公开了一种狭缝阀闸。狭缝阀闸包括基部部分，基部部分配置为耦接到狭缝阀致动器并且包括第一成角度的对准特征。狭缝阀闸进一步包括密封部分，密封部分与基部部分耦接。密封部分经配置为在狭缝阀闸和狭缝阀开口的密封表面之间建立气密密封。狭缝阀闸进一步...

本文公开了气体输送模块、处理腔室及用于在基板上沉积膜的方法。在一个实例中，提供了一种气体输送模块，其包括沉积精密流量装置(PFD)流量控制器、载体PFD流量控制器及多个质量流量控制器(MFC)。沉积PFD流量控制器经配置成控制穿过多个出...

本发明涉及一种通过在化学气相沉积方法中使用二甲基二氯硅烷(DMS)作为硅烷源在石墨基板上沉积碳化硅(SiC)来制造涂覆SiC的主体的新的工艺。本发明的另一方面涉及可通过本发明的新的工艺获得的新的涂覆碳化硅的主体，以及涉及其用于制造以下项...

本公开内容的实施例包括一种清洁基板的设备和方法。本公开内容描述了一种清洁基板的方法，所述方法包括向喷嘴供应处于气体温度和气体质量流率的气体。所述方法还包括向所述喷嘴供应处于液体温度和液体质量流率的液体。所述方法还包括在所述喷嘴中将所述气...

示例性半导体处理方法可包括向半导体处理腔室的处理区域提供含氧前驱物和含硫前驱物。基板可容纳在处理区域中。含碳材料层可安置在基板上。所述方法可包括形成含氧前驱物和含硫前驱物的等离子体流出物。所述方法可包括使基板与含氧前驱物和含硫前驱物的等...

本文公开的实施方式包括诊断基板，该诊断基板包含底板，及在底板上的第一多个图像传感器，其中该第一多个图像传感器与底板水平定向。在实施方式中，诊断基板进一步包含在底板上的第二多个图像传感器，其中第二多个图像传感器以与底板非正交的角度定向。在...

本文所述的实施方式提供了一种用于评估和检查光学元件，诸如扩增实境(AR)波导组合器的性能的非对称光学计量系统。所述系统利用非对称光学配置和复眼照射来增强图像清晰度的检测极限和亮度均匀性的准确度。通过采用具有各种焦距的不同透镜，所述系统提...

本文公开的是一种喷头和一种含有所述喷头的沉积腔室。所述喷头包括用于第一前体的第一输送网络及用于第二前体的第二输送网络，所述第一输送网络包含与第一分配系统连接的第一歧管，所述第一分配系统包含围绕轴线同心设置的多个第一分配通道，所述第二输送...

本公开涉及用于减少半导体处理腔室的排气出口中不希望的污染物和沉积物的改良部件及相关方法。在一或多个实施方式中，基板处理腔室包括腔室主体，所述腔室主体至少部分地限定内部容积。基板支撑件设置于所述内部容积中。所述处理腔室进一步包括位于所述腔...

本文提供的本公开案的实施方式包含用于使用混合键合的等离子体清洁及活化的系统与方法。所述系统包含：处理腔室；基板支撑件，所述基板支撑件经配置以在混合键合基板处理期间支撑基板；耦合至所述处理腔室的气体输送系统，所述气体输送系统具有至少一个自...

本文提供的本公开案的实施方式包括用于化学机械研磨中的衬垫调节的系统及方法。在一实施方式中，一种衬垫调节组件包括底座、耦合至所述底座的臂、耦合至所述臂的调节头、包括耦合至所述调节头的至少一个电磁体、经配置以耦合至衬垫调节盘的平衡环挠曲件，...

本公开内容的方面提供了一种用于改善波导显示面板的输出耦合器的性能诸如减少眼睛眩光的设备。示例波导包括抗反射涂层。所述波导进一步包括设置在所述抗反射涂层上方的基板，其中所述基板包括1.5至2.7的折射率。所述波导进一步包括设置在所述基板上...

本公开案提供子像素。所述子像素包括分隔开多个阳极的多个像素结构。所述多个像素结构安置在基板上方。多个悬垂结构安置在所述多个像素结构上方。所述多个悬垂结构的每个悬垂结构包括上部，所述上部包括非晶硅，所述非晶硅安置在包括锗的下部上方。所述上...

本文描述了预热环和具有所述预热环的处理腔室。在一个例子中，用于膜沉积的处理腔室包括腔室容积、布置在腔室容积中的基板支撑件、基板支撑件具有径向向外的表面、以及围绕基板支撑件的预热环。预热环包括面向径向向外表面的锥形壁。锥形壁朝向预热环的顶...

本公开案的实施方式涉及用于在等离子体处理系统中处理基板的系统及方法。在实施方式中，提供了一种等离子体处理系统，所述等离子体处理系统包括射频(RF)产生器，所述射频(RF)产生器耦合至安置在所述等离子体处理系统内的基板支撑底座并经配置以将...

一种方法包括获得基底结构，该基底结构包括安置在基板上的介电层堆叠。该介电层堆叠包括：第一光敏性介电层，该第一光敏性介电层包括对第一辐射剂量敏感的第一光敏性介电材料；第二光敏性介电层，该第二光敏性介电层包括对不同于该第一辐射剂量的第二辐射...

公开了一种群集工具的交换器组件，该交换器组件包括外壳、至少两个交换器和马达组件。该至少两个交换器至少部分地安置在该外壳内并相对于该外壳可旋转。每个交换器包括主体、第一臂和第二臂。该第一臂和该第二臂相对于该主体可旋转。该马达组件包括至少一...

实施例包括用于低粗糙度纳米结晶金刚石膜的生长的模块化高频发射源。在一个实施例中，一种制造纳米结晶金刚石(NCD)膜的方法包括将纳米金刚石种晶硅晶片或已经经过表面处理和温育的裸硅晶片装载到微波等离子体增强化学气相沉积(MWPECVD)腔室...

在一个实施例中，一种喷嘴组件包括主体，所述主体具有内部表面，所述内部表面形成所述主体内的内部空腔。所述组件还包括：气体入口，所述气体入口设置在所述主体内；流体入口，所述流体入口设置在所述主体内；以及混合腔室，所述混合腔室设置在所述主体的...

本文所描述的实施例涉及一种形成子像素的方法。所述方法包括在基板和阳极上方沉积第一结构材料。所述阳极设置在所述基板上方。在所述第一结构材料上方沉积层间介电（ILD）材料。将ILD材料图案化。在所述ILD材料和所述第一结构材料上方沉积中间结...