干燥装置和干燥处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术的干燥装置和干燥处理方法在短时间内高效率地去除在对基板上的有机材料膜进行干燥的干燥装置的处理容器内残留的溶剂。干燥装置(100)具备能够进行抽真空的处理容器(1)、在处理容器(1)内支承基板(S)的作为支承构件的载置台(3)、向处理容器(1)的内部照射紫外线的紫外线照射装置(5)以及控制部(6)。紫外线照射装置(5)作为溶剂分解单元而发挥功能，其在从处理容器(1)搬出已完成干燥处理的基板(S)之后，将残留在处理容器(1)内的溶剂中包含的有机化合物分解为低分子量的化合物。

【技术实现步骤摘要】
干燥装置和干燥处理方法
本专利技术涉及一种例如在制造有机EL元件的过程中为了进行基板上的有机材料膜的干燥而能够利用的干燥装置和干燥处理方法。
技术介绍
有机EL(ElectroLuminescence：电致发光)元件是利用通过流通电流而产生的有机化合物的发光(luminescence)的发光元件，成为在一对电极之间夹持多个有机功能膜的层叠体(以下，将该层叠体统称为“EL层”)而成的结构。在此，EL层例如具有从阳极侧起按[空穴输送层/发光层/电子输送层]、[空穴注入层/空穴输送层/发光层/电子输送层]或者[空穴注入层/空穴输送层/发光层/电子输送层/电子注入层]等顺序层叠而成的结构。EL层的形成是通过针对各层在基板上蒸镀或者涂布有机材料来进行的。在形成高精度的微细图案的情况下，认为将喷墨印刷法用作涂布方法时有利。在通过喷墨印刷法印刷在基板上的有机材料膜中含有大量的源自墨的溶剂，因此为了去除溶剂而进行减压干燥。干燥后的有机材料膜进一步在低氧环境中被进行烘烤(bake)处理。通过该烘烤处理，有机材料膜变化为构成EL层的有机功能膜。在进行干燥处理时，从基板上的有机材料膜挥发出大量的溶剂。因此，为了使针对多个基板的干燥处理条件恒定，重要的是在干燥处理之后迅速地从干燥装置的处理容器内去除溶剂。但是，当对干燥装置的处理容器内进行减压时，随着压力的降低而排气量逐渐减少，因此在高真空状态下排气量减少而溶剂的去除效率降低。另外，存在以下问题：在高真空状态下，分子量大的高沸点溶剂的移动中扩散占主导，因此移动小而不容易被排出到处理容器外。作为去除有机EL制造装置等的处理容器内的有机物的方法，在专利文献1中提出了一种向处理容器内注入含臭氧的气体的方法。专利文献1：日本特开2005-138041号公报(权利要求1等)
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术的目的在于，在短时间内高效率地去除在使基板上的有机材料膜干燥的干燥装置的处理容器内残留的溶剂。用于解决问题的方案本专利技术的干燥装置是去除在基板的表面涂布的有机材料膜中的溶剂后进行干燥的干燥装置。本专利技术的干燥装置具备：能够进行抽真空的处理容器；支承构件，其在上述处理容器内支承上述基板；以及溶剂分解单元，在从上述处理容器搬出已完成干燥处理的上述基板之后，该溶剂分解单元将残留在上述处理容器内的上述溶剂中包含的有机化合物分解为低分子量的化合物。在本专利技术的干燥装置中，上述溶剂分解单元也可以具有紫外线照射装置，该紫外线照射装置向上述处理容器的内部照射紫外线。在本专利技术的干燥装置中，也可以还具备溶剂捕集部，该溶剂捕集部捕集从上述有机材料膜挥发的溶剂，上述紫外线照射装置被安装于在构成上述处理容器的壁上设置的透过窗的外部，向上述溶剂捕集部照射紫外线。在本专利技术的干燥装置中，上述透过窗也可以被设置于上述支承构件的下方。在本专利技术的干燥装置中，上述溶剂分解单元也可以还具有氧化性气体供给装置，该氧化性气体供给装置将氧化性气体导入到上述处理容器内。在本专利技术的干燥装置中，也可以还具备溶剂捕集部，该溶剂捕集部捕集从上述有机材料膜挥发的溶剂，上述氧化性气体供给装置向上述溶剂捕集部供给上述氧化性气体。