三角弹性阻挡器13，这样第二卡扣8与样品托盘滑动扳手7之间的距离将会在经过第二阴极靶10，第四阴极靶12后被沉积第二层薄膜。 设备操作完成后即会出现带有台阶的双层膜结构，此结构可轻易得通过台阶仪或类似原理测试设备测出每层膜膜厚。同样的，如遇到多层膜结构，可使用类似方法增加阴极靶数量分别做多层薄膜的沉积而后完成测试工作。【权利要求】1.一种磁控溅射设备传送系统，其特征在于:包括传送轴，传送轴上设有链式传送带，带有卡槽的传送托盘设置于链式传送带上，且由传送托盘侧壁的第一卡扣固定于链式传送带上；所述卡槽内设有样品托盘，样品托盘包括设置于样品托盘两旁侧壁上的可带动样品托盘在卡槽内做平行移动的滑动扳手，卡槽内设有用于阻止样品托盘在卡槽内进一步向后运动的第二卡扣；链式传送带的上方和下方分别设置至少两个阴极靶；卡槽出口处设有倒三角弹性阻挡器。2.根据权利要求1所述的磁控溅射设备传送系统，其特征在于:所述样品托盘长度小于卡槽长度本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种磁控溅射设备传送系统，其特征在于：包括传送轴,传送轴上设有链式传送带，带有卡槽的传送托盘设置于链式传送带上，且由传送托盘侧壁的第一卡扣固定于链式传送带上；所述卡槽内设有样品托盘，样品托盘包括设置于样品托盘两旁侧壁上的可带动样品托盘在卡槽内做平行移动的滑动扳手，卡槽内设有用于阻止样品托盘在卡槽内进一步向后运动的第二卡扣；链式传送带的上方和下方分别设置至少两个阴极靶；卡槽出口处设有倒三角弹性阻挡器。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：魏郝然，
申请(专利权)人：国电光伏有限公司，国电新能源技术研究院，
类型：新型
国别省市：江苏;32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。