本发明涉及感光性树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、和表面保护膜。本发明的课题是提供一种感光性树脂组成物、使用前述感光性树脂组成物的图案形成方法、硬化膜、具有前述硬化膜的电子零件。该课题的解决手段为一种感光性树脂组成...

本发明提供一种负极活性物质，其包含负极活性物质颗粒，其特征在于，所述负极活性物质颗粒含有SiO

本实用新型的目的在于提供一种使用防护薄膜框架的防护薄膜，其在真空下进行EUV曝光时，耐受自大气压到真空的压力变化而不会产生防护薄膜膜片的破损，而且，框架的加工性良好且在剥离防护薄膜时框架不会破损。本实用新型提供一种防护薄膜框架，其为具有...

本发明提供一种具有相位控制性良好且通过使用氯氧气体的蚀刻而得到的图案形状优异的相移膜的相移掩模坯料。所述相移掩模坯料具有透明基板、及形成于透明基板上的相移膜，相移膜在波长200nm以下的曝光波长下的相位差为160～200

目的在于提供新型伯氨基硅氧烷化合物及其制造方法，更详细地说，提供新型伯氨基甲基硅氧烷化合物及其制造方法。由下述式(1)表示的伯氨基硅氧烷化合物。H2N

包含由下述通式(1)表示的具有含有羟基的甲硅烷基或水解性甲硅烷基的含有氟聚醚基的聚合物和/或其部分(水解)缩合物的表面处理剂可形成拒水拒油性、耐钢丝绒磨损性优异并且水滚落角小的固化被膜。Rf

本发明涉及生物体电极组成物、生物体电极、生物体电极的制造方法、及硅材料粒子。本发明的课题为提供一种生物体电极组成物，含有(A)表面具有N

[课题]本发明的目的在于提供乳液组合物，其可通过干燥形成皮膜，提供经时稳定性良好、且光滑性良好的皮膜。此外，其目的还在于提供作为杂质含有的八甲基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷和十二甲基环六硅氧烷的量得以减少，特别是不含这些杂质的乳液组合物...

本发明提供一种通过椭圆光度法，可高精度、且高再现性、直接地计量表面粗糙度或雾度值小且具有均质的表面的含氟有机硅化合物薄膜的光学常数(折射率n、衰减系数κ)方法。所述含氟有机硅化合物薄膜的光学常数的计量方法，具有：将含氟有机硅化合物的薄膜...

本发明涉及单组分型固化性有机硅凝胶组合物，其含有：(A)具有特定结构的分支链状的有机聚硅氧烷：100质量份、(B)分子链两末端二有机氢甲硅烷氧基封端二有机聚硅氧烷：0.1～50质量份、(C)铂系催化剂、(D)由式(3)(式中，R2为碳原...

本发明提供一种用于EUV掩模坯料的具有多层反射膜的衬底，其制造方法和EUV掩模坯料。具有多层反射膜的衬底包括衬底和形成在衬底上的多层反射膜。多层反射膜包括其中Si层与Mo层交替层叠的Si/Mo层叠部，在Si/Mo层叠部的Si层与Mo层之...

本发明提供一种用于EUV掩模坯料的具有多层反射膜的衬底、其制造方法以及EUV掩模坯料。具体地，提供一种用于EUV掩模坯料的具有多层反射膜的衬底，该衬底包括衬底和形成在衬底上的多层反射膜。多层反射膜包括Si/Mo层叠部和保护层，该保护层含...

本发明提供一种紫外线固化性和固化物的粘接性均良好的紫外线固化型有机聚硅氧烷组合物及其固化物。所述紫外线固化型有机聚硅氧烷组合物，其特征在于、含有(A)以下述通式(1)表示的化合物和紫外线固化性有机聚硅氧烷。(在式(1)中，R1为碳原子数...

本实用新型的目的在于提供一种在EUV曝光中对氢自由基充分具有耐性的防护薄膜框架、防护薄膜、曝光原版、装置与系统、半导体及液晶显示板的制造系统。本实用新型提供的防护薄膜框架，其为EUV曝光用的防护薄膜框架，在所述防护薄膜框架至少设置一个通...

本发明的目的在于，提供一种醇类组合物的制造方法，在使用HPMC或者MC作为增稠剂的同时，在不包含使用加热处理的工序的情况下也可进行粘度调整以达到合适的粘度。上述目的通过下述的醇类组合物的制造方法等解决，所述制造方法包含：通过使选自羟丙基...

本发明的目的在于提供一种醇类组合物，其通过以使羟丙基甲基纤维素或者甲基纤维素所具有的增稠性得以发挥的方式包含羟丙基甲基纤维素或者甲基纤维素，从而不仅具有容易涂抹且不容易垂落的粘度，而且可抑制液体滴落，和/或提高透明性，还具有良好的涂抹感...

本发明的目的在于提供因保存中随时间的脱氢而导致的容器膨胀的危险性少、产品性能的劣化少、货架寿命优异的有机氢聚硅氧烷的乳液、和使用其的固化性优异的加成固化型硅酮乳液组合物，以及使它们固化得到的固化覆膜实现对粘合剂的轻剥离性。本发明的解决手...

本发明的III族化合物基板的制造方法包括以下工序：基底基板形成工序，通过气相合成法形成III族氮化物的基底基板；种基板形成工序，在基底基板上形成种基板；以及III族化合物晶体形成工序，通过氢化物气相生长法在种基板上形成III族化合物晶体...

本发明的目的在于提供一种保存稳定性高、能够以少的铂族金属系催化剂量进行加成反应的铂族金属系催化剂、以及包含所述催化剂的硬化性有机聚硅氧烷组合物，并且提供一种具有所述组合物的硬化物的剥离片。一种催化剂组合物，含有i)铂族金属系催化剂及ii...

本发明提供一种在从光刻使用后、特别是ArF光刻使用后的曝光原版剥离防护薄膜时可减少附着于所述曝光原版上的残渣的防护薄膜用粘合剂、防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版、曝光原版的再生方法及剥离残渣减少方法。一种防护薄膜用粘合剂，用以将防护薄膜贴...