聚合物、含有该聚合物的组合物、和单层涂布型水平取向膜制造技术

技术编号:10657897 阅读:167 留言:0更新日期:2014-11-19 18:12
本发明专利技术提供一种聚合物,其特征在于,含有下述式[1a]、[1b]和[1c]表示的重复单元。通过上述聚合物,能够以简单的工艺制作单层涂布型水平取向膜。[式中,X和Y各自独立地为下述式[2]或[3]表示的基团,M1和M2分别为下述式[4]和[5]表示的基团,A为碳数2~15的直链或支链状烷基,m、n和p分别为满足0<m<1、0<n<1、0≤p≤0.5、且m+n+p≤1的数,q和r各自独立地为2~9的整数。]

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供一种聚合物,其特征在于,含有下述式、和表示的重复单元。通过上述聚合物,能够以简单的工艺制作单层涂布型水平取向膜。或表示的基团,M1和M2分别为下述式和表示的基团,A为碳数2~15的直链或支链状烷基,m、n和p分别为满足0<m<1、0<n<1、0≤p≤0.5、且m+n+p≤1的数,q和r各自独立地为2~9的整数。]【专利说明】聚合物、含有该聚合物的组合物、和单层涂布型水平取向膜
本专利技术涉及聚合物、含有该聚合物的组合物、以及单层涂布型水平取向膜。具体 地,涉及可优选利用于具有适于显示装置或记录材料等用途的光学特性的材料、特别是液 晶显示器用的偏光板和相位差板等光学补偿膜的液晶性聚合物、含有该聚合物的组合物、 以及由该组合物得到的单层涂布型水平取向膜。
技术介绍
出于提高液晶显示装置的显示品位和轻量化等的要求,作为偏光板或相位差板等 的光学补偿膜,对控制了内部的分子取向结构的高分子膜的要求日益增高。为了应对该要 求,开发了利用聚合性液晶化合物所具有的光学各向异性的膜。 在此使用的聚合性液晶化合物一般是具有聚合性基团团和液晶结构部位(具有 间隔部和介晶部的结构部位)的液晶化合物,作为该聚合性基团团广泛使用丙烯酸基。 这种聚合性液晶化合物一般是通过照射紫外线等放射线进行聚合的方法来制成 聚合物(膜)。 例如,已知将具有丙烯酸基的特定聚合性液晶化合物负载于支撑体之间,一边将 该化合物保持在液晶状态、一边照射放射线获得聚合物的方法(专利文献1);以及,在具有 丙烯酸基的2种聚合性液晶化合物的混合物中或在该混合物中混合有手性液晶的组合物 中添加光聚合引发剂,照射紫外线获得聚合物的方法(专利文献2)。 另外,有文献报道,不需液晶取向膜而使用聚合性液晶化合物或聚合物的取向膜 (专利文献3、4)、或使用含有光交联部位的聚合物的取向膜(专利文献5、6)等各种单层涂 布型取向膜。但是,上述膜制作工艺存在聚合物的溶解性低、作为所使用的聚合物的溶剂必 须使用NMP、氯仿、氯苯等溶解力优异的溶剂等问题,目前并未发现可解决这种问题的材料。 现有技术文献 专利文献 专利文献1 :日本特开昭62-70407号公报 专利文献2 :日本特开平9-208957号公报 专利文献3 :欧洲专利申请公开第1090325号说明书 专利文献4 :国际公开第2008/031243号 专利文献5 :日本特开2008-164925号公报 专利文献6 :日本特开平11-189665号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题 本专利技术正式鉴于上述课题而完成的,其目的在于,提供一种通过简单的工艺即可 制作出单层涂布型水平取向膜的新的聚合物、含有该聚合物的组合物、以及由该组合物得 到的单层涂布型水平取向膜。 解决课题的手段 本专利技术人等为了解决上述课题而反复深入研究,结果发现,通过使用主链含有 丁内酯骨架,且在由内酯环的Y位起延伸的侧链上具有肉桂酸酯结构的聚合物,可能 是由于在偏光紫外线曝光后形成了稳定的网状结构,因此,可以在不使用液晶取向膜的情 况下得到具有高折射率各向异性(△!!)的水平取向膜,进而,通过在该聚合物中导入烷基 链,可在低温条件下制作对有机溶剂的溶解性提高,且具有更高的Λη的水平取向膜,至此 完成了本专利技术。 即,本专利技术提供: 1、一种聚合物,其特征在于,含有下述式、和表示的重复单元, 【权利要求】1. 聚合物,其特征在于,含有下述式、和表示的重复单元,式中,X和Y各自独立地为下述式或表示的基团,式中,R1为氢原子或甲基,虚线为键, M1为下述式表示的基团,M2为下述式表示的基团,式和中,si、s2、s3和s4各自独立地为1或2, G1和G2各自独立地为单 键、-C00-或-OCO-,R2和R3各自独立地为氢原子、卤原子、氰基、碳数1?10的烷基、或碳 数1?10的烷氧基,虚线为键, A为碳数2?15的直链或支链状烷基, m、η 和 p 分别为满足 0〈m〈l、0〈n〈l、0 < p < 0· 5、且 m+n+p < 1 的数, q和r各自独立地为2?9的整数。2. 权利要求1所述的聚合物,其中,上述X和Y为上述式表示的基团。3. 权利要求1或2所述的聚合物,其中,上述m、η和p分别为满足0.2 0.9、 0· 1彡η彡0· 8、0彡p彡0· 4的数。4. 权利要求3所述的聚合物,其中,上述m、η和ρ分别为满足0. 2 < m < 0. 8、 0· Κ η < 0· 5、0· K p < 0· 3 的数。5. 组合物,含有权利要求1?4任一项所述的聚合物和有机溶剂。6. 单层涂布型水平取向膜,其是通过将权利要求5所述的组合物涂布在基板上,然后 照射偏光使其固化而得到的。7. 权利要求6所述的单层涂布型水平取向膜,其中,上述偏光为直线偏光紫外线。8. 光学部件,其具备权利要求6或7所述的单层涂布型水平取向膜。9. 聚合性化合物,其特征在于,由下述式表示,式中,s3和s4各自独立地为1或2,G2为单键、-C00-或-〇C〇-,R3为氢原子、卤原 子、氰基、碳数1?10的烷基、或碳数1?10的烷氧基。【文档编号】C07D307/58GK104159938SQ201380013090 【公开日】2014年11月19日 申请日期:2013年2月26日 优先权日:2012年3月9日【专利技术者】丹尼尔·安东尼奥·樱叶汀, 汤川升志郎 申请人:日产化学工业株式会社本文档来自技高网
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【技术保护点】
聚合物,其特征在于,含有下述式[1a]、[1b]和[1c]表示的重复单元,式中,X和Y各自独立地为下述式[2]或[3]表示的基团,式[3]中,R1为氢原子或甲基,虚线为键,M1为下述式[4]表示的基团,M2为下述式[5]表示的基团,式[4]和[5]中,s1、s2、s3和s4各自独立地为1或2,G1和G2各自独立地为单键、‑COO‑或‑OCO‑,R2和R3各自独立地为氢原子、卤原子、氰基、碳数1~10的烷基、或碳数1~10的烷氧基,虚线为键,A为碳数2~15的直链或支链状烷基,m、n和p分别为满足0<m<1、0<n<1、0≤p≤0.5、且m+n+p≤1的数,q和r各自独立地为2~9的整数。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:丹尼尔·安东尼奥·樱叶汀汤川升志郎
申请(专利权)人:日产化学工业株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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