【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射镀膜用的输气管道结构
本技术涉及一种磁控溅射镀膜领域，具体涉及一种磁控溅射镀膜用的输气管道结构。
技术介绍
目前，磁控溅射镀膜是一种常用技术，磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，即为磁控溅射镀膜。磁控镀膜机是磁控溅射镀膜技术中的重要设备，为了提高生产效率和工业化成本，磁控镀膜机越来越大型化，靶材的长度也随之增长，这样就增加了镀膜工艺的难度。为了保证整个镀膜产品的均匀性，除了对自身设备的性能要求外，镀膜过程中气体均匀性输出也是影响镀膜产品均匀性的重要因素。目前磁控镀膜机基本采用一端输入气体的管路结构，具体参见图1所示，其中管路I上设计N个等间距的输出孔2，气体从输出孔输出然后进行镀膜。上述的结构设计有一定的弊端，根据流体动力学知识研究发现气体在管道中流动时，随着管路的增长，气体动力会逐渐的减弱，这样靠近气体管道输入端的输出孔中输...
【技术保护点】
一种磁控溅射镀膜用的输气管道结构，包括管道本体(3)，所述管道本体(3)一端为进气端，所述管道本体(3)上等间距开设有若干输出孔(4)，其特征在于：所述相邻两个输出孔(4)区段内均开设有若干微输出孔(5)，所述微输出孔(5)的孔径沿远离进气端的方向逐渐增大。
【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜用的输气管道结构，包括管道本体(3)，所述管道本体(3) —端为进气端，所述管道本体(3)上等间距开设有若干输出孔(4)，其特征在于:所述相邻两个输出孔(4)区段内均开设有若干微输出孔(5)，所述微输出孔(5)的孔径沿远离进气端的方向逐渐增大。2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜用的输气管道结构，其特征在于:位于同一相邻...
【专利技术属性】
技术研发人员：王树勇，
申请(专利权)人：昆山日久新能源应用材料有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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