离子束照射装置制造方法及图纸

离子束照射装置(10)具备：真空槽(14)，其收容对基板(S)进行保持的输送托盘(T)；输送部，其在真空槽(14)内向输送方向输送输送托盘(T)；离子束照射部(21L、21U)，其向真空槽(14)内的预定的照射位置照射离子束；以及位置检测部(23A-23D)，其检测输送托盘(T)的位置。位置检测部(23A-23D)通过输送托盘(T)的输送而在预定的拍摄位置对表示输送托盘(T)上的部位的、沿输送方向排列且彼此不同的多个指标分别进行拍摄，基于所拍摄到的指标来检测出输送托盘(T)相对于拍摄位置的位置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】离子束照射装置（10)具备：真空槽（14)，其收容对基板（S)进行保持的输送托盘（T);输送部，其在真空槽（14)内向输送方向输送输送托盘(T);离子束照射部（21L、21U)，其向真空槽（14)内的预定的照射位置照射离子束；以及位置检测部（23A-23D)，其检测输送托盘（T)的位置。位置检测部（23A-23D)通过输送托盘（T)的输送而在预定的拍摄位置对表示输送托盘（T)上的部位的、沿输送方向排列且彼此不同的多个指标分别进行拍摄，基于所拍摄到的指标来检测出输送托盘（T)相对于拍摄位置的位置。【专利说明】离子束照射装置
本专利技术涉及向各种基板、例如构成大型FPD(Flat Panel Display，平板显示器）的 基板等照射离子束的离子束照射装置。
技术介绍
有机EL显示器或液晶板显示器等大型FPD经过向构成大型FPD的基板照射离子 束的处理而被制造。作为进行这样的离子束照射处理的装置，已知有例如如专利文献1所 记载的一种装置，其使用多个离子源，并且只使基板向输送方向输送,就可以多次进行离子 束的照射。根据这样的构成，与由单个的离子源进行离子束照射的构成相比，能够容易使照 射到基板上的离子束的剂量或能量等照射特性多样化。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开2011-129332号公报 可是，在如上述的离子束照射装置中，随着基板的大型化的普及，会有不少的这样 的情况：离子束对基板的照射时间超过离子源的输出被维持的时间。在这样的情况下，在正 在对基板照射离子束的中途，来自离子源的输出下降或停止，其结果，会产生这样的问题： 离子束的照射量在基板的面内产生偏差。这点，若是上述专利文献1所记载的构成的话，可 以考虑通过增加基板的输送次数、调整各个离子源的输出、或通过并用这些等的方法来弥 补照射量的不足，即使在基板面内上的照射量均匀。 另一方面,基板在如上述的装置中的输送通常是通过配置在输送路径上的输送滚 子的转动，即、使输送滚子转动的电机的转动来进行。并且，如果在离子源的输出下降时或 输出停止时离子束多次重叠照射在以这样的状态被输送的基板上，在面内的照射量均匀的 基础上，需要在每次照射时准确地检测出离子束在基板上的照射位置。但是，在上述的输送 系统中，由于保持基板的输送托盘相对于输送机构进行滑动的情况也不少，所以单从电机 的转动位置检测出基板位置的方式中，基板位置的检测结果本身产生偏差。 其结果，只要这样的基板位置的检测误差不减少，即使采取如上述的任何方法，基 板面内的照射量的偏差依然不会减少。所以，在离子束照射装置中要求更准确地检测出在 基板上的照射位置。
技术实现思路
本专利技术是鉴于这样的实情而做出的，其目的在于，提供一种能够提高离子束在基 板上的照射位置的检测精度的离子束照射装置。 以下，记载用于解决上述课题的方法及其作用效果。 根据本专利技术的第1方式为，一种离子束照射装置，具备：真空槽，其收容对基板进 行保持的输送托盘；输送部，其在所述真空槽内向输送方向输送所述输送托盘；离子束照 射部，其向所述真空槽内的预定的照射位置照射离子束；以及位置检测部，其检测所述输送 托盘的位置，其中，所述位置检测部通过所述输送托盘的输送而在预定的拍摄位置对表示 所述输送托盘上的部位并沿所述输送方向排列的彼此不同的多个指标分别进行拍摄，基于 所拍摄到的所述指标来检测出所述输送托盘相对于所述摄像位置的位置。 在本专利技术的第1方式中，通过对表示在输送托盘上的各个部位的多个指标分别进 行拍摄，从而检测出输送托盘相对于拍摄位置的位置。这时，拍摄指标的拍摄位置和离子束 照射的照射位置的相对关系在输送托盘被输送的期间也被维持在预定的关系。