【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术利用共挤压或共拉拔工艺来将管状靶直接地结合到内背衬管上。共挤压或共拉拔工艺使外管状靶的内径和外径减小，以使靶的部分突入并且至少部分地填充入沿着内背衬管的槽中。该填充使靶互锁至背衬板。【专利说明】旋转溅射靶组件
本专利技术总体涉及派射祀(sputter target)领域。具体而言，本专利技术的实施例涉及改进的旋转派射祀组件，其中祀通过共拉拔(co-drawing)或共挤压(co-extrusion)工艺直接地接合到背衬管(backing tube)上。
技术介绍
阴极溅射广泛地用于将导电材料的薄材料沉积在期望的基底之上。此工艺需要对由期望的材料形成的靶进行气体离子轰击，该期望的材料将作为薄膜沉积在基底之上。对靶的表面的离子轰击导致靶材料的原子或离子被溅射。靶形成了带有阳极的阴极组件的一部分。阴极组件被安置在已抽空的室中，该室以惰性气体(优选地，氩)填充。跨过阴极和阳极施加高电压电场。惰性气体通过与从阴极喷射出的电子碰撞而离子化，以形成带正电气体离子。带正电气体离子被吸引至阴极。在与靶表面冲撞时，这些离子将靶材料逐出。逐出的靶材料穿过已...
【技术保护点】
可旋转溅射靶组件，其包括：背衬管，其包括外表面；溅射管状靶，其包括内表面，所述内表面与所述背衬管的所述外表面直接接触，其中，所述背衬管共轴地配置在所述管状靶的内部体积之内；以及多个间隔开的槽，其设置在所述靶的所述内表面和所述背衬管的所述外表面之间，由此，所述多个槽中的每一个都沿着所述组件的周边延伸，所述槽配置成与突入其内的所述溅射靶的部分互锁，以产生带槽交界面。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：SSG蒂尔斯，PS吉尔曼，
申请(专利权)人：普莱克斯技术有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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