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信越化学工业株式会社专利技术
信越化学工业株式会社共有3967项专利
负型感光性树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、及表面保护膜技术
本发明涉及负型感光性树脂组成物、图案形成方法、硬化被膜形成方法、层间绝缘膜、及表面保护膜。本发明的课题是为了提供在碱水溶液中为可溶,可形成微细的图案并能获得高分辨率,且即使在低温硬化时,断裂延伸率、拉伸强度等机械特性仍良好的负型感光性树...
取代的十一碳烯化合物和取代的十一碳烯基三芳基鏻卤化物及由其制化合物和混合物的方法技术
本发明涉及制备通式(3
热固性柠康酰亚胺树脂组合物制造技术
本发明提供一种热固性柠康酰亚胺树脂组合物,其在固化前为低粘度、能够赋予介电特性优异(低相对介电常数且低介电损耗角正切)、具有低弹性模量并且耐热性也优异的固化物。所述热固性柠康酰亚胺树脂组合物包含(A)柠康酰亚胺化合物、(B)环氧树脂和(...
化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法技术
本发明提供可形成有极高分辨率且LER小而矩形性优异,抑制了显影负载(loading)的影响的图案的抗蚀剂膜的化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。一种化学增幅正型抗蚀剂组成物,包括基础聚合物,该基础聚合物含有:含有酸产生单元、含...
(甲基)丙烯酸类改性硅酮大分子单体制造技术
本发明涉及(甲基)丙烯酸类改性硅酮大分子单体,尤其涉及可成为海中防污涂料用聚合物的原料的(甲基)丙烯酸类改性硅酮大分子单体。本发明的目的在于,提供成为(甲基)丙烯酸系共聚物的原料的(甲基)丙烯酸类改性硅酮大分子单体,所述(甲基)丙烯酸系...
用于制造剥离纸或剥离膜的有机硅组合物、及剥离纸或剥离膜制造技术
将具有特定结构的烯基含量低的有机聚硅氧烷、具有特定结构的烯基含量高的有机聚硅氧烷、不具有芳基的有机氢聚硅氧烷、具有芳基、SiH基的量高的有机氢聚硅氧烷以特定的配混比配混得到的有机硅组合物具有小的剥离力,固化性优异,密合性优异。密合性优异。
生物体电极、生物体电极的制造方法、及生物体信号的测定方法技术
本发明涉及生物体电极、生物体电极的制造方法、及生物体信号的测定方法。本发明为一种生物体电极,其特征为具有:多孔质的伸缩性基材、含有硅的粘着性导电膜、及导电路,该导电膜形成于该多孔质的伸缩性基材的单面,该导电路连接于该导电膜且贯穿该伸缩性...
有机硅粘着剂组合物制造技术
本发明为一种有机硅粘着剂组合物,其含有:(A)一分子中具有两个以上含烯基有机基团且100g中含有0.0002~0.05摩尔烯基的有机聚硅氧烷;(B)含有R
含有聚酰亚胺的聚合物、正型感光性树脂组成物、负型感光性树脂组成物及图案形成方法技术
本发明涉及含有聚酰亚胺的聚合物、正型感光性树脂组成物、负型感光性树脂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供溶剂溶解性良好且可溶于碱性水溶液中,又可形成微细图案且能获得高分辨率的正型感光性树脂组成物及负型感光性树脂组成物;可使用作为它们...
结晶性氧化物半导体膜及氧化镓膜的制造方法、以及纵向型半导体装置的制造方法制造方法及图纸
本发明提供一种结晶性氧化物半导体膜的制造方法,该方法包括以下工序:在衬底上层叠结晶性氧化物半导体层及光吸收层,通过对该光吸收层照射光,使所述光吸收层分解,将所述结晶性氧化物半导体层与所述衬底分离,由此制造结晶性氧化物半导体膜的工序。由此...
