下述含氟固化性组合物可形成防污性、拒水性优异、具有低动摩擦系数的固化被膜，所述含氟固化性组合物以下述成分作为必要成分：成分(A)，其由作为在主链具有氟聚醚的直链聚合物、在1分子中的一个末端具有三氟甲基、在另一末端具有2个以上的(甲基)丙...

本发明提供一种在从光刻使用后、特别是ArF光刻使用后的曝光原版剥离防护薄膜时可减少附着于所述曝光原版上的残渣的防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版、曝光原版的再生方法及剥离残渣减少方法。一种防护薄膜(10)，具有：防护膜(12)；防护薄膜框架...

本发明提供一种用于制备6

本发明提供一种光纤，是在已大型化的光纤母材中，通过调整芯部堆积用燃烧器的安放位置，来抑制二氧化锗等掺杂剂原料的升华而形成恰当的折射率分布，从而改善了零分散波长等光学特性。本发明的光纤母材中具有折射率相对较高的芯部与折射率相对较低的包层部...

本实用新型的目的在于提供一种防止源自框架的散射光、且附着于框架表面的异物检查容易的防护薄膜框架及组件、曝光原版、装置与系统及制造系统。一种防护薄膜框架，其为具有设置防护膜的上端面以及面向光掩模的下端面的框状的防护薄膜框架，在所述防护薄膜...

[课题]提供适合于医疗用材料的硅氧烷化合物及其制备方法。[解决手段]用下述式(1)表示的硅氧烷及其制备方法：式中，R1是氢原子或甲基，R2是碳原子数为1~6的一价烃基，L是可包含醚键的碳原子数为2~10的二价烃基，A是用下述式(2)或(...

通过使具有β氢的有机金属试剂、具体地在末端具有脂肪族不饱和双键(烯烃部位)并且具有β氢的有机金属试剂作用于在末端具有羰基的含有氟聚醚基的聚合物，从而能够制造由下述通式(1)(式中，Rf为1价或2价的含有氟聚醚基的聚合物残基，X独立地为2...

本发明为一种稀土类碳酸盐微粒的制造方法，其特征在于，通过制作在包含稀土类离子与相对于所述稀土类离子过量的尿素的水溶液中，以添加量相对于所述稀土类离子为10～200mol％的方式添加有具有下述式(1)所表示的结构的烷基二甲基氧化胺化合物或...

本实用新型的目的在于提供一种防护薄膜框架及使用所述防护薄膜框架的防护薄膜组件、带防护薄膜组件的曝光原版及曝光系统、以及半导体或液晶显示板的制造系统，所述防护薄膜框架通过将对于检查光的框架内表面的反射率设置得低，而可尽可能地抑制来自框架的...

本发明提供光掩模坯，其中，抗蚀剂膜相对于含有铬的膜的密合性高，在辅助光掩模的主要图案的分辨率的、线图案的辅助图案的形成中能够实现良好的分辨率极限、良好的CD线性度。光掩模坯(511)在基板上包括被加工膜(21)；从与基板分离的一侧起，包...

本发明提供一种量子点，所述量子点为结晶性纳米颗粒荧光体，所述量子点的表面经含有氟的配体修饰。由此，提供一种具有高稳定性、在添加至含氟树脂中时也不易引起凝集的为结晶性纳米颗粒荧光体的量子点。纳米颗粒荧光体的量子点。

本发明涉及光掩模的制造方法和光掩模坯。通过如下方法由光掩模坯制造光掩模，该光掩模坯包括透明基板、包含硅且不含铬的第一无机膜和包含铬且不含硅的第二无机膜，该第二无机膜与该第一无机膜接触，该方法包括如下步骤：使用抗蚀剂图案通过氟系干蚀刻形成...

本发明涉及光掩模坯料及其制造方法。在包括透明基板和含有过渡金属及硅中的一者或两者的第一无机膜，以及含有过渡金属及硅中的一者或两者的任选第二无机膜的光掩模坯料中，当通过使用Bi的一次离子源和Cs的溅射离子源的TOF

本发明所要解决的技术问题为，提供一种使用了介电损耗角正切低且拉伸强度优异的石英玻璃布的树脂基板。本发明的解决手段为一种低介电树脂基板，其为有机树脂与实施热处理后的退火石英玻璃布复合化而得到的低介电树脂基板，其特征在于，所述退火石英玻璃布...

本发明的导热性有机硅组合物含有各自为特定量的下述成分：(A)一分子中含有2个以上的键合于硅原子的烯基的有机聚硅氧烷；(B)一分子中含有2个以上的键合于硅原子的氢原子的有机氢聚硅氧烷；(C)氢化硅烷化反应用催化剂；(D)振实密度为3.0g...

本发明为一种塑料用脱模剂，其特征在于，其含有下述(A)～(E)成分，且平均粒径为200nm以下。由此，提供一种稀释稳定性、机械稳定性优异，润湿性良好，并且不易在塑料中产生裂纹的作为有机聚硅氧烷的乳液的塑料用脱模剂。100质量份的(A)有...

基板用临时粘接剂的清洗液包含四丁基氟化铵、二甲基亚砜、和溶解度参数为8.0以上且10.0以下、具有杂原子的液态化合物。优选在四丁基氟化铵、二甲基亚砜和液态化合物的合计100质量％中以1质量％以上且15质量％以下的量含有四丁基氟化铵。另外...

本发明的III族化合物基板的制造方法，其特征在于：其是通过气相生长法使III族化合物的晶体(1)在载置并固定于基座(2)的晶种(3)上生长的III族化合物基板的制造方法，在基座(2)和晶种(3)的至少一者的构件中使用可剥离的具有劈开性的...

在分子末端和/或侧链具有由下述通式(1)表示的基团的有机聚硅氧烷的耐热性优异，在加热后也不易着色，并且对于处理后的纤维表面，可赋予优异的柔软性。(上述式(1)中，R1为碳数1～8的2价烃基，a为0～4的整数，R2相互独立地为氢原子、或者...

清洗剂组合物，是为了将在基板上存在的含有有机硅化合物的临时粘接材料除去而使用的清洗剂组合物，所述清洗剂组合物含有(A)有机溶剂：75～99质量份、(B)水：0～5质量份、(C)铵盐：1～20质量份，其中，(A)+(B)+(C)＝100质...