一种掩模板制造技术

技术编号:10909620 阅读:160 留言:0更新日期:2015-01-14 17:22
本发明专利技术提供一种掩模板,用于辅助对形成在玻璃基板上的厚度不同的隔垫物膜层进行曝光,以形成隔垫物的图形,包括掩模基板,掩模基板上设置有渐变透光结构,渐变透光结构能使形成在玻璃基板上的隔垫物的高度相同。该掩模板通过设置渐变透光结构,有效改善了对应隔垫物膜层厚度较薄区域的隔垫物高度偏低的情况,从而提高了玻璃基板上隔垫物高度的均一性,进而使该形成有隔垫物的玻璃基板与其他玻璃基板对盒后形成的液晶显示面板的用于容置液晶的间隙变得均一,不会再出现局部发黑或者局部气泡等的不良品质问题,改善了液晶显示面板的品质。

【技术实现步骤摘要】
一种掩模板
本专利技术涉及液晶显示器制造
,具体地,涉及一种掩模板。
技术介绍
在液晶显示器的彩膜基板(ColorFilter)/阵列基板(TFT基板)的制造工艺中,隔垫物(PhotoSpacer)作为阵列基板(TFT基板)与彩膜基板(CF)之间间隙(Gap)的支撑物,其在由阵列基板和彩膜基板对盒而成的显示面板面内的均一性分布对液晶显示器的品质有着至关重要的影响。隔垫物的制作工艺主要是通过涂布->曝光->显影->后烘的工艺来完成的,其中在涂布工艺中,首先会在完成其他各膜层制备的玻璃基板上涂布一层用于形成隔垫物的隔垫物膜层2。由于现有的彩膜基板/阵列基板通常在靠近其四周边缘区域的膜层设置较少。例如:彩膜基板在靠近其四周边缘区域仅设置有黑矩阵6,而在其中心区域除了设置有黑矩阵6,还设置有像素层7等其他膜层,这使得彩膜基板靠近四周边缘区域的膜厚偏低。因此在隔垫物膜层2涂布完成后,靠近彩膜基板的四周边缘区域的膜厚依然偏低。而现有的掩模板8上用于形成隔垫物4的图形9大小形状都是一样的(如图1所示)。上述两方面原因会直接导致经过曝光显影形成的位于彩膜基板四周边缘区域的隔垫物4比位于彩膜基板中心区域的隔垫物4的高度偏低(如图2所示),从而造成显示面板四周边缘区域的间隙与中心区域的间隙不均一,进而导致了如液晶显示面板四周发黑或者液晶显示面板四周边缘出现气泡(Bubble)等的不良品质问题,严重影响液晶显示器的显示质量。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术中存在的上述技术问题,提供一种掩模板。该掩模板能够有效改善对应隔垫物膜层厚度较薄区域的隔垫物高度偏低的情况,从而提高了玻璃基板上隔垫物高度的均一性,进而使该形成有隔垫物的玻璃基板与其他玻璃基板对盒后形成的液晶显示面板的用于容置液晶的间隙变得均一,不会再出现局部发黑或者局部气泡等的不良品质问题,改善了液晶显示面板的品质。本专利技术提供一种掩模板,用于辅助对形成在玻璃基板上的厚度不同的隔垫物膜层进行曝光,以形成隔垫物的图形,包括掩模基板,所述掩模基板上设置有渐变透光结构,所述渐变透光结构能使形成在所述玻璃基板上的隔垫物的高度相同。优选地,所述渐变透光结构包括多个透光面积不同的透光图形,所述透光图形用于形成所述隔垫物的图形;所述掩模基板划分为第一区域、第二区域和第三区域,所述第一区域为所述掩模基板的四周边缘区域,所述第三区域为所述掩模基板的中心区域,所述第二区域为所述第一区域和所述第三区域之间的区域;所述隔垫物膜层的对应所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的膜层厚度依次增大;分布在所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的所述透光图形的透光面积依次减小。优选地,所述隔垫物膜层的对应所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的膜层厚度依次线性增大;分布在所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的所述透光图形的透光面积依次线性减小。优选地,所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域内均分别分布有多个所述透光图形;沿从所述第一区域至所述第三区域的方向,所述隔垫物膜层的对应所述第一区域的膜层厚度依次线性增大;所述隔垫物膜层的对应所述第二区域的膜层厚度依次线性增大;所述隔垫物膜层的对应所述第三区域的膜层厚度相同;分布在所述第一区域内的多个所述透光图形的透光面积依次线性减小;分布在所述第二区域内的多个所述透光图形的透光面积依次线性减小;分布在所述第三区域内的多个所述透光图形的透光面积相同。优选地,所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域内均分别分布有多个所述透光图形;沿从所述第一区域至所述第三区域的方向,所述隔垫物膜层的对应所述第一区域的膜层厚度相同;所述隔垫物膜层的对应所述第二区域的膜层厚度相同;所述隔垫物膜层的对应所述第三区域的膜层厚度相同;分布在所述第一区域内的多个所述透光图形的透光面积相同;分布在所述第二区域内的多个所述透光图形的透光面积相同;分布在所述第三区域内的多个所述透光图形的透光面积相同。优选地,所述透光图形为开设在所述掩模基板中的通孔的垂直于入光方向的横截面的图形,或者,所述透光图形为设置在所述掩模基板上的透光率相同的透光体的垂直于入光方向的横截面的图形。优选地,所述渐变透光结构包括多个透光率不同的透光图形,所述透光图形用于形成所述隔垫物的图形;所述掩模基板划分为第一区域、第二区域和第三区域,所述第一区域为所述掩模基板的四周边缘区域,所述第三区域为所述掩模基板的中心区域,所述第二区域为所述第一区域和所述第三区域之间的区域;所述隔垫物膜层的对应所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的膜层厚度依次增大;分布在所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的所述透光图形的透光率依次减小。优选地,所述隔垫物膜层的对应所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的膜层厚度依次线性增大;分布在所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的所述透光图形的透光率依次线性减小。优选地,所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域内均分别分布有多个所述透光图形;沿从所述第一区域至所述第三区域的方向,所述隔垫物膜层的对应所述第一区域的膜层厚度依次线性增大;所述隔垫物膜层的对应所述第二区域的膜层厚度依次线性增大;所述隔垫物膜层的对应所述第三区域的膜层厚度相同;分布在所述第一区域内的多个所述透光图形的透光率依次线性减小;分布在所述第二区域内的多个所述透光图形的透光率依次线性减小;分布在所述第三区域内的多个所述透光图形的透光率相同。优选地,所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域内均分别分布有多个所述透光图形;沿从所述第一区域至所述第三区域的方向,所述隔垫物膜层的对应所述第一区域的膜层厚度相同;所述隔垫物膜层的对应所述第二区域的膜层厚度相同;所述隔垫物膜层的对应所述第三区域的膜层厚度相同;分布在所述第一区域内的多个所述透光图形的透光率相同;分布在所述第二区域内的多个所述透光图形的透光率相同;分布在所述第三区域内的多个所述透光图形的透光率相同。优选地,所述透光图形为设置在所述掩模基板上的透光体的垂直于入光方向的横截面的图形。优选地,所述透光图形的形状为圆形、三角形、正五边形或正六边形。本专利技术的有益效果:本专利技术所提供的掩模板,通过设置渐变透光结构,使形成在玻璃基板上的隔垫物的高度相同,这有效改善了对应隔垫物膜层厚度较薄区域的隔垫物高度偏低的情况,从而提高了玻璃基板上隔垫物高度的均一性,进而使该形成有隔垫物的玻璃基板与其他玻璃基板对盒后形成的液晶显示面板的用于容置液晶的间隙变得均一,不会再出现局部发黑或者局部气泡等的不良品质问题,改善了液晶显示面板的品质。附图说明图1为现有技术中掩模板的结构俯视图;图2为利用图1中的掩模板曝光形成的隔垫物的高度示意图;图3为本专利技术实施例1中掩模板的结构俯视图;图4为利用图3中的掩模板曝光形成的隔垫物的高度示意图;图5为本专利技术实施例2中掩模板的结构俯视图;图6为本专利技术实施例3中掩模板的结构俯视图;图7为本专利技术实施例4中掩模板的结构俯视图。其中的附图标记说明:1.玻璃基板;2.隔垫物膜层;3.掩模基板;31.第一区域;32.第二区域;33.第三区域;4.隔垫物;5.透光图形;6.黑矩阵;7.像素层;8.掩模板;9.用于形成隔垫物的图形。具体实施方式为使本领域的技术本文档来自技高网...
一种掩模板

