微纳米散斑的制备方法和系统技术方案

本发明专利技术提出一种微纳米散斑的制备方法和系统，其中，该方法包括以下步骤：生成预设数量的散斑颗粒大小和/或散斑数目不同的数字散斑图，并从中选取至少一幅数字散斑图作为散斑模板；对待处理试件和目标试件的待处理区域进行预处理；将散斑模板导入散斑沉积设备；对待处理试件的待处理区域进行对焦，以获取当前放大倍数下的最优参数组；根据最优参数组调节散斑沉积设备，并根据散斑模板在目标试件的待处理区域沉积散斑。上述方法能够制备高质量微纳米散斑，提升散斑制备的可重复性、无损性和制备速度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光测力学、变形测量领域，特别涉及一种微纳米散斑的制备方法和系统。
技术介绍
随着微纳米技术的快速发展，微纳米器件和结构的性能指标和可靠性评估要求变形测量尺度达到了微纳米量级。微区域的变形测量对变形测量载体的尺度提出了更高的要求。散斑是数字图像相关变形测量领域最基本的元素，物体表面变形散斑图的优劣直接影响了变形测量的精度。目前，常规的微纳米散斑的制备方法主要包括：人工喷漆法、接触式紫外曝光法、电子束光刻法、化学气相沉积法、纳米颗粒喷涂法、聚焦离子束刻蚀法等。但以上几种制备方法均存在一定程度的问题：人工喷漆法制得的散斑颗粒较大，尺寸最小为亚毫米量级，只能满足宏观的变形测量要求；电子束光刻法和接触式紫外曝光法的制备工艺复杂，费时且成本昂贵；化学气相沉积法是在试件表面化学气相沉积不同的金属薄膜，通过湿热条件得到微纳米散斑，但该方法严重依赖于基底和薄膜的性质，且制备过程可能会影响到所测试件的物理化学性质；纳米颗粒喷涂法制得的散斑不能具体定位，散斑的位置取决于基底试件表面的性质本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微纳米散斑的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
生成预设数量的散斑颗粒大小和/或散斑数目不同的数字散斑图，并从中选取至少一幅
所述数字散斑图作为散斑模板，其中，所述数字散斑图为二值图；
对待处理试件和目标试件的待处理区域进行预处理，其中，所述目标试件与所述待处理
试件的材质相同；
将所述散斑模板导入散斑沉积设备；
对所述待处理试件的待处理区域进行对焦，以获取当前放大倍数下的最优参数组；
根据所述最优参数组调节所述散斑沉积设备，并根据所述散斑模板在所述目标试件的待
处理区域沉积散斑。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述生成预设数量的散斑颗粒大小和/或散
斑数目不同的数字散斑图，并选取散斑模板具体包括：
根据图像的平均灰度梯度从所述数字散斑图中选取所述散斑模板，其中，所述图像的平
均灰度梯度为：
δf=Σi=1WΣj=1H|▿f(xij)|W×H]]>其中，W和H分别为像素值表示的图像的宽度和高度；为
每个像素点灰度梯度矢量的模；fx(xij)和fy(xij)分别为像素点xij在x-和y-方向的灰度导
数。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述待处理试件的待处理区域进行
对焦，以获取当前放大倍数下的最优参数组进一步包括：
调节所述散斑沉积设备的参数值，根据所述散斑模板在所述待处理试件的所述待处理区
域沉积多个散斑图像，其中，所述散斑沉积设备的参数包括沉积总时间、点停留时间和束流
强度；
根据所述多个散斑图像获取最优散斑图像，并记录与所述最优散斑图像对应的参数值，
作为在当前放大倍数下的最优参数组。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述对所述待处理试件的待处理区域进
行对焦，以获取当前放大倍数下的最优参数组之前，还包括：
调节所述散斑沉积设备的放大倍数，以将所述散斑图像的调节至所需大小。
5.如权利要求1-4任一项所述的方法，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢惠民，朱荣华，吴丹，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：