一种制备有序大结构单元氧化铝膜的方法技术

本发明专利技术公开了一种制备有序大结构单元氧化铝膜的方法，该方法将高纯铝片清洗后进行电化学抛光；以抛光的铝片为阳极，石墨为阴极，添加乙醇的草酸溶液为电解液来进行电解过程，通过线性升压直至电流出现剧烈增大而产生电流的雪崩现象，之后在恒定的大电流密度下进行电解至电压稳定阶段停止电解；经饱和氯化铜溶液浸泡后得到有序大结构单元氧化铝膜。本发明专利技术通过控制乙醇的添加比例以及电流密度可以对所制备氧化铝膜结构单元的尺寸进行调控，所制备的氧化铝膜具有较大的结构单元并且尺寸可调，排列高度有序，使其可以作为模板来合成各种功能性纳米、亚微米材料。本发明专利技术具有成本低廉、可控性高、重复性好等优势，提高了其应用于生产的可行性。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种制备有序大结构单元氧化铝膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）将高纯铝片依次置于无水乙醇和去离子水中进行清洗，得到干净的铝片；（2）以步骤（1）得到的干净铝片为阳极，石墨为阴极，在高氯酸和无水乙醇的混合溶液中电化学抛光，得到抛光的铝片；（3）以步骤（2）得到的抛光的铝片为阳极，石墨为阴极，草酸‐乙醇‐水混合溶液为电解液来进行电解过程，电解温度为0～5℃，以0.5～2V/s的速度来进行线性升压直至电流密度急剧增大产生电流雪崩现象；限定电流密度为295～505A/m2，当电压为137～182V时停止电解得到带有铝基底的氧化铝膜；（4）将步骤（3）得到的带有铝基底的氧化铝膜置于饱和氯化铜溶液中进行置换反应，之后用去离子水进行清洗，得到独立的有序大结构单元氧化铝膜；

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李屹，覃玉燕，凌志远，
申请(专利权)人：华南理工大学，
类型：发明
国别省市：广东;44