【技术保护点】
一种掩模板,用于辅助对形成在玻璃基板上的厚度不同的隔垫物膜层进行曝光,以形成隔垫物的图形,包括掩模基板,其特征在于,所述掩模基板上设置有渐变透光结构,所述渐变透光结构能使形成在所述玻璃基板上的隔垫物的高度相同。

【技术特征摘要】
1.一种掩模板,用于辅助对形成在玻璃基板上的厚度不同的隔垫物膜层进行曝光,以形成隔垫物的图形,包括掩模基板,其特征在于,所述掩模基板上设置有渐变透光结构,所述渐变透光结构能使形成在所述玻璃基板上的隔垫物的高度相同;所述隔垫物膜层采用负性光刻胶材质;所述渐变透光结构包括多个透光面积不同的透光图形,所述透光图形用于形成所述隔垫物的图形;所述掩模基板划分为第一区域、第二区域和第三区域,所述第一区域为所述掩模基板的四周边缘区域,所述第三区域为所述掩模基板的中心区域,所述第二区域为所述第一区域和所述第三区域之间的区域;所述隔垫物膜层的对应所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的膜层厚度依次增大;分布在所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的所述透光图形的透光面积依次减小;所述隔垫物膜层的对应所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域的膜层厚度依次线性增大;分布在所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域...

【专利技术属性】
技术研发人员:柴国卫冷荣军孟祥明胡瑾罗祝义张磊
申请(专利权)人:合肥京东方光电科技有限公司京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:安徽;34

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