【技术实现步骤摘要】
成膜装置和载体
本技术涉及成膜装置和载体。
技术介绍
硬盘装置等中使用的磁性记录介质例如具有晶种膜、基膜、磁性记录膜、保护膜和润滑剂膜依次形成于非磁性基板的一个或两个表面的结构，且通常，这种磁性记录介质通过在输送保持基板的载体的同时执行成膜工序的连续式成膜装置制造(例如，专利文献I和专利文献2)。专利文献I披露的连续式成膜装置具有执行成膜工序的多个室通过闸阀连接的结构。在每个室中，围绕水平轴线转动的多个转动体被成排地设置于载体的输送方向上，且载体由多个转动体引导。此外，在每个室中，围绕铅直轴转动的多个转动体被成排地设置于载体的输送方向上，且载体也由多个转动体弓I导。另一方面，载体包括多个保持件，每个保持件设置有用于将基板配置于其内部的孔部以及可弹性变形且围绕孔部安装的多个夹子。保持件可拆装地保持安装于夹子内部的基板。同样，在专利文献2披露的连续式的成膜装置中，提供了进行成膜工序的多个室通过门连接的结构。同样在该成膜装置中，在输送保持基板的载体的同时进行成膜工序。在成膜装置中，在通过利用磁力等将载体的侧表面压抵轨道的侧表面的同时输送载体。因此，在抑制载体的振...
【技术保护点】
一种成膜装置，其特征在于，所述成膜装置包括：引导机构，所述引导机构在载体保持基板的情况下引导被沿着输送路径输送的载体，在所述基板上进行成膜处理，其中，所述引导机构包括：第一支撑面，所述第一支撑面被配置于所述输送路径的一侧方，并且从下方支撑在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分；以及第二支撑面，所述第二支撑面被配置于隔着所述输送路径与所述第一支撑面相对的对向侧，并且从下方支撑在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分，其中，所述第一支撑面朝向所述第二支撑面所在侧下降地倾斜设置，并且所述第二支撑面朝向所述第一支撑面所在侧下降地倾斜设置。
【技术特征摘要】
2013.12.27 JP 2013-2735611.一种成膜装置，其特征在于，所述成膜装置包括: 引导机构，所述引导机构在载体保持基板的情况下引导被沿着输送路径输送的载体，在所述基板上进行成膜处理，其中， 所述引导机构包括: 第一支撑面，所述第一支撑面被配置于所述输送路径的一侧方，并且从下方支撑在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分；以及 第二支撑面，所述第二支撑面被配置于隔着所述输送路径与所述第一支撑面相对的对向侧，并且从下方支撑在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分，其中， 所述第一支撑面朝向所述第二支撑面所在侧下降地倾斜设置，并且所述第二支撑面朝向所述第一支撑面所在侧下降地倾斜设置。2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于， 所述第一支撑面被配置于所述输送路径的所述一侧方，并且沿着所述输送路径配置以从下方支撑并引导在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分，并且 所述第二支撑面被配置于所述输送路径的另一侧方，并且沿着所述输送路径配置以从下方支撑并引导在所述输送路径上被输送的所述载体的一部分。3.根据权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，所述载体的待由所述第一支撑面支撑的一部分以及所述载体的待由所述第二支撑面支撑的一部分均设置有转动构件。4.根据权利要求3所述的成膜装置，其特征在于， 所述载体的待由所述第一支撑面支撑的部分设置有第一转动构件，所述载体的待由所述第二支撑面支撑的部分设置有第二转动构件，所述第一转动构件围绕具有一端和另一端的转动轴转动，所述第二转动构件围绕具有一端和另一端的转动轴转动， 所述第一转动构件被配置成使得，其转动轴的所述一端被定位于所述输送路径所在侧且其转动轴的所述另一端被定位于所述一侧方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述转动轴相对于水平方向倾斜，并且 所述第二转动构件被配置成使得，其转动轴的所述一端被定位于所述输送路径所在侧且其转动轴的所述另一端被定位于所述另一侧方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述转动轴相对于水平方向倾斜。5.根据权利要求4所述的成膜装置，其特...
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