本发明提供一种衬底处理装置，其具有以层合的状态收纳多个衬底的处理室、对衬底和处理室内的环境气体进行加热的加热装置、供给热分解的原料气体的第一气体供给装置、供给氧化气体的第二气体供给装置、排出处理室内的环境气体的排出装置、至少对第一、第二...

本发明涉及一种基板处理装置，其特征在于包括：一种基板处理装置，其特征在于包括：反应容器，包括处理室和电极室，所述电极室与所述处理室相分离，所述电极室容纳有一对电极，和多个待叠层的基板容纳在所述处理室中；和供气件，将处理气提供进所述电极室...

一种图形缺陷检查装置，其特征为，包括以下部分：对形成在基板上的荧光体的带状图形界限摄影的摄像部，使上述摄像部沿上述图形移动的移动机构部，输入从上述摄像部来的图象信号的图象处理部，显示上述图象处理部的输出的显示部，和控制上述移动机构部和上...

本发明提供一种数字无线系统中的轮询方法，其可以缩短轮询时间而不使误差率特性劣化，且实现通信的高效运用，在通过轮询来收集多个终端站的信息的数字无线通信系统的轮询方法中，要从上述各终端站发送给基站的轮询应答信号的帧格式为，在该帧格式的起始部...

本发明提供一种荧光体检测方法及荧光体检测装置，在对涂在等离子显示器等玻璃基板上的荧光体带的涂敷不匀的检测中，存在一些问题，例如由于受带状涂敷的荧光体的非发光部分的影响而发生干扰条纹现象，以及由于为使荧光体发光带发光而使用的紫外线照明的照...

本发明提供一种在具有多个摄像头的显微镜摄像装置及尺寸测量装置中、在任一个变为异常时能够通过其他摄像头覆盖的系统。提供一种显微镜摄像装置及尺寸测量装置，对于多个摄像装置分别设有退避区域，并且各个摄像头具有能够移动到被测量对象物的测量点的位...

提供一种检查装置。随着在ＬＣＤ用等基板上生成的透明导电膜图形的膜厚度变薄，图形边缘部的对比度降低，因此用现有技术难以测量。因此，提供一种增加这样的透明导电膜部分和其它以外部分的对比度、可容易地实现膜厚小的透明导电膜图形的尺寸测量的技术。...

本发明提供一种可以保持稳定的对比度状态的线宽测量方法。本发明的线宽测量方法，在由反射光及透射光同时照明测量试料的两侧，来测量半透明膜的线宽的线宽测量装置中，上述测量试料是在透明基板（２１）上形成不透明图案（２２）、并跨着透明基板与不透明...

本发明涉及一种基板处理装置，其特征在于包括：收容多层配置的基板的反应室；多个缓冲室；将用于处理基板的气体分别输入上述多个缓冲室的多个气体导入部；上述多个缓冲室分别具有沿上述基板的多层配置方向设置的多个供气口；将由上述多个气体导入部分别输...

一种基板处理装置，通过减小接触气体面积来抑制粒子的产生，通过减小流路容积提高净化效率。其具有用于对基板（２）进行处理的处理室（１）；被设置在处理室（１）侧面、将基板（２）相对于处理室（１）内搬入搬出的基板搬送口（１０）；被可升降地设置在...