本实用新型专利技术提供一种液刀装置及蚀刻设备，所述液刀装置包括：液刀本体，所述液刀本体设有用于在第一状态时通入蚀刻药液以喷淋蚀刻药液，在第二状态时通清洗液以喷淋清洗液进行清洗的喷淋管；及，与所述液刀本体连接的旋转机构，用于旋转所述液刀本体，以使在所述第一状态时所述喷淋管以第一喷淋角度喷淋蚀刻药液，在所述第二状态时所述喷淋管以第二喷淋角度喷淋清洗液。本实用新型专利技术所提供的液刀装置，可以利用清洗液对液刀内的喷淋管进行清洗，改善液刀堵塞的状况，减少蚀刻不均，改善产品品质。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术提供一种液刀装置及蚀刻设备，所述液刀装置包括：液刀本体，所述液刀本体设有用于在第一状态时通入蚀刻药液以喷淋蚀刻药液，在第二状态时通清洗液以喷淋清洗液进行清洗的喷淋管；及，与所述液刀本体连接的旋转机构，用于旋转所述液刀本体，以使在所述第一状态时所述喷淋管以第一喷淋角度喷淋蚀刻药液，在所述第二状态时所述喷淋管以第二喷淋角度喷淋清洗液。本技术所提供的液刀装置，可以利用清洗液对液刀内的喷淋管进行清洗，改善液刀堵塞的状况，减少蚀刻不均，改善产品品质。【专利说明】液刀装置及蚀刻设备
本技术涉及蚀刻
，尤其涉及一种液刀装置及蚀刻设备。
技术介绍
在 TFT-LCD (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜场效应晶体 管-液晶显示器）、LTPS (Low Temperature Poly-silicon,低温多晶娃技术）和Oxide (氧 化物）等制程工艺中，ΙΤ0(锡铟氧化物）蚀刻工艺是其中重要一环。蚀刻工艺是利用化学 药品对基板表面的金属进行腐蚀，从而达到去掉部分金属的目的。 ΙΤ0蚀刻工艺通常采用湿蚀刻设备进行，湿蚀刻设备主要包括：蚀刻槽，用于使蚀 刻药液附着于基板而进行蚀刻处理；设置于蚀刻槽的入口的液刀，液刀内设置有喷淋管，所 述喷淋管内通入蚀刻药液如草酸（H 2C204)，以向蚀刻槽内的基板的上表面喷洒蚀刻药液。 在湿蚀刻设备闲置时，残留在液刀的喷淋管内的蚀刻药液（草酸因子）容易结晶， 堵塞液刀，液刀喷出的水幕就会产生很明显的分叉，从而导致基板在进入蚀刻槽时液刀喷 淋不均，继而影响蚀刻均一性，对产品性能产生很大影响。目前国内的湿蚀刻设备，特别是 高世代线，由于长度增加，对药液的均一性要求更高，液刀堵塞的情况发生不断，目前解决 液刀刀口喷淋出现分叉现象的方法是：作业人员手持刀片将刀口的堵塞杂质刮出掉，这样 人工清理液刀影响产品品质、降低产能。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种液刀装置及蚀刻设备，能够减少液刀堵塞现象发 生，提升蚀刻均一性，减少因手动调整液刀分叉导致的产能减少。 本技术所提供的技术方案如下： -种液刀装置，包括： 液刀本体，所述液刀本体设有用于在第一状态时通入蚀刻药液以喷淋蚀刻药液， 在第二状态时通清洗液以喷淋清洗液进行清洗的喷淋管；及， 与所述液刀本体连接的旋转机构，用于旋转所述液刀本体，以使在所述第一状态 时所述喷淋管以第一喷淋角度喷淋蚀刻药液，在所述第二状态时所述喷淋管以第二喷淋角 度喷淋清洗液。 进一步的，所述旋转机构包括： 能够带动所述液刀本体旋转的旋转轴，至少设置于所述液刀本体的一端； 及，用于驱动所述旋转轴旋转的驱动装置。 进一步的，所述驱动装置包括： 与所述旋转轴传动连接的驱动电机； 和/或，与所述旋转轴传动连接的旋转手柄。 进一步的，所述液刀装置还包括：用于控制所述液刀本体的旋转角度的旋转角度 控制机构。 进一步的，所述旋转角度控制机构包括：用于测量所述液刀本体的旋转角度的角 度测量装置；所述角度测量装置包括： 基座，所述液刀本体在所述旋转机构带动下相对所述基座旋转； 设置于所述基座上的角度量尺； 及，设置于所述液刀本体上的标记，所述标记用于在所述液刀本体旋转时，通过获 取所述标记与所述角度量尺的位置关系，确定所述液刀本体的旋转角度。 进一步的，所述标记包括：设置于所述液刀本体上，并延伸至所述角度量尺上的指 针；或者，设置于所述液刀本体的外表面上的标记线。 