一种薄膜方块电阻的测量装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种薄膜方块电阻的测量装置，包括：支架；安装在所述支架上，且转动速度与待测薄膜行进速度相匹配的转动辊；用于驱动所述转动辊转动的驱动装置；设置在所述转动辊上的至少一组测量探头，同属一组的测量探头沿平行于转动辊轴线方向布置于转动辊的外周面，各测量探头具有接触待测薄膜的测量状态；作用在所述测量探头与转动辊之间，使测量探头在测量状态下抵压待测薄膜的弹性件。本申请提供的薄膜方块电阻测量装置，适用于在线检测流水线上的薄膜产品的方块电阻。测流水线上的薄膜产品的方块电阻。测流水线上的薄膜产品的方块电阻。

【技术实现步骤摘要】
一种薄膜方块电阻的测量装置


[0001]本技术涉及电阻测量
，特别是涉及一种薄膜方块电阻的测量装置。

技术介绍

[0002]参见图1所示，现有技术，薄膜方块电阻一般采用四探针测试仪进行测试，测试时将四探针测试仪的测试探针以一定的力度按压在测试膜面并保持相对静止，待测试数据稳定后测试仪器记录下测试数据。
[0003]基于四探针的测试原理，测试过程中要求四探针测试仪的探头与样品保持相对静止，因此，四探针测试仪很难使用在连续磁控溅射镀膜生产线中(基板会连续运动)对膜层的方块电阻进行在线监控。
[0004]涡电流方块电阻测试仪可以对膜层的方块电阻进行无接触的测量，但是基于涡电流产生的原理，这种测量对于膜层的材料有一定的限制，仅适用于金属，无法准确的应对一些非金属膜层(例如相对高电阻率的导电氧化物薄膜)的方块电阻测量，而且涡电流测试仪的成本较四探针会有数倍到十倍的增加。