在本专利技术的干燥装置中，上述溶剂分解单元也可以具有等离子体供给装置，该等离子体供给装置将等离子体导入到上述处理容器内。在本专利技术的干燥装置中，上述等离子体供给装置也可以具备：等离子体产生部，其产生上述等离子体；气体供给源，其向上述等离子体产生部供给气体；以及等离子体供给路径，其将由上述等离子体产生部产生的等离子体供给至上述处理容器内。在该情况下，上述等离子体供给路径也可以与上述处理容器的等离子体导入部相连接。另外，在本专利技术的干燥装置中，也可以还具备溶剂捕集部，该溶剂捕集部捕集从上述有机材料膜挥发的溶剂，上述等离子体导入部被设置于面对上述溶剂捕集部的位置，使得能够将上述等离子体供给至上述溶剂捕集部。在本专利技术的干燥装置中，上述溶剂捕集部也可以具有一个或多个金属板，上述一个或多个金属板具有多个贯通开口。在本专利技术的干燥装置中，上述溶剂捕集部也可以还具有冷却装置，该冷却装置冷却上述金属板。本专利技术的干燥处理方法具备：干燥处理工序，在干燥装置的处理容器内，使在基板的表面涂布的有机材料膜中的溶剂挥发来去除该溶剂；以及更新(日文：リフレッシュ)工序，在上述干燥处理工序结束之后将上述基板从上述处理容器搬出之后，将残留在上述处理容器内的上述溶剂中包含的有机化合物分解为低分子量的化合物来从上述处理容器内排出。在本专利技术的干燥处理方法中，上述更新工序也可以包括以下步骤：将上述处理容器内从大气压减压排气至作为上述溶剂的蒸气压的第一压力；在上述处理容器内处于上述第一压力的状态下，开始向上述处理容器内照射紫外线；将上述处理容器内减压至低于上述第一压力的第二压力；以及在将上述处理容器内减压至上述第二压力的途中，结束上述紫外线的照射。而且，在本专利技术的干燥处理方法中，上述第一压力在0.001Pa～10Pa的范围内。在本专利技术的干燥处理方法中，上述更新工序也可以包括以下工序：将上述处理容器内从大气压减压排气至作为上述溶剂的蒸气压的第一压力；在上述处理容器内处于上述第一压力的状态下，开始向上述处理容器内导入氧化性气体；在将上述处理容器内的压力调整为比上述第一压力高的第三压力的状态下，开始向上述处理容器内照射紫外线；结束上述氧化性气体的导入；结束上述紫外线的照射；以及在结束上述紫外线的照射之后，将上述处理容器内减压至低于上述第一压力的第二压力。在该情况下，上述第一压力也可以在0.001Pa～10Pa的范围内，上述第三压力下的氧化性气体的分压也可以在50Pa～150Pa的范围内。在本专利技术的干燥处理方法中，上述更新工序也可以包括以下工序：将上述处理容器内从大气压减压排气至第三压力；在将上述处理容器内的压力调整为上述第三压力的状态下，开始向上述处理容器内照射紫外线；结束上述紫外线的照射；以及在结束上述紫外线的照射之后，将上述处理容器内减压至低于上述第三压力的第二压力。在该情况下，上述第三压力下的氧气分压也可以在50Pa～150Pa的范围内。在本专利技术的干燥处理方法中，上述紫外线的波长也可以在100nm以上且200nm以下的范围内。在本专利技术的干燥处理方法中，上述更新工序也可以包括以下工序：将上述处理容器内从大气压减压排气至作为上述溶剂的蒸气压的第一压力；在上述处理容器内处于上述第一压力的状态下，开始向上述处理容器内导入氧化性气体；在将上述处理容器内的压力调整为比上述第一压力高的第四压力的状态下，开始向上述处理容器的内部导入上述氧化性气体的等离子体；结束上述氧化性气体和上述等离子体的导入；以及将上述处理容器内减压至低于上述第一压力的第二压力。在该情况下，上述第一压力也可以在0.001Pa～10Pa的范围内，上述第四压力也可以在50Pa～300Pa的范围内。在本专利技术的干燥处理方法中，上述第二压力也可以为1×10-4Pa以下。在本专利技术的干燥处理方法中，上述有机材料膜也可以是在制造有机电致发光元件(OrganicElectroluminescenceDevice)的过程中通过喷墨印刷法涂布到上述基板上的。