陶瓷真空继电器制造技术

本发明专利技术公开了一种陶瓷真空继电器，包括陶瓷真空密封罩、线圈、静接触点、动接触片以及拨叉，所述静接触点、动接触片以及拨叉设于所述陶瓷真空密封罩内，所述拨叉表面涂覆有电镀层，可减少运动过程中的阻力。该陶瓷真空继电器的接触点和排气管均设于陶瓷真空密封罩的底面上，利于节约产品体积；同时采用无骨架线圈，可以有效减少线圈的面积，在相同体积条件下获得最大的安匝数；其动接触片增加环绕部分，提高弹性，同时可以获得良好的接触电阻和运动性能。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种陶瓷真空继电器，包括陶瓷真空密封罩、线圈、静接触点、动接触片以及拨叉，所述静接触点、动接触片以及拨叉设于所述陶瓷真空密封罩内，所述拨叉表面涂覆有电镀层，可减少运动过程中的阻力。该陶瓷真空继电器的接触点和排气管均设于陶瓷真空密封罩的底面上，利于节约产品体积；同时采用无骨架线圈，可以有效减少线圈的面积，在相同体积条件下获得最大的安匝数；其动接触片增加环绕部分，提高弹性，同时可以获得良好的接触电阻和运动性能。【专利说明】陶瓷真空继电器
本专利技术涉及一种陶瓷真空继电器。
技术介绍
目前，市场上现有的陶瓷真空继电器采用拨叉来拨动动触片，完成继电器的通断动作，但现有的拨叉在使用过程中阻力较大，影响继电器的灵敏度。另外，现有的陶瓷真空继电器的接触点的触点一般为触点在同一个平面上在水平方向上向不同方向延伸，呈射线分布，继电器的直径较大，从而造成产品的横向体积较大，同时继电器线圈采用有骨架线圈，也造成产品纵向尺寸大，用户安装不方便。
技术实现思路
为了克服上述缺陷，本专利技术提供了一种陶瓷真空继电器，该继电器拨叉阻力小，产品体积小，安装方便。本专利技术为了解决其技术问题所采用的技术方案是:一种陶瓷真空继电器，包括陶瓷真空密封罩、线圈、静接触点、动接触片以及拨叉，所述静接触点、动接触片以及拨叉设于所述陶瓷真空密封罩内，所述拨叉表面涂覆有电镀层。作为本专利技术的进一步改进，在所述陶瓷真空密封罩的底面上设有三个触点引出端以及排气管。作为本专利技术的进一步改进，所述线圈为无骨架线圈。作为本专利技术的进`一步改进，所述动接触片包括第一直线部、环形部和第二直线部，所述环形部环绕于继电器的公共触点上，所述第二直线部固设于公共触点的上表面上，且所述第一直线部连接该环形部一端，第二直线部连接该环形部另一端。本专利技术的有益效果是:继电器的拨叉上涂覆电镀层，可减少运动过程中的阻力；接触点和排气管均设于陶瓷真空密封罩的底面上，利于节约产品体积；无骨架线圈，可以有效减少线圈的面积，在相同体积条件下获得最大的安匝数；动接触片增加环绕部分，提高弹性，同时可以获得良好的接触电阻和运动性能。【专利附图】【附图说明】图1为本专利技术结构示意图；图2为本专利技术剖面结构示意图；图3为本专利技术所述动接触片结构示意图。结合附图，作以下说明:I——陶瓷真空密封罩2——线圈6—公共触点4—拨叉5——引出端31——第一直线部32——环形部33——第二直线部【具体实施方式】结合附图，对本专利技术作详细说明，但本专利技术的保护范围不限于下述实施例，即但凡以本专利技术申请专利范围及说明书内容所作的简单的等效变化与修饰，皆仍属本专利技术专利涵盖范围之内。一种陶瓷真空继电器，包括陶瓷真空密封罩1、线圈2、静接触点、动接触片以及拨叉4，所述静接触点、动接触片以及拨叉设于所述陶瓷真空密封罩内，所述拨叉表面涂覆有电镀层。可减少拨叉运动过程中的摩擦阻力，提高继电器的灵敏度。优选的，在所述陶瓷真空密封罩的底面上设有三个触点引出端5以及排气管。优选的，所述线圈为无骨架线圈，这样可以有效地减少线圈的体积，在相同体积条件获得最大的安匝数。优选的，所述动接触片包括第一直线部31、环形部32和第二直线部33，所述环形部环绕于继电器的公共触点6上，所述第二直线部固设于公共触点的上表面上，且所述第一直线部连接该环形部一端，第二直线部连接该环形部另一端。该结构同时兼顾了接触片的运动性能、固定性能和导向性能的要求，可以获得良好的接触电阻和运动特性。【权利要求】1.一种陶瓷真空继电器，包括陶瓷真空密封罩(I)、线圈(2)、静接触点、动接触片以及拨叉(4)，所述静接触点、动接触片以及拨叉设于所述陶瓷真空密封罩内，其特征在于:所述拨叉表面涂覆有电镀层。2.根据权利要求1所述的陶瓷真空继电器，其特征在于:在所述陶瓷真空密封罩的底面上设有三个触点引出端(5)以及排气管。3.根据权利要求1或2所述的陶瓷真空继电器，其特征在于:所述线圈为无骨架线圈。4.根据权利要求1或2所述的陶瓷真空继电器，其特征在于:所述动接触片包括第一直线部(31)、环形部(32)和第二直线部(33)，所述环形部环绕于继电器的公共触点(6)上，所述第二直线部固设于公共触点的上表面上，且所述第一直线部连接该环形部一端，第二直线部连接该环形部另一端。【文档编号】H01H33/66GK103779136SQ201210411010【公开日】2014年5月7日 申请日期:2012年10月25日 优先权日:2012年10月25日 【专利技术者】覃奀垚, 黄浩, 贾冰冰, 余佳 申请人:昆山国力真空电器有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种陶瓷真空继电器，包括陶瓷真空密封罩（1）、线圈（2）、静接触点、动接触片以及拨叉（4），所述静接触点、动接触片以及拨叉设于所述陶瓷真空密封罩内，其特征在于：所述拨叉表面涂覆有电镀层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：覃奀垚，黄浩，贾冰冰，余佳，
申请(专利权)人：昆山国力真空电器有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32