一种陶瓷挤压成型体用组合物，其包括陶瓷材料、水溶性纤维素醚、苯乙烯磺酸盐和水。还提供了一种使用该组合物制备陶瓷挤压成型体的方法。

包括（Ａ）１００重量份可固化的有机树脂和（Ｂ）１－２００重量份在一个分子内具有聚醚、长链烷基和芳烷基的硅油的防垢涂料组合物随着时间流逝有效地防止水生有机物在水下结构上结垢。还提供用该组合物涂布的水下结构。

本发明涉及掺杂二氧化钛的石英玻璃元件及制备方法，该石英玻璃元件具有反射至多７０ｎｍ波长的ＥＵＶ光的表面，其中该表面中的折射率分布在该元件的中心８０％区域内仅具有一个极点。该掺杂二氧化钛的石英玻璃元件具有高精度水平的表面且因此可形成为平整...

本发明描述一种用于简便制备一种式Ｂｒ（ＣＨ↓［２］）↓［ｎ］Ｃｌ表示的高纯度的α－溴，ω－氯烷烃的方法，其中ｎ代表４至１２的一个整数。此方法包括α，ω－二氯烷烃与α，ω－二溴烷烃在一种有机溶剂中反应。一种２０℃的介电常数为２０或更高的含...

一种聚合物，包含高比例的含芳环结构单元，且侧链上含芳香磺酸锍盐，该聚合物用于形成化学放大正性光致抗蚀剂组合物，该组合物对于形成具有高抗蚀性的抗蚀图案是有效的。所述聚合物克服了在用于聚合和纯化的溶剂中以及抗蚀剂溶剂中的溶解问题。

本发明涉及萃取和分离稀土元素的方法。通过在ｐＨ低于３的情形中，使含有作为萃取剂的一缩二乙醇酸一酰胺和作为溶剂的烃或低极性醇的有机相与水相进行接触，从含有第一和第二稀土元素的水相实施溶剂萃取，从而将第一稀土元素萃取到有机相中，使用酸性水溶...

一种有机氢聚硅氧烷，包含至少两个－（ＨＲ１Ｓｉ０）ａ－结构单元，其通过无ＳｉＨ的结构单元连接在一起，其中Ｒ１是单价烃基，并且ａ是２－５０的整数，该有机氢聚硅氧烷是一种新型的交联剂。一种有机硅组合物，包含含烯基的有机聚硅氧烷、有机氢聚硅氧...

本发明涉及一种光掩模制造方法，具体涉及一种从光掩模坯料制造光掩模的方法，该光掩模坯料包括透明衬底以及由含有过渡金属的硅基材料制成的上层和下层构成的遮光膜，上层中的Ｏ＋Ｎ含量比下层中的高。在两个步骤中通过如下加工遮光膜：通过抗蚀图进行氟干...

本发明涉及一种稀土磁体及其制备。通过如下方式制备所述磁体：使包含作为主相的Ｒ１２Ｔ１４Ｂ化合物的Ｒ１－Ｔ－Ｂ烧结体与Ｒ２－Ｍ合金粉末接触并进行热处理，致使Ｒ２元素扩散至烧结体。对包含Ｒ２和Ｍ的熔体进行淬冷获得所述合金粉末。Ｒ１和Ｒ２是稀...

本发明披露了一种对形成于衬底上的加工层的干蚀刻方法，包括步骤：在形成于衬底上的加工层上形成硬掩模层，在该硬掩模层上形成抗蚀剂图形，通过使用该抗蚀剂图形而实施的第一干蚀刻将该抗蚀剂图形转移至所述硬掩模层，并且通过使用以上转移至所述硬掩模层...

本发明提供导热硅橡胶复合片材，其具有优异的电绝缘性、出众的强度和挠性、优异的层间粘合性和特别良好的导热性能。该复合片材包括层状结构，所述层状结构包括内层和一对层压在所述内层的两个表面的外层。内层是电绝缘性合成树脂薄膜层，其具有不低于０．...

本发明涉及一种非水电解质二次电池用负电极材料、制备方法以及锂离子二次电池。本发明的非水电解质二次电池用负电极材料包含通过如下方式制备的复合颗粒：用碳涂层涂覆具有分散在氧化硅中的硅纳米粒子的颗粒的表面，并在酸性氛围中蚀刻经涂覆的颗粒。所述...

热压合用硅橡胶片材，其用于电气、电子设备部件的热压合配线连接工序，该硅橡胶片材是包括导热性硅橡胶片材基材层和设置在其至少一个表面的有机硅保护层的多层热压合用硅橡胶片材，其特征在于：该有机硅保护层包含有机硅加成固化物，相对于１００ｍｏｌ二...

本发明公开了一种光纤预制件的制造方法，是使玻璃棒相对于等离子炬做相对地往复移动，同时在上述玻璃棒的表面附着堆积玻璃微粒的光纤预制件的制造方法，该方法具有如下阶段：去路阶段，将上述等离子炬打在上述玻璃棒上，一边至少向上述等离子炬供给掺杂剂...

一种外刀切削轮，包括呈环形薄碟片形式的硬质合金基体和刀片部分，其通过下述方法来制造：将永磁体片布置在侧表面并在基体外周面以内的位置以形成磁场，将磁体涂覆到金刚石和／或ＣＢＮ研磨颗粒上以使磁场能够作用于颗粒，导致颗粒被磁吸引到基体外周面上...

本发明提供一种正型光阻组合物，其至少含有：（Ａ）基础树脂，其是具有由酸不稳定基保护的酸性官能基的碱不溶性或难溶性的树脂，且在此酸不稳定基脱离时变为碱可溶性；（Ｂ）产酸剂；及（Ｃ）作为碱性成分的含氮化合物；其特征在于：所述基础树脂含有以下...

本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；及提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架的特征在于，防护膜框架的剖面，是在上边与下边平行且面积...

本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使在将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；还提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架的特征在于，防护膜框架杆的剖面，是在上边与下边平行且...

本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使在将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；还提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架，其特征在于，防护膜框架杆的剖面，是在上边与下边平行...

在通过湿法刻蚀微处理合成石英玻璃衬底的方法中，在衬底上形成硅烷或硅氮烷的有机涂层，以及在湿法刻蚀前，在有机涂层上形成光致抗蚀剂膜。