【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种用于光刻机曝光台的清洁装置，其特征在于：包括一操作杆、与所述操作杆相连接的移动件，所述移动件靠近曝光台的底部具有一凹腔，所述凹腔通过一进气管与一氮气源或清洁干燥的空气源相连，通过一出气管与一抽真空装置相连。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：潘敏炜，陈群琦，
申请(专利权)人：上海华虹宏力半导体制造有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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