本发明涉及一种用于产生叠加的激光脉冲(30a，b)的方法(12)，所述叠加的激光脉冲分别至少由第一激光脉冲(16a，b)和第二激光脉冲(18a，b)组成。第一激光脉冲和第二激光脉冲(16a，b，18a，b)以不同特性被放大。放大后，第一...

本发明涉及一种用于改变工作激光射束(12)的偏振的方法。工作激光(12)从工作激光源(22)照射到法拉第旋转器(14)上。法拉第旋转器(14)具有维尔德介质(20)和磁铁(16)，该磁铁的磁场穿透维尔德介质(20)。该方法的特征在于，改...

本发明涉及一种聚焦装置(10)，所述聚焦装置尤其用于产生EUV辐射。所述聚焦装置(10)构造为用于，对在靶平面(14)上的靶材料(12)进行照明。所述聚焦装置(10)具有至少一个射束成形元件(26，28)，该射束成形元件的光学轴线(30...

本发明涉及一种CO2射束源(1)，该射束源包括：至少一个放电管(3)，在该至少一个放电管中，激光气体用作激光介质；鼓风机(7)，该鼓风机用于在闭合的激光气体回路中藉由至少一个输入元件(8，9，9')将激光气体输入至少一个放电管(3)中以...

本发明涉及一种

本发明涉及一种

本发明涉及一种设备(10)和方法，该设备和方法用于以简单的方式将多个光学元件(18a

本发明涉及一种可校准的光学组件(10)，包括光学支架(12)，保持在所述光学支架(12)上的光学元件(14)，保持结构(16)，其中，所述光学支架(12)保持在所述保持结构(16)上的球关节(18)中，其中，设置第一校准装置(20)，用...

本发明涉及一种用于过滤激光辐射的光学装置(20)。所述装置(20)具有波长选择元件(28)、第一法布里

描述了一种用于EUV辐射源的激光聚焦系统(330)，所述激光聚焦系统包括：

本发明涉及一种用于调整激光射束(1)的方法，包括：借助探测器装置(6)的至少一个优选地点分辨的探测器(6a)来测量在穿过射束成形装置(4)之后激光射束(1)的射束轮廓(15，16)；基于所测量的射束轮廓(15，16)，求取所述激光射束(...

本发明涉及一种尤其用于偏振激光射束(30)的光学组件(23)，其包括具有射束入射面(5a、6a、...)和射束出射面(5b、6b、...)的多个板状光学元件(5、6、...)和用于共同固定板状光学元件(5、6、...)的保持件(1)。在...

本发明涉及一种用于将激光束(3)聚焦在目标区域(5)中的聚焦装置(15)，其尤其用于产生EUV辐射(7)，其包括：用于扩宽所述激光束(3)的抛物面镜(16)，以及用于将经扩宽的激光束(3)聚焦在所述目标区域(5)以内的焦点位置(P2)上...

本发明涉及一种反射光学元件(16)，其包括：内部的第一表面区域(18a)，用于对照射到反射光学元件(16)上的光束(3)的第一内辐射分量(20a)进行反射以形成第一反射光束(21a)；以及至少一个外部的第二表面区域(18b)，用于对照射...

本发明涉及一种偏振器装置(1)，该偏振器装置用于使激光射束(2)偏振，该偏振器装置包括：布置在激光射束(2)的射束路径中的多个板状光学元件(5，16)，所述多个板状光学元件分别具有用于激光射束(2)的射束入射面(5a，6a，...)以及...

本发明涉及一种射束阱(20)，其包括：用于反射入射到所述反射器(21)的表面上的射束、尤其激光射束(5)的反射器(21)，以及用于吸收在所述反射器(21)的表面(21a)处经反射的射束的吸收器装置(22)。所述反射器(21)的表面是分段...

本发明涉及一种EUV辐射产生设备(1)，其包括：真空室(4)以及用于将来自驱动激光装置(2)的激光射束(5)朝目标位置(Z)方向引导的射束引导室(3)，在所述真空室中为了产生EUV辐射(14)可以将靶材料(13)设置在所述目标位置(Z)...