进一步的，所述旋转角度控制机构还包括： 用于获取所述角度测量装置的测量结果的获取装置； 及，用于根据所述角度测量装置的测量结果，控制所述旋转机构的工作状态的控 制装置。 进一步的，所述液刀装置还包括： 用于为所述喷淋管提供蚀刻药液的第一液体储存装置； 及，用于为所述喷淋管提供清洗液的第二液体储存装置； 其中，所述喷淋管的进液口分别与所述第一液体储存装置及所述第二液体储存装 置连通，且所述第一液体储存装置与所述喷淋管的进液口之间设置第一阀门，所述第二液 体储存装置与所述喷淋管的进液口之间设置第二阀门。 进一步的，所述第一液体储存装置包括：设置于所述液刀本体下方、用于接收所述 液刀本体喷淋的蚀刻药液并使蚀刻药液附着于基板进行蚀刻处理的蚀刻槽； 所述第二液体储存装置包括：位于所述蚀刻槽的一侧、用于接收所述液刀本体喷 淋的清洗液的清洗液回收槽。 一种蚀刻设备，包括如上所述的液刀装置。 本技术的有益效果如下： 本技术所提供的液刀装置，在进行蚀刻工艺（即第一状态）时，其喷淋管内可 以通入蚀刻药液，并在旋转机构控制下以第一喷淋角度向蚀刻槽内的基板上表面喷淋蚀刻 药液，而在无需进行蚀刻工艺（即第二状态）时，其喷淋管内可以通入清洗液，并在旋转机 构控制下以第二喷淋角度向蚀刻槽外喷淋清洗液，以对喷淋管进行清洗，从而在液刀闲置 时利用清洗液对液刀内的喷淋管进行清洗，改善液刀堵塞的状况，减少蚀刻不均，改善产品 品质。 【专利附图】【附图说明】 图1为本技术所提供的液刀装置在第一状态时的结构示意图； 图2为本技术中所提供的液刀装置在第二状态时的结构示意图。 【具体实施方式】 以下结合附图对本技术的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本实用 新型，并非用于限定本技术的范围。 针对现有技术中蚀刻设备的液刀会由于蚀刻药液结晶导致液刀堵塞，进而影响蚀 刻均一性的问题，本技术提供了一种液刀装置及蚀刻设备，能够减少液刀堵塞现象发 生，提升蚀刻均一性。 如图1和图2所示，本技术所提供的液刀装置包括： 液刀本体100,所述液刀本体100设有用于在第一状态时通入蚀刻药液以喷淋蚀 刻药液，在第二状态时通入清洗液以喷淋清洗液进行清洗的喷淋管200 ; 及，与所述液刀本体100连接的旋转机构300,用于旋转所述液刀本体100,以使在 所述第一状态时所述喷淋管200以第一喷淋角度喷淋蚀刻药液，在所述第二状态时所述喷 淋管200以第二喷淋角度喷淋清洗液。 上述方案中，液刀装置在对基板进行蚀刻（即第一状态）时，其喷淋管200内可以 通入蚀刻药液，并在旋转机构300控制下以第一喷淋角度（即喷淋出的蚀刻药液形成的水 幕与水平面之间的第一夹角，可以在42°左右）向蚀刻槽内的基板上表面喷淋蚀刻药液； 而在无需进行蚀刻工艺（即第二状态）时，其喷淋管200内可以通入清洗液，并在 旋转机构300控制下以第二喷淋角度（即喷淋出的清洗液形成的水幕与水平面之间的第二 夹角，可以在80°?90°之间）向蚀刻槽外喷淋清洗液，以对喷淋管200进行清洗，从而在 液刀闲置时利用清洗液对液刀内的喷淋管200进行清洗，改善液刀堵塞的状况，减少蚀刻 不均，改善产品品质。 并且，上述方案中，由于旋转机构300可以旋转液刀本体100,使得液刀本体100的 喷淋管200以不同于第一喷淋角度的第二喷淋角度喷淋清洗液，从而使得喷淋出的清洗液 与蚀刻药液分离，而不会进入到蚀刻槽内本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种液刀装置，其特征在于，包括：液刀本体，所述液刀本体设有用于在第一状态时通入蚀刻药液以喷淋蚀刻药液，在第二状态时通入清洗液以喷淋清洗液进行清洗的喷淋管；及，与所述液刀本体连接的旋转机构，用于旋转所述液刀本体，以使在所述第一状态时所述喷淋管以第一喷淋角度喷淋蚀刻药液，在所述第二状态时所述喷淋管以第二喷淋角度喷淋清洗液。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：周斌，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34
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