一种气密环、真空闸阀、磁控溅射装置和膜层制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种气密环、真空闸阀、磁控溅射装置和膜层，用以增加气密环的形变量，从而解决由于长期磨损按压造成气密环的产生形变而导致的真空腔室密封不严的问题。所述气密环用于与真空腔室压合的面相邻的侧面具有锯齿状结构。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镀膜设备
，尤其涉及一种气密环、真空闸阀、磁控溅射装置和膜层。
技术介绍
溅射(Sputter)设备使用阀门(DV)进行隔断各腔室(Chamber)，Sputter设备制作过程处于高真空条件，因此，必须保证各腔室真空度和密闭性，L/UlChamber为大气-真空切换状态，因此若L/UlChamber同加热腔室(HeatingChamber)间DV出现漏气(Leak)，则会导致严重的丘壑(Hillock)不良，其中阀门中的气密环(DVO-Ring)起到关键作用，但现有技术中的气密环的截面形状一般为梯形形状，阀门在搬运过程中处于开启或关闭的状态与真空腔室的接触面不断摩擦，造成气密环的变形从而导致真空腔漏气且密封不严的现象。具体地，参见图1(a)和图1(b)，现有技术提供的一种真空闸阀的结构示意图，参见图1(a)，真空闸阀包括阀门021和气密环01，其中，气密环01固定在阀门021的边框区域。参见图1(b)，气密环01为梯形结构，且气密环用于与真空腔室压合的面011为平面。因此，由于面011与真空腔室长期压合摩擦，导致气密环产生形变，造成真空腔室漏气的现象，
技术实现思路
有鉴于此，本技术提供一种气密环、真空闸阀、磁控溅射装置和膜层，用以增加气密环的形变量，从而解决由于长期磨损按压造成气密环的产生形变而导致的真空腔室密封不严的问题。本技术提供一种气密环，所述气密环用于与真空腔室压合的面相邻的侧面具有锯齿状结构。在一种可能的实施方式中，本技术提供的上述气密环中，所述锯齿状结构中锯齿的大小相等。在一种可能的实施方式中，本技术提供的上述气密环中，所述气密环用于与所述真空腔室压合的面具有凸起结构。在一种可能的实施方式中，本技术提供的上述气密环中，所述凸起结构为多个，且均匀分布。在一种可能的实施方式中，本技术提供的上述气密环中，所述凸起结构为弧状结构。在一种可能的实施方式中，本技术提供的上述气密环中，所述气密环用于与所述真空腔室压合的面的面积大于或等于所述气密环用于与阀门接触的面的面积。相应地，本技术还提供了一种真空闸阀，包括阀门，所述真空闸阀还包括固定在所述阀门边框用于与真空腔室压合后保持真空腔室密闭性的，如本技术提供的任一种的气密环。相应地，本技术还提供了一种磁控溅射装置，包括多个真空腔室，所述磁控溅射装置还包括位于相邻两个真空腔室之间如本技术提供的上述真空闸阀。在一种可能的实施方式中，本技术提供的上述磁控溅射装置中，所述磁控溅射装置还包括用于支撑所述真空闸阀开启或关闭的沟槽。相应地，本技术还提供了一种膜层，包括采用本技术提供的上述磁控溅射装置制作的膜层。本技术有益效果如下：本技术提供了一种气密环，所述气密环用于与真空腔室压合的面相邻的侧面具有锯齿状结构。具体地，本技术提供的气密环与真空腔室压力的面相邻的侧面设计有锯齿状结构，因此当气密环在与真空腔室进行压合摩擦时，由于锯齿状结构在受到压力后的弹性作用，使得气密环与真空腔室压合后产生一定的形变量，从而减少了相互之间的摩擦，进一步减少了气密环与真空腔室压合后的面的磨损，保证了真空腔室的密封性。因此，本技术提供的气密环通过增加气密环的形变量，从而解决由于长期磨损按压造成气密环产生形变而导致的真空腔室密封不严的问题。附图说明图1(a)和图1(b)分别为现有技术提供的一种真空闸阀的结构示意图；图2为本技术提供的一种气密环的结构示意图；图3为本技术提供的第二种气密环的结构示意图；图4为本技术提供的第三种气密环的结构示意图；图5(a)和图5(b)分别为本技术提供的第四种气密环的结构示意图；图6(a)和图6(b)分别为本技术提供的第五种气密环的结构示意图；图7为本技术提供的一种真空闸阀的结构示意图。