【技术实现步骤摘要】
—种制作太阳能电池片时用于硅片沉积的载板
本技术涉及到太阳能电池片制造的
,特别涉及到一种制作太阳能电池片时用于硅片沉积的载板。
技术介绍
异质结太阳能电池片结合了非晶硅和单晶硅的特性,具有低温制备工艺,转换效率高,高温特性优异等特点。异质结太阳能电池的结构特征是以光照射侧的P-型非晶硅和背面侧的N-型非晶硅夹住N型单晶硅片,在两侧的顶层形成透明的电极,具有对称性。当单晶硅为P型时,其光照射侧为N-型非晶硅。利用掺杂薄膜硅层在晶硅衬底上制作异质PN结,高质量薄膜非晶硅使单晶硅表面得到很好的钝化,进而得到较高的开路电压。当非晶硅薄膜在硅片正反两边依次形成之后,下一步是通过PVD溅射的方法在正反两边依次沉积一层透明的导电氧化物层。导电透明氧化物层一般是用透过率高,导电性好的ITO材料,或其他元素掺杂的氧化铟。正反两边沉积完导电氧化物后,当用电镀法在导电氧化物表面制作金属栅线时,首先要在导电氧化物表面同样用PVD溅射的方法沉积金属叠层,金属叠层包括一层阻挡层与一层种子层。阻挡层一般可用Ti系列金属或Ta系列金属以防止铜在导电氧化物中的扩散,种子层为铜种子层。金属叠层可以解决电镀铜与导电氧化物的粘合力问题。但在采用PVD溅射法沉积导电氧化物层、阻挡层、种子层时,容易绕镀到硅片边缘引起电池片的短路。因此,如何在硅片上沉积导电氧化物层、阻挡层、种子层时实现导电氧化物 层、阻挡层、种子层在硅片边缘的隔离,避免因绕镀引起的短路,是在制作高效能太阳能电池片时必须要解决的一个问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种制作太阳能电池片时用于硅片沉积的载板,由底板和 ...
【技术保护点】
一种制作太阳能电池片时用于硅片沉积的载板,其特征在于,所述载板由底板和盖板组合;所述底板为带有边框的凹槽托板;所述凹槽托板用于承载硅片;所述盖板与底板相配,为带有中间镂空槽的定位框;所述凹槽托板承载的硅片边缘部分在盖板和底板组合后被定位框遮掩。
【技术特征摘要】
1.一种制作太阳能电池片时用于硅片沉积的载板,其特征在于,所述载板由底板和盖板组合;所述底板为带有边框的凹槽托板;所述凹槽托板用于承载硅片;所述盖板与底板相配,为带有中间镂空槽的定位框;所述凹槽托板承载的硅片边缘部分在盖板和底板组合后被定位框遮掩。2.根据权利要求1所述的一种制作太阳能电池片时用于硅片沉积的载板,其特征在于,所述底板边...
【专利技术属性】
技术研发人员:林朝晖,王树林,乔学明,于莉莉,
申请(专利权)人:泉州市博泰半导体科技有限公司,
类型:新型
国别省市:福建;35
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。