本发明专利技术涉及一种晶体位置调节装置，晶体位置调节装置包括：第一晶体晶架，搭设第一晶体；第二晶体晶架，搭设第二晶体；第二晶体调节装置，与第二晶体晶架相连接；第二晶体调节装置包括：十字滑动台，随转角仪同轴旋转；投角固定支撑架，与十字滑台相固定；投角调节支撑架，通过投角微调电机调节投角调节支撑架相对投角固定支撑架的投角；滚角调节支撑架，与第二晶体晶架相固定，滚角调节支撑架的一端和投角调节支撑架的一端通过滚角微调电机相连接，通过滚角微调电机调节滚角调节支撑架相对投角调节支撑架的滚角，使得第一晶体和第二晶体平行。本发明专利技术晶体位置调节装置实现了方便快捷的对晶体位置进行微调。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及一种晶体位置调节装置，晶体位置调节装置包括：第一晶体晶架，搭设第一晶体；第二晶体晶架，搭设第二晶体；第二晶体调节装置，与第二晶体晶架相连接；第二晶体调节装置包括：十字滑动台，随转角仪同轴旋转；投角固定支撑架，与十字滑台相固定；投角调节支撑架，通过投角微调电机调节投角调节支撑架相对投角固定支撑架的投角；滚角调节支撑架，与第二晶体晶架相固定，滚角调节支撑架的一端和投角调节支撑架的一端通过滚角微调电机相连接，通过滚角微调电机调节滚角调节支撑架相对投角调节支撑架的滚角，使得第一晶体和第二晶体平行。本专利技术晶体位置调节装置实现了方便快捷的对晶体位置进行微调。【专利说明】晶体位置调节装置
本专利技术涉及一种晶体位置调节装置，尤其涉及一种可以对晶体位置进行微调的装 置。
技术介绍
双晶体单色仪是X射线光束线上的关键设备，它通过布拉格衍射实现X射线的单 色化，它用晶体作为色散元件，衍射，分离具有能量连续可调的单色光，目前国内可以分出 来的单色光能量为72. 5keV，国外可以分出的单色光能量为140keV。应用布拉格衍射公式： 2dsin0 =ηλ，其中d为晶面间距，Θ为布拉格角度，n为衍射级数，λ为分出来的单色光 波长。对于给定的晶体来说，一般取η为1，d是固定值，即通过改变布拉格角度可以改变单 色光能量。为实现宽能量范围的单色光，只需让可以实现的布拉格角度范围越大即可。为 实现这个目的，可以加长第二块晶体的长度，但这样做的缺点是需要生产加工大块晶体，费 用高，同时可调的布拉格角度受两块晶体间距限制，调节范围很有限。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对现有技术的缺陷，提供一种晶体位置调节装置，可以方便快 捷的对晶体位置进行微调和扩展。 为实现上述目的，本专利技术提供了一种晶体位置调节装置，所述晶体位置调节装置 包括： 第一晶体晶架，搭设第一晶体； 第二晶体晶架，搭设第二晶体； 第二晶体调节装置，与所述第二晶体晶架相连接，所述第二晶体调节装置和第一 晶体晶架与外部转角仪同轴旋转；所述第二晶体调节装置包括： 十字滑台，随所述转角仪同轴旋转； 投角固定支撑架，与所述十字滑台相连接，相对所述十字滑台沿水平方向和坚直 方向平动； 投角调节支撑架，所述投角调节支撑架的一端和所述投角固定支撑架的一端通过 投角微调电机相连接，通过投角微调电机调节所述投角调节支撑架相对投角固定支撑架的 投角； 滚角调节支撑架，与所述第二晶体晶架相固定，所述滚角调节支撑架的一端和所 述投角调节支撑架的一端通过滚角微调电机相连接，通过滚角微调电机调节所述滚角调节 支撑架相对投角调节支撑架的滚角，使得所述第一晶体和第二晶体平行。 本专利技术晶体位置调节装置实现了方便快捷的对晶体位置进行微调。 【专利附图】【附图说明】 图1为本专利技术晶体位置调节装置的主视图； 图2为本专利技术晶体位置调节装置的侧视图； 图3为本专利技术晶体位置调节装置的另一侧视图； 图4A为本专利技术晶体位置调节装置的晶体光路图之一； 图4B为本专利技术晶体位置调节装置的晶体光路图之二。 【具体实施方式】 下面通过附图和实施例，对本专利技术的技术方案做进一步的详细描述。 图1和图2为本专利技术晶体位置调节装置的主视图和侧视图，如图所不，本专利技术晶体 位置调节装置具体包括：第一晶体晶架1、第二晶体晶架2、第二晶体调节装置3。 具体的，第一晶体架1上搭设有第一晶体10,第一晶体10是打磨好的片状晶体，具 体可以是Silll。 第二晶体晶架2上搭设有第二晶体20,第一晶体20是打磨好的片状晶体，具体可 以是Si 111，与第一晶体相同。 第二晶体调节装置3与第二晶体晶架2相连接，第二晶体调节装置3和第一晶体 晶架1与外部转角仪9同轴旋转。 