专利技术的效果根据本专利技术的干燥装置和干燥处理方法，通过具备溶剂分解单元，能够在短时间内高本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种干燥装置，去除在基板的表面涂布的有机材料膜中的溶剂后进行干燥，其特征在于，具备：能够进行抽真空的处理容器；支承构件，其在上述处理容器内支承上述基板；以及溶剂分解单元，在从上述处理容器搬出已完成干燥处理的上述基板之后，该溶剂分解单元将残留在上述处理容器内的上述溶剂中包含的有机化合物分解为低分子量的化合物。

【技术特征摘要】
2013.06.06 JP 2013-1196461.一种干燥装置，去除在基板的表面涂布的有机材料膜中的溶剂后进行干燥，其特征在于，具备：能够进行抽真空的处理容器；支承构件，其在上述处理容器内支承上述基板；以及溶剂分解单元，在从上述处理容器搬出已完成干燥处理的上述基板之后，该溶剂分解单元将残留在上述处理容器内的上述溶剂中包含的有机化合物分解为低分子量的化合物。2.根据权利要求1所述的干燥装置，其特征在于，上述溶剂分解单元具有紫外线照射装置，该紫外线照射装置向上述处理容器的内部照射紫外线。3.根据权利要求2所述的干燥装置，其特征在于，还具备溶剂捕集部，该溶剂捕集部捕集从上述有机材料膜挥发的溶剂，上述紫外线照射装置被安装于在构成上述处理容器的壁上设置的透过窗的外部，向上述溶剂捕集部照射紫外线。4.根据权利要求3所述的干燥装置，其特征在于，上述透过窗被设置于上述支承构件的下方。5.根据权利要求1所述的干燥装置，其特征在于，上述溶剂分解单元还具有氧化性气体供给装置，该氧化性气体供给装置将氧化性气体导入到上述处理容器内。6.根据权利要求5所述的干燥装置，其特征在于，还具备溶剂捕集部，该溶剂捕集部捕集从上述有机材料膜挥发的溶剂，上述氧化性气体供给装置向上述溶剂捕集部供给上述氧化性气体。7.根据权利要求1所述的干燥装置，其特征在于，上述溶剂分解单元具有等离子体供给装置，该等离子体供给装置将等离子体导入到上述处理容器内。8.根据权利要求7所述的干燥装置，其特征在于，上述等离子体供给装置具备：等离子体产生部，其产生上述等离子体；气体供给源，其向上述等离子体产生部供给气体；以及等离子体供给路径，其将由上述等离子体产生部产生的等离子体供给至上述处理容器内，其中，上述等离子体供给路径与上述处理容器的等离子体导入部相连接。9.根据权利要求8所述的干燥装置，其特征在于，还具备溶剂捕集部，该溶剂捕集部捕集从上述有机材料膜挥发的溶剂，上述等离子体导入部被设置于面对上述溶剂捕集部的位置，使得能够将上述等离子体供给至上述溶剂捕集部。10.根据权利要求3、6或者9所述的干燥装置，其特征在于，上述溶剂捕集部具有一个或多个金属板，上述一个或多个金属板具有多个贯通开口。11.根据权利要求10所述的干燥装置，其特征在于，上述溶剂捕集部还具有冷却装置，该冷却装置冷却上述金属板。12.一种干燥处理方法，具备：干燥处理工序，在干燥装置的处理容器内，使在基板的表面涂布的有机材料膜中的溶剂挥发来去除该溶剂；以及更新工序，在上述干燥处理工序结束之后将上述基板从上述处理容器搬出之后，将残留在上述处理容器内的上述溶剂中包含的有机化合物分解为低分子量的化合物来从上述处理容器内排出。13.根据权利要求12所述的干燥处理方法，其特征在于，上述更新工序包括以下步骤：将上述处理容器内从大气压减压排气至作为上述溶剂的蒸气压的第一压力；在上述处理容器内处于上述第一压力的状态下，开始向上述处理容器内照射紫外线；将上述...

【专利技术属性】
技术研发人员：及川纯史，今田雄，户原淳志，大岛澄美，岛村明典，林辉幸，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP