【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种镀膜系统及镀膜方法，尤其涉及。
技术介绍
真空磁控溅射镀膜过程产生的等离子体通常会对静电敏感器件造成静电损伤，尤其是部分器件被等离子体覆盖而其它部分没有被等离子体覆盖时，这会在器件不同部位间造成电压差，从而通过放电击穿器件，造成静电损伤。真空镀膜一般有两种方式:静态镀膜:玻璃基板保持静止状态，一组靶材均匀分布在玻璃基板前面，靶材覆盖面积要略大于玻璃基板，为了提高镀膜均匀性，镀膜时靶材的磁棒磁场方向来回扫描，以目前市场上的技术，，静态镀膜系统的薄膜均匀度最好只能达到10%左右；(2)动态镀膜:玻璃基板在靶材前面匀速通过，根据镀膜厚度的要求，可以配备一定数目的靶材，动态镀膜有着均匀度良好的优越性(<5%)，但是，动态镀膜对于带有对静电敏感的电子器件的玻璃基板，通常会造成静电损伤，因此，目前对玻璃基板，一般采用静态镀膜，不采用动态镀膜。目前大型显示屏对镀膜的均匀性要求是〈5%，静态镀膜一般很难满足要求，动态镀膜由于静电损伤问题，不能用于对静电敏感的器件的玻璃基板镀膜。CN103255386A (2013-8-21)公开了一种动态沉积磁控...
【技术保护点】
一种动静混合镀膜系统，其特征在于包括：静态镀膜系统：静态镀膜系统包括静态镀膜腔室、设置在所述静态镀膜腔室内的用于对基板表面沉积镀膜的第一镀膜组件；以及设置在所述静态镀膜腔室内的可用于对基板进行往复扫描的第一传输组件；所述第一镀膜组件包括两个或两个以上平行排列的靶材，所述往复扫描的距离是零或者是任何小于相邻靶材间距的距离； 以及动态镀膜系统，包括动态镀膜腔室、设置在所述动态镀膜腔室内的用于对静态镀膜后的基板表面进行镀膜的第二镀膜组件；以及设置在所述动态镀膜腔室内的用于对静态镀膜后的基板进行连续传输的第二传输组件。
【技术特征摘要】
1.一种动静混合镀膜系统，其特征在于包括: 静态镀膜系统:静态镀膜系统包括静态镀膜腔室、设置在所述静态镀膜腔室内的用于对基板表面沉积镀膜的第一镀膜组件；以及设置在所述静态镀膜腔室内的可用于对基板进行往复扫描的第一传输组件；所述第一镀膜组件包括两个或两个以上平行排列的靶材，所述往复扫描的距离是零或者是任何小于相邻靶材间距的距离； 以及动态镀膜系统，包括动态镀膜腔室、设置在所述动态镀膜腔室内的用于对静态镀膜后的基板表面进行镀膜的第二镀膜组件；以及设置在所述动态镀膜腔室内的用于对静态镀膜后的基板进行连续传输的第二传输组件。2.根据权利要求1所述的一种动静混合镀膜系统，其特征在于还包括真空切换系统和设置在所述静态镀膜系统和动态镀膜系统之间的第一缓冲系统，所述真空切换系统包括依次设置且相互连接的低真空切换室和高真空切换室。3.根据权利要求1或2所述的一种 动静混合镀膜系统，其特征在于:所述静态镀膜腔室和动态镀膜腔室内分别包括用于对基板表面沉积镀膜的靶材和用于对所述基板加热的加热器；所述静态镀膜腔室和动态镀膜腔室内均设置有用以满足真空要求的冷泵或分子泵；所述低真空切换室上设置有用于使所述基板进出的包括进口轨道和进口以及包括出口轨道和出口。4.根据权利要求3所述的一种动静混合镀膜系统,其特征在于:所述第一传输组件或第二传输组件包括用于支撑基板的基板架载体，所述基板架载体边缘底部在不锈钢辊或传送带上移动，基板架载体顶部通过摩擦导向轮或无摩擦的磁导向导轨间移动。5.根据权利要求2所述的一种动静混合镀膜系统，其特征在于:所述第一缓冲系统包括缓冲室、设置在所述缓冲室外部且与缓冲室相连通的分子泵或冷泵；所述静态镀膜系统内设置有通过传动装置对基板实现平移的平移装置。6.根据权利要求2所述的一种动静混合镀膜系统,其特征在于:所述动态镀膜系统一端设置有第二缓冲系统，所述第二缓冲系统包括缓冲室、设置在所述外部且与缓冲室相连通的分子泵以及通过传动装置对基板实现平移的平移装置。7.一种利用权利要求1-6任一项动静混合镀膜系统进行动静混合镀膜的方法，其特征在于: O将基板放置在基板架载体上，以l_30m/min的第一传输速度进入所述静态镀膜室，使基板的待镀膜面朝向静态镀膜室中的第一镀膜组件，使基板在静态镀膜室中进行纯静态镀膜或往复扫描镀膜； 2)使经过静态镀膜的基板以l_30m/min的...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵军，刘钧，陈金良，许倩斐，
申请(专利权)人：浙江上方电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33
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