第二晶体调节装置3包括：十字滑台30、投角固定支撑架31、投角调节支撑架32 和滚角调节支撑架33。 十字滑台30随所述转角仪9同轴旋转；投角固定支撑架31与十字滑台30相固定， 相对所述十字滑台沿水平方向和坚直方向平动；投角调节支撑架32,投角调节支撑架32的 一端和投角固定支撑架31的一端通过投角微调电机41相连接，通过投角微调电机41调节 投角调节支撑架32相对投角固定支撑架31的投角；滚角调节支撑架33与第二晶体晶架2 相固定，滚角调节支撑架33的一端和投角调节支撑架32的一端通过滚角微调电机41相连 接，通过滚角微调电机41调节滚角调节支撑架33相对投角调节支撑架32的滚角，使得第 一晶体1〇和第二晶体20平行。 进一步的，第二晶体调节装置3是用来调节第二晶体20的高度和角度的，与第二 晶体晶架2相连接，第二晶体调节装置3和第一晶体晶架1与外部转角仪9同轴旋转，这样 的目的是为了保持第一晶体晶架1上的第一晶体10和第二晶体架2上的第二晶体20的晶 面平行。 十字滑台30的作用是控制第二晶体20相对于第一晶体10沿水平方向和坚直方 向平动，投角固定支撑架31可以在十字滑台30的控制下，沿水平方向平动，如图2所示，十 字滑台30与投角固定支撑架31的水平位置的左端靠近，而如图3所示，十字滑台30与投 角固定支撑架31的水平位置的右端靠近，这样就实现了第一晶体10和第二晶体架2上的 第二晶体20的水平方向相对位置的调节。另外，同样的，投角固定支撑架31可以在十字滑 台30的控制下，沿垂直于水平方向的坚直方向平动，这样可以实现第一晶体10和第二晶体 架2上的第二晶体20的垂直方向相对位置的调节。 另外，再如图所示，投角调节支撑架32的另一端和投角固定支撑架31的另一端通 过投角柔性铰链组51相铰接，投角微调电机41调节时，投角调节支撑架32相对投角固定 支撑架31绕投角柔性铰链组51转动而改变第二晶体20的投角。 滚角调节支撑架33的另一端和投角调节支撑架32的另一端通过滚角柔性铰链组 52相铰接，滚角微调电机42调节时，滚角调节支撑架33相对投角调节支撑32架绕滚角柔 性铰链组52转动而改变第二晶体的滚角。 图4A和图4B为本专利技术晶体位置调节装置的晶体光路图。图中箭头的线为光线， 对于不同的入射光具有不同的布拉格角，图4A中的布拉格角为3. 1度，图4B中的布拉格角 为7. 1度。 当改变布拉格角度时，第一晶体随转角仪主轴选转到某给定的布拉格角时，第二 晶体也绕转角仪主轴旋转相同的角度，并且，第二晶体组件还会沿水平方向及高度方向发 生一定的位移，从而使光束出口高度保持不变，只要第一晶体和第二晶体之间满足一定几 何尺寸关系，在允许的布拉格角度范围内，出口光束将保持固定高度。 例如，对Si220双晶体来说，第二晶体的长度为5cm，两块晶体间距为1cm，两块晶 体中心距离为4. 12cm。至此，第一晶体和第二晶体相关尺寸和相对位置已经确定，若采用第 二晶体固定的方式，可以通过几何关系确定布拉格角度范围是9° 一34°，对应的能量范 围为5. 8keV - 20. 6keV。若用本专利技术提供的方案，即让第二块晶体位置可调，可以相对第一 块晶体间距可调和等价延长，这样大大增加了晶体角度调节范围，单让第二晶体相对第一 晶体本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种晶体位置调节装置，其特征在于，所述晶体位置调节装置包括：第一晶体晶架，搭设第一晶体；第二晶体晶架，搭设第二晶体；第二晶体调节装置，与所述第二晶体晶架相连接，所述第二晶体调节装置和第一晶体晶架与外部转角仪同轴旋转；所述第二晶体调节装置包括：十字滑台，随所述转角仪同轴旋转；投角固定支撑架，与所述十字滑台相连接，相对所述十字滑台沿水平方向和竖直方向平动；投角调节支撑架，所述投角调节支撑架的一端和所述投角固定支撑架的一端通过投角微调电机相连接，通过投角微调电机调节所述投角调节支撑架相对投角固定支撑架的投角；滚角调节支撑架，与所述第二晶体晶架相固定，所述滚角调节支撑架的一端和所述投角调节支撑架的一端通过滚角微调电机相连接，通过滚角微调电机调节所述滚角调节支撑架相对投角调节支撑架的滚角，使得所述第一晶体和第二晶体平行。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴金杰，周旭，
申请(专利权)人：中国计量科学研究院，
类型：发明
国别省市：北京;11
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