【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于将至少两个激光射束聚焦到在目标区域中运动的靶材料上用以产生euv(extrem ultravioletter，极紫外线)辐射、优选用以光刻的聚焦装置，其中，该聚焦装置具有下述内容：a)第一聚焦元件，该第一聚焦元件用于在目标区域中的第一位置上将第一激光射束聚焦到靶材料上；b)第二聚焦元件，该第二聚焦元件用于在目标区域中的第二位置上将第二激光射束聚焦到靶材料上；c)反射光学元件，该反射光学元件用于反射由靶材料产生的euv辐射。另外，本专利技术涉及一种具有这样的聚焦装置的euv射束产生设备。
技术介绍
1、本申请人已知这样的聚焦装置和这样的euv射束产生设备。然而，这涉及内部的、未公开的现有技术。
2、另外的聚焦装置或euv射束产生设备由wo 2015/036024 a1和wo 2015/036025a1已知。
3、这些聚焦装置或euv射束产生设备的缺点在于，由于从相应不同的方向在目标区域中的不同位置上将相应的激光射束聚焦到靶材料上，靶照射的效率被降低。
技术实现思路
1、因此，本专利技术的任务在于，提供一种聚焦装置和一种euv射束产生设备，该聚焦装置和该euv射束产生设备能够实现对靶材料的显著更高效的照射。
2、根据本专利技术，该任务通过根据权利要求1所述的聚焦装置和根据权利要求8所述的euv射束产生设备解决。从属权利要求反映优选的扩展方案。
3、因此，该任务通过开头描述的聚焦装置解决，该聚焦装置的特征在于下述特征：
4、c)第一聚焦元件的和/或第二聚焦元件的光学轴线，所述光学轴线尤其在±4°以内、尤其是在±2°以内与所述反射光学元件的光学轴线平行地或者叠合地(deckungsgleich)定向。
5、由此得出，第一聚焦元件的图像平面和/或第二聚焦元件的图像平面与反射光学元件的光学轴线垂直地或者几乎垂直地定向。尤其是，靶材料可以在如下平面(靶平面)中运动：该平面与反射光学元件的光学轴线几乎垂直或者垂直并且因此与两个聚焦元件的图像平面中的一个图像平面几乎平行、平行或者叠合。通过使聚焦光学元件中的至少一个聚焦光学元件的光学轴线与反射光学元件的光学轴线几乎平行地、平行地或者叠合地定向，能够特别有效地照射靶材料。
6、在此，反射光学元件尤其适合用于反射如下euv辐射：所述euv辐射在借助激光辐射照射靶材料时被发射。反射光学元件可以例如构造为近正入射收集器镜(near-normalincidence kollektorspiegel)，该近正入射收集器镜具有呈回转椭圆面(rotationsellipsoid)形式的反射表面，其中，该反射光学元件在如下区域附近或者中具有第一焦点：在该区域中，借助一个或者多个激光射束照射靶材料。
7、换言之，根据本专利技术建议，两个聚焦元件的至少一个、优选两个光学轴线与靶材料的飞行方向或飞行轨迹垂直地或者几乎垂直地定向，其中，该靶材料在目标区域中从第一位置运动至第二位置。在此，第一激光射束可以在聚焦装置的第一射束路径上被引导到目标区域中。第二激光射束可以在聚焦装置的第二射束路径上被引导到目标区域中。在此，第一和/或第二射束路径的主轴线可以平行地相对于聚焦元件的光学轴线错位或者倾斜。与此相比，在“经典的”成像中，光学轴线与激光射束的射束路径的主轴线同轴。由此，两个光学轴线必须相对于彼此倾斜，以便在近场中在位置上将激光射束分开并且在远场中将激光射束相互叠加。
8、在一种优选的实施方式中，聚焦元件可以具有平行的或者相同的、尤其是在±4°以内、优选在±2°以内平行的或者相同的光学轴线。由此得出用于两个聚焦元件的几乎平行的、平行的或者叠合的图像平面。由此，能够特别有效地照射靶材料。
9、第一聚焦元件可以构造呈元件组的形式。替代于此地或者除此之外，第二聚焦元件可以构造呈元件组的形式。
10、优选地，第一射束路径的主轴线不与第一聚焦元件的光学轴线同轴地延伸。优选地，第二射束路径的主轴线不与第二聚焦元件的光学轴线同轴地延伸。
11、射束路径的相应的主轴线可以在聚焦元件之前被准直并且可以是共线的。在一种可能的替代的构型中，经准直的各个激光射束也可以不彼此平行地布置。
