【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射镀膜用的输气管道结构
本技术涉及一种磁控溅射镀膜领域，具体涉及一种磁控溅射镀膜用的输气管道结构。
技术介绍
目前，磁控溅射镀膜是一种常用技术，磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，即为磁控溅射镀膜。磁控镀膜机是磁控溅射镀膜技术中的重要设备，为了提高生产效率和工业化成本，磁控镀膜机越来越大型化，靶材的长度也随之增长，这样就增加了镀膜工艺的难度。为了保证整个镀膜产品的均匀性，除了对自身设备的性能要求外，镀膜过程中气体均匀性输出也是影响镀膜产品均匀性的重要因素。目前磁控镀膜机基本采用一端输入气体的管路结构，具体参见图1所示，其中管路I上设计N个等间距的输出孔2，气体从输出孔输出然后进行镀膜。上述的结构设计有一定的弊端，根据流体动力学知识研究发现气体在管道中流动时，随着管路的增长，气体动力会逐渐的减弱，这样靠近气体管道输入端的输出孔中输出的气体流量就会大于远离气体管道输入端的输出孔中输出的气体流量。在磁控溅射镀膜试验中，如果输入的气体流量比较充足的话，采用上述结构设计的管路对镀膜产品的均匀性影响不大。但对于微量的气体掺杂实验，实验中所需的气体的流量比较小，这样每个等间距的输出孔的输出气体流量差异性就比较明显，靠近管道输入端的输出孔中输出的气体流量就会大于远离管道输入端的输出孔中输出的气体流量，气体在输出过程中随着距离的增加，动力...
【技术保护点】
一种磁控溅射镀膜用的输气管道结构，包括管道本体(3)，所述管道本体(3)一端为进气端，所述管道本体(3)上等间距开设有若干输出孔(4)，其特征在于：所述相邻两个输出孔(4)区段内均开设有若干微输出孔(5)，所述微输出孔(5)的孔径沿远离进气端的方向逐渐增大。
【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜用的输气管道结构，包括管道本体(3)，所述管道本体(3) —端为进气端，所述管道本体(3)上等间距开设有若干输出孔(4)，其特征在于:所述相邻两个输出孔(4)区段内均开设有若干微输出孔(5)，所述微输出孔(5)的孔径沿远离进气端的方向逐渐增大。2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜用的输气管道结构，其特征在于:位于同一相邻...
【专利技术属性】
技术研发人员：王树勇，
申请(专利权)人：昆山日久新能源应用材料有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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