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离子束照射装置(10)具备:真空槽(14),其收容对基板(S)进行保持的输送托盘(T);输送部,其在真空槽(14)内向输送方向输送输送托盘(T);离子束照射部(21L、21U),其向真空槽(14)内的预定的照射位置照射离子束;以及位置检测部...该专利属于日新离子机器株式会社;株式会社爱发科所有,仅供学习研究参考,未经过日新离子机器株式会社;株式会社爱发科授权不得商用。
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