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本技术作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。本技术提供一种气密环、真空闸阀、磁控溅射装置和膜层，用以增加气密环的形变量，从而解决由于长期磨损按压造成气密环的产生形变而导致的真空腔室密封不严的问题。下面结合附图，对本技术实施例提供的气密环、真空闸阀、磁控溅射装置和膜层的具体实施方式进行详细地说明。附图中各膜层的厚度和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本
技术实现思路
。参见图2，本技术提供一种气密环1，气密环1用于与真空腔室压合的面相邻的侧面10具有锯齿状结构11。需要说明的是，本技术中的锯齿状结构还包括围绕气密环的侧面呈螺旋状结构的锯齿状。即，本技术实施例提供的气密环由于侧面具有锯齿状结构，在受到压力后会产生形变，且压力消失后形变消失，从而减少了气密环与真空腔室之间的摩擦力，且避免了对气密环的磨损。需要说明的是，本技术提供的气密环可以应用在需要密封的其需要通过气密环进行密封的任何设备中，如需要气密封、水密封或者油密封的设备中均可以采用本技术提供的气密环。气密环的尺寸可以根据实际制作需要进行设定。在此不作具体限定。具体地，气密环的材质一般为各种橡胶，且具有弹性。因此，本技术中将气密环的侧面设计成锯齿状结构，在气密环上施加压力后，会由于锯齿状结构的作用产生更大的形变，避免了气密环本身受到摩擦后的磨损。本技术提供的气密环中用于与真空腔室压合的面相邻的侧面具有锯齿状结构。具体地，本技术提供的气密环与真空腔室压力的面相邻的侧面设计有锯齿状结构，因此当气密环在与真空腔室进行压合摩擦时，由于锯齿状结构在受到压力后的弹性作用，使得气密环与真空腔室压合后产生一定的形变量，从而减少了相互之间的摩擦，进一步减少了气密环与真空腔室压合后的面的磨损，保证了真空腔室的密封性。因此，本技术提供的气密环通过增加气密环的形变量，从而解决由于长期磨损按压造成气密环产生形变而导致的真空腔室密封不严的问题。在具体实施例中，气密环一般为O型结构，为了使得气密环中每个部位在受到相同压力后，锯齿状结构的形变量相同，因此本技术提供的上述气密环中，参见图3，气密环的锯齿状结构11中锯齿的大小相等。其中，气密环中用于与真空腔室压合的面相邻的两个侧面中的锯齿状结构中的锯齿的大小可以均相等。具体地，每个锯齿的大小尺寸以及相邻两个锯齿之间的距离在此不作具体限定。在具体实施例中，本技术提供的上述气密环中，参见图4，气密环用于与真空腔室压合的面12具有凸起结构13。具体地，由于气密环为具有弹性作用的橡胶制作，因此在气密环的面增加凸起结构，在受到压力后，使得凸起结构产生形变并与真空腔室进行紧密贴合；在实际应用中，真空腔室可能由于搬运或者使用时间长造成表面不平整的现象，为了进一步增加产生微小形变后的真空腔室与气密环的接触面积，在气密环与真空腔室接触的表面增加凸起结构，增加了气密环的表面积，进一步增加了气密环与真空腔室的接触面积，增加真空腔室的密合度。其中，凸起结构的具体形状在此不作具体限定。在具体实施例中，为了进一步本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气密环，其特征在于，所述气密环用于与真空腔室压合的面相邻的侧面具有锯齿状结构。

【技术特征摘要】
1.一种气密环，其特征在于，所述气密环用于与真空腔室压合的面相邻的侧面具有锯齿状结构。2.根据权利要求1所述的气密环，其特征在于，所述锯齿状结构中锯齿的大小相等。3.根据权利要求1所述的气密环，其特征在于，所述气密环用于与所述真空腔室压合的面具有凸起结构。4.根据权利要求3所述的气密环，其特征在于，所述凸起结构为多个，且均匀分布。5.根据权利要求3或4所述的气密环，其特征在于，所述凸起结构为弧状结构。6.根据权利要求1-5任一权项所述的气密环，其特征在于，所述气密环用于与所述真空腔室压合的面的面积大于...

【专利技术属性】
技术研发人员：张继坡，赵欣凯，王亚非，周亚凯，付艳强，孙新，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11