具有分离装置的制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有分离装置的EUV光源


[0001]本专利技术涉及一种极紫外线
(EUV)
光源，包括：提供装置，该提供装置用于提供目标材料
(Targetmaterial)
；预脉冲激光源，该预脉冲激光源用于发射处于至少一个预脉冲波长的至少一个预脉冲激光束；主脉冲激光源，该主脉冲激光源用于发射处于不同于该至少一个预脉冲波长的主脉冲波长的主脉冲激光束；预脉冲射束引导装置，该预脉冲射束引导装置用于将来自预脉冲激光源的至少一个预脉冲激光束输送到辐射发生室中，并且用于分别使用该至少一个预脉冲激光束的至少一个预脉冲来聚焦地照射辐射发生室内的目标材料；以及主脉冲射束引导装置，该主脉冲射束引导装置用于将来自主脉冲激光源的主脉冲激光束输送到辐射发生室中，并且用于分别使用主脉冲激光束的主脉冲聚焦地照射辐射发生室内的目标材料，该目标材料构造为由于该照射而发射
EUV
辐射
。

技术介绍

[0002]EUV
光源是用于发射
EUV
辐射的辐射源
。EUV
辐射表示波长在
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种
EUV
光源
(1)
，包括：
–
提供装置
(3)
，所述提供装置用于提供目标材料
(4)
，
–
预脉冲激光源
(5)
，所述预脉冲激光源用于发射处于至少一个预脉冲波长
(
λ
V
)
的至少一个预脉冲激光束
(9)
，
–
主脉冲激光源
(6)
，所述主脉冲激光源用于发射处于不同于所述至少一个预脉冲波长
(
λ
V
)
的主脉冲波长
(
λ
H
)
的主脉冲激光束
(10)
，
–
预脉冲射束引导装置
(7)
，所述预脉冲射束引导装置用于将所述至少一个预脉冲激光束
(9)
从所述预脉冲激光源
(5)
输送到辐射发生室
(2)
中，并且用于分别使用所述至少一个预脉冲激光束
(9)
的至少一个预脉冲
(11)
聚焦地照射所述辐射发生室
(2)
内的目标材料
(4)
，以及
–
主脉冲射束引导装置
(8)
，所述主脉冲射束引导装置用于将主脉冲激光束
(10)
从所述主脉冲激光源
(6)
输送到所述辐射发生室
(2)
中，并且用于分别使用所述主脉冲激光束
(10)
的主脉冲
(12)
聚焦地照射所述辐射发生室
(2)
内的目标材料
(4)
，其中，所述目标材料
(4)
构造为，由于所述照射而发射
EUV
辐射
(19)
，其特征在于，所述预脉冲射束引导装置
(7)
具有至少一个分离装置
(22)
，所述至少一个分离装置构造为，将不包括所述至少一个预脉冲波长
(
λ
V
)
的至少一个波长范围内的
、
从所述辐射发生室
(2)
进入所述预脉冲射束引导装置
(7)
的干扰辐射
(21)
以聚焦方式反射返回所述辐射发生室
(2)
中或者以聚焦方式反射到至少一个射束阱
(24)
中
。2.
根据权利要求1所述的
EUV
光源
(1)
，其特征在于，所述分离装置
(22)
构造为，将所述主脉冲
(12)
的
、
在所述目标材料
(4)
处反向散射的部分
(21)
的形式的干扰辐射
(21)
以聚焦方式反射返回所述辐射发生室
(2)
中或者以聚焦方式反射到所述至少一个射束阱
(24)
中
。3.
根据前述权利要求中任一项所述的
EUV
光源
(1)
，其特征在于，所述分离装置
(22)
构造为，将不包括所述至少一个预脉冲波长
(
λ
V
)
的至少一个波长范围内的
、
由于所述目标材料
(4)
的照射而发射的辐射
(25)
的形式的干扰辐射
(21)
以聚焦方式反射返回所述辐射发生室
(2)
中或者以聚焦方式反射到所述至少一个射束阱
(24)
中
。4.
根据前述权利要求中任一项所述的
EUV
光源
(1)
，其特征在于，所述分离装置
(22)
构造为反射所述预脉冲
(11)。5.
根据权利要求4所述的
EUV
光源
(1)
，其特征在于，所述分离装置
(22)
包括二向色镜
(26)
和弯曲偏转镜
(28)
，其中，所述二向色镜
(26)
用作用于反射所述预脉冲
(11)
的转向镜，并且构造为，透射不包括所述至少一个预脉冲波长
(
λ
V
)
的至少一个波长范围内的干扰辐射
(21)
，并且其中，所述弯曲偏转镜
(28)
构造为将由所述二向色镜
(26)
透射
、

【专利技术属性】
技术研发人员：O，
申请(专利权)人：通快激光系统半导体制造有限公司，
类型：发明
国别省市：