技术实现思路

[0005]基于此，提供一种薄膜方块电阻的测量装置，适用于在线检测流水线上的薄膜产品的方块电阻。
[0006]一种薄膜方块电阻的测量装置，包括：
[0007]支架；
[0008]安装在所述支架上，且转动速度与待测薄膜行进速度相匹配的转动辊；
[0009]用于驱动所述转动辊转动的驱动装置；
[0010]设置在所述转动辊上的至少一组测量探头，同属一组的测量探头沿平行于转动辊轴线方向布置于转动辊的外周面，各测量探头具有接触待测薄膜的测量状态；
[0011]作用在所述测量探头与转动辊之间，使测量探头在测量状态下抵压待测薄膜的弹性件。
[0012]以下还提供了若干可选方式，但并不作为对上述总体方案的额外限定，仅仅是进一步的增补或优选，在没有技术或逻辑矛盾的前提下，各可选方式可单独针对上述总体方案进行组合，还可以是多个可选方式之间进行组合。
[0013]可选的，所述测量探头为多组，多组测量探头环绕转动辊的外周布置。
[0014]可选的，每组测量探头为等间距排布的四个，各测量探头采用导电材质。
[0015]可选的，各测量探头与待测薄膜接触的端部凸出于所述转动辊的外周面。
[0016]可选的，各测量探头的轴线延长线相交于一点，且测量探头轴线延长线所处平面垂直于转动辊的轴线。
[0017]可选的，所述转动辊采用绝缘材质，所述转动辊上设有用于容置所述测量探头的安装腔。
[0018]可选的，所述弹性件为弹簧，所述弹簧位于所述安装腔内，且弹簧的两端分别连接转动辊和测量探头。
[0019]可选的，所述安装腔为至少一个，同属一组的测量探头位于同一安装腔内。
[0020]可选的，所述测量探头与待测薄膜接触的端部为锥形，锥形的顶部与待测薄膜接触。
[0021]可选的，所述转动辊为一体结构，或分体结构。
[0022]本申请提供的薄膜方块电阻测量装置，适用于在线检测流水线上的薄膜产品的方块电阻。
附图说明
[0023]图1为四探针测试仪测试薄膜方块电阻的示意图；
[0024]图2为本申请薄膜方块电阻的测量装置的示意图；
[0025]图3为图2中的A向视图；
[0026]图4为本申请薄膜方块电阻的测量装置测试方块电阻的原理示意图；
[0027]图中：1、转动辊；2、基材；3、测量探头；31、测量探头；32、测量探头；33、测量探头；34、测量探头。
具体实施方式
[0028]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0029]需要说明的是，当组件被称为与另一个组件“连接”时，它可以直接与另一个组件连接或者也可以存在居中的组件。当一个组件被认为是“设置于”另一个组件，它可以是直接设置在另一个组件上或者可能同时存在居中组件。
[0030]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“或/及”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0031]参见图2、图3、图4所示，一种薄膜方块电阻的测量装置，包括：
[0032]支架；
[0033]安装在支架上，且转动速度与待测薄膜行进速度相匹配的转动辊1；
[0034]用于驱动转动辊1转动的驱动装置；
[0035]设置在转动辊1上的至少一组测量探头3，同属一组的测量探头3沿平行于转动辊1轴线方向布置于转动辊1的外周面，各测量探头3具有接触待测薄膜的测量状态；
[0036]作用在测量探头3与转动辊1之间，使测量探头3在测量状态下抵压待测薄膜的弹性件。
[0037]基材2承载待测薄膜，待测薄膜随基材2同步移动，测量探头3抵压待测薄膜时，通过基材2承载抵压力。
[0038]本申请将测量探头3集成到转动辊1上，转动辊1通过驱动装置驱动转动，转动辊1和基材2的驱动装置可以采用步进电机，或其他机械结构进行控制，基材2的传输速度与转动辊1的转动速度相匹配。
[0039]参见图2所示，基材2的传输速度为v，转动辊1的角速度为ω，二者需满足ν＝ωr以保证测量探与基材2之间的相对静止状态。
[0040]本申请提供的薄膜方块电阻的测量装置可以在线测量薄膜的方块电阻，尤其适用于在磁控溅射生产线上进行在线的薄膜方块电阻测量。
[0041]参见图2、图3所示，测量探头3为一组，测量探头3也可以为多组，多组测量探头3环绕转动辊1的外周布置。测量探头3的组数以及各组之间的距离根据实际的测试需求进行布置。
[0042]参见图4所示，每组测量探头3为等间距排布的四个，各测量探头3采用导电材质。
[0043]本申请中同属一组的测量探头3之间采用四探针测试仪的测量原理进行方块电阻检测，测试时，待测薄膜的宽度远远大于同一方向上测量探头3的探头间距，参见图4所示，测试时，测量探头31和测量探头34上加载恒定的直流电流(一般在0.5
‑
2mA)，使用电位差计测试测量探头32和测量探头33之间的电压。测量的方块电阻R
□
＝cU/I。c为比例系数，根据不同的条件进行修正。当测量探头与基材2充分接触时，R
□
稳定。
[0044]参见图2、图3所示，各测量探头3与待测薄膜接触的端部凸出于转动辊1的外周面。转动辊1始终不与待测薄膜接触，仅测量探头3与待测薄膜接触。
[0045]各测量探头3的轴线延长线相交于一点，且测量探头3轴线延长线所处平面垂直于转动辊1的轴线。在进行测量时，测量探头3垂直本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种薄膜方块电阻的测量装置，其特征在于，包括：支架；安装在所述支架上，且转动速度与待测薄膜行进速度相匹配的转动辊；用于驱动所述转动辊转动的驱动装置；设置在所述转动辊上的至少一组测量探头，同属一组的测量探头沿平行于转动辊轴线方向布置于转动辊的外周面，各测量探头具有接触待测薄膜的测量状态；作用在所述测量探头与转动辊之间，使测量探头在测量状态下抵压待测薄膜的弹性件。2.根据权利要求1所述的薄膜方块电阻的测量装置，其特征在于，所述测量探头为多组，多组测量探头环绕转动辊的外周布置。3.根据权利要求1所述的薄膜方块电阻的测量装置，其特征在于，每组测量探头为等间距排布的四个，各测量探头采用导电材质。4.根据权利要求1所述的薄膜方块电阻的测量装置，其特征在于，各测量探头与待测薄膜接触的端部凸出于所述转动辊的外周面。5.根据权利要求1所述的薄膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：来华杭，郭峰，
申请(专利权)人：浙江上方电子装备有限公司，
类型：新型
国别省市：