因此，在每 次由位置检测部检测出输送托盘上的指标时，检测出输送托盘相对于拍摄位置的位置、即 输送托盘相对于照射位置的位置。并且，与从输送输送托盘的输送机构的驱动量等检测出 输送托盘的位置的方式相比，可以直接检测出输送托盘相对于照射位置输送托盘的位置。 其结果，即使在输送输送托盘的输送机构和输送托盘上产生偏差的情况下，也能抑制因为 这样的偏差而产生检测位置的误差。进而，能够提高被保持在输送托盘上的照射位置的检 测精度。 在本专利技术的第2方式中，所述离子束照射部具备：输出检测部，其检测离子束的输 出；取得部，其以预定的周期取得所述位置检测部的检测结果和所述输出检测部的检测结 果；以及存储部，其将所述位置检测部的检测结果和所述输出检测部的检测结果以彼此关 联的方式存储，所述位置检测的检测结果和所述输出检测部的检测结果是所述取得部取得 的检测结果。 根据本专利技术的第2方式，由于位置检测部的检测结果和输出检测部的检测结果以 彼此对应的方式存储，所以可以从被存储在存储部中的信息掌握以所需输出照射离子束的 基板的部位。换句话来讲，可以掌握以所需输出以外的输出照射离子束的基板的部位、或没 有照射离子束的基板的部位。因此，可以以高精度对离子束照射不足的基板的部位进行用 于弥补照射不足的进一步的照射处理。 在本专利技术的第3方式中，所述输出检测部检测离子束的输出停止。 根据本f明的第3方式，可以掌握基板上的照射位置中的、成为输出停止的位置。 因此，即使对于离子束变成输出停止的位置也能提高检测精度，进而可以以高精度对离子 束没有照射的基板的部位再次进行照射处理。 在本专利技术的第4方式中，所述输送部在输送处理的开始位置和该输送处理的结束 位置之间输送所述输送托盘，所述输送部具备控制部，该控制部控制所述输送部的输送，所 述存储部将所述位置检测部的检测结果中的、与所述输出停止进行关联的检测结果作为停 止位置而存储，在所述输出检测部检测出输出停止时，所述控制部以使所述输送托盘在所 述开始位置和所述结束位置之间进行往返的方式驱动所述输送部，所述离子束照射部基于 所述停止位置和所述位置检测部的检测结果，而向所述基板上的离子束未照射部位照射离 子束。 如上所述，随着为离子束的照射对象的基板的大型化，会有不少这样的情况，即基 板在横穿离子束的照射位置的途中，会产生离子束的输出停止。 这点，在本专利技术的第4方式中，在检测出离子束的输出停止时，这时的输送托盘相 对于拍摄位置的位置作为与输出停止进行关联的停止位置而被存储在存储部中。并且，在 输送托盘相对于拍摄位置的位置处于停止位置和结束位置之间时，再度输出离子束。因此， 对于离子束没有照射的部位，以较高的位置精度再次进行离子束的照射。 在本专利技术的第5方式中，在所述输出检测部检测出输出停止时，所述控制部向所 述输送方向输送所述输送托盘直到所述输送托盘相对于所述拍摄位置的位置处于离子束 没有照射在所述基板上的非照射位置后，从所述非照射位置向所述输送方向的反方向输送 所述输送托盘，所述离子束照射部在所述输送托盘相对于所述拍摄位置的位置到达所述非 照射位置时再次开始离子束的照射，并在所述输送托盘相对于所述拍摄位置的位置到达所 述停止位置时停止所述离子束的照射。 在离子束照射部中，通常，使离子束的输出到达所需的设定值的为止所需的时间 比企图停止离子束的输出所需的时间长。 这点，在本发本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种离子束照射装置，具备：真空槽，其收容对基板进行保持的输送托盘；输送部，其在所述真空槽内向输送方向输送所述输送托盘；离子束照射部，其向所述真空槽内的预定的照射位置照射离子束；以及位置检测部，其检测所述输送托盘的位置，其特征在于，所述位置检测部通过所述输送托盘的输送而在预定的拍摄位置对表示所述输送托盘上的部位的、沿所述输送方向排列且彼此不同的多个指标分别进行拍摄，基于所拍摄到的所述指标来检测出所述输送托盘相对于所述摄像位置的位置。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：山本良明，金永杜，带施兴司德，冈山智彦，
申请(专利权)人：日新离子机器株式会社，株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：日本;JP