加成固化型有机硅压敏粘合剂组合物及其固化物制造技术
不包含非交联性的有机聚硅氧烷树脂的加成固化型有机硅压敏粘合剂组合物作为临时固定材料具有优异的粘合性,可形成其中材料成分的迁移极少的固化物,该组合物含有:(A)在1分子中至少具有2个与硅原子键合的烯基、在25℃下的粘度为0.01~1000Pa
粉体的疏水化度的解析方法、高疏水化度处理着色颜料以及含有其的化妆料技术
本发明评价粉体的疏水性。本发明中,将粉体投入由亲油性溶剂和亲水性溶剂组成的混合溶剂中,在投入了粉体的混合溶剂中添加亲油性溶剂,同时每隔规定时间间隔就测定混合溶剂的电压率R,对于任意的电压率R定义与粉体浓度相关的参数x,定义对于与该x对应...
反射型掩模坯料和反射型掩模制造技术
本发明涉及反射型掩模坯料和反射型掩模。反射型掩模坯料,其为在使用EUV光作为曝光光的EUV蚀刻法中使用的反射型掩模用材料,包括基板、在基板的一个主表面上形成的并反射曝光光的多层反射膜、和在多层反射膜上形成的并吸收曝光光的含有钨、和另一金...
反射型掩模坯料及其制造方法技术
本发明涉及反射型掩模坯料及其制造方法。反射型掩模坯料的吸收体膜用金属和半金属元素选自分别包括在第一、第二和第三区域中的第一、第二和第三元素,其由每种金属和半金属元素的单质的折射率n和消光系数k限定,并且通过所选择的金属和半金属元素形成吸...
防护薄膜框架、防护薄膜组件、带防护薄膜组件的曝光原版及曝光方法、以及半导体装置或液晶显示板的制造方法制造方法及图纸
本发明提供一种防护薄膜框架、防护薄膜组件、带防护薄膜组件的曝光原版及曝光方法、以及半导体装置或液晶显示板的制造方法,所述防护薄膜框架为具有设置防护膜的上端面以及面向光掩模的下端面的框状的防护薄膜框架,其特征在于:在所述防护薄膜框架的内侧...
感光性树脂组合物、感光性树脂覆膜、感光性干膜及图案形成方法技术
提供感光性树脂组合物,该感光性树脂组合物包含(A)具有环氧基和/或酚性羟基的有机硅树脂、(B)由下述式(B)所表示的烷基苯酚酚醛清漆树脂、及(C)光致产酸剂。(式中,R
聚硅氧聚氨基甲酸酯、伸缩性膜、及其形成方法技术
本发明涉及聚硅氧聚氨基甲酸酯、伸缩性膜、及其形成方法。本发明的课题为提供作为具有优异的伸缩性及强度且膜表面的拒水性亦优异的伸缩性膜的材料的聚硅氧聚氨基甲酸酯、伸缩性膜及伸缩性膜的形成方法。解决该课题的手段为一种聚硅氧聚氨基甲酸酯,其特征...
具有频率依赖性小的介电特性的树脂基板制造技术
本发明提供一种树脂基板,其在高频区域内具有低损耗因子且具有频率依赖性小的介电特性。该树脂基板包含有机树脂与石英玻璃布,其特征在于,所述有机树脂在10GHz下测定的损耗因子为0.0002~0.0020且40GHz/10GHz比为0.4~0...
复合基板及其制造方法技术
本发明提供一种能够抑制由于结合后热处理造成的损伤的复合基板的制造方法及通过该方法制造的复合基板。根据本发明的复合基板的制造方法是将作为钽酸锂晶圆或铌酸锂晶圆的压电晶圆与支撑晶圆结合在一起的复合基板的制造方法。该制造方法的特征在于将压电晶...
具有烷氧基甲硅烷基的全氟聚醚化合物及包含其的组合物制造技术
由下述式(1)所表示的含有烷氧基甲硅烷基的全氟聚醚化合物对饱和烃系溶剂具有溶解性,且可形成拒水/拒油性优异的涂布覆膜。[PFPE表示数均分子量为500~5,000的2价的全氟聚醚链,X表示由下述式(2)所表示的基团,(Q1表示碳原子数2...
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