12、如果激光射束中的一个或者多个激光射束在光路中在相应的聚焦元件前方倾斜地成像(例如在穿过准直透镜时，该准直透镜的光学轴线相对于激光射束的传播方向倾斜地定向)，则聚焦元件优选根据scheimpflug条件相对于垂直于激光射束的射束路径的主轴线的平面倾斜，以便在如下平面中定向图像平面：靶材料在该平面中运动。如果经准直的各个激光射束不彼此平行地布置，则聚焦元件、尤其是所述聚焦元件的主平面优选根据scheimpflug条件相对于垂直于激光射束的射束路径的主轴线的平面倾斜，以便在如下平面中定向焦点平面靶材料在该平面中运动。
13、优选地，靶材料构造呈锡滴的形式。在锡滴中，通过借助激光辐射进行照射，可以生成等离子体，该等离子体发射euv辐射。
14、进一步优选地，第一射束路径的主轴线和/或第二射束路径的主轴线尤其平行地相对于相应的聚焦元件的光学轴线错位。由此，一个聚焦元件或者两个聚焦元件相对于其相应的光学轴线非旋转对称地构造。由此，可以实现在图像平面中的无失真的投影。例如，在横截面中圆形的一个激光射束或多个激光射束可以具有圆形的投影。
15、特别优选地，至少一个聚焦元件可以构造呈旋转对称的聚焦元件的片段的形式。由此，聚焦装置在结构上构造得特别简单，并且射束路径能够相对较容易计算。
16、如果射束路径的主轴线是错位的，则运动的靶材料可以在时间上错开地被两个激光射束照射。换言之，运动的靶材料可以在时间上(并且因此也在位置上)错位地被击中，其方式是，两个聚焦光学元件的光学轴线彼此平行地移位，使得每个光学轴线都穿过相应的靶材料。聚焦元件的光学轴线优选以小于3mm、尤其是小于1mm的方式相对于彼此错位。
17、进一步优选地，至少一个聚焦元件、尤其是两个射束成形元件可以构造呈透镜或者反射镜的形式。在反射镜的情况下，可以尤其使用离轴抛物面镜或者由离轴抛物面镜和离轴椭圆面镜组成的组合。
18、第一射束成形元件和/或第二射束成形元件可以布置在真空室内。该真空室可以具有第一开口和/或第二开口，该第一开口用于第一激光射束进入到真空室中，该第二开口用于第二激光射束进入到真空室中。
19、在第一射束路径中和/或在第二射束路径中，可以设置有转向镜、尤其是双镜组件。双镜组件导致显著的、优选甚至完全的散光降低(参见seunghyuk chang的:linearastigmatism of confocal off-axis reflectiveimaging systems with n-conicmirrors and its elimination；美国光学学会杂志a,第32卷第5期/2015年5月，第852-859页)。然而，在该布置中，不是在本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.用于将至少两个激光射束聚焦到在目标区域(62)中的运动的靶材料(12)上用以产生EUV辐射的聚焦装置(10)，所述聚焦装置具有：
2.根据权利要求1所述的聚焦装置，所述聚焦装置设立为用于，
3.根据权利要求2所述的聚焦装置，在所述聚焦装置中，所述第一射束成形元件(26)构造呈如下聚焦元件的片段的形式：所述聚焦元件相对于所述聚焦元件的光学轴线(30)旋转对称地构造；和/或
4.根据上述权利要求中任一项所述的聚焦装置，在所述聚焦装置中，所述第一聚焦元件(26)的和所述第二聚焦元件(28)的光学轴线(30，32)与所述反射光学元件(70)的光学轴线(72)几乎平行地、平行地或者叠合地定向，并且所述第一聚焦元件(26)的和所述第二聚焦元件(28)的光学轴线(30，32)以小于3mm的方式相对于彼此错位。
5.根据上述权利要求中任一项所述的聚焦装置，在所述聚焦装置中，所述第一射束成形元件(26)构造呈透镜或者反射镜的形式；和/或
6.根据上述权利要求中任一项所述的聚焦装置，在所述聚焦装置中，所述第一射束聚焦装置元件(26)在射
7.根据上述权利要求中任一项所述的聚焦装置，所述聚焦装置设立为用于，将第三激光射束(50)沿着第三主轴线(54)从所述第一射束成形元件(26)引导到所述目标区域(62)中，其中，所述第三主轴线(54)相对于所述第一激光射束(18)的第一主轴线(42)成大于2°、尤其是大于4°的锐角。
8.EUV射束产生设备(55)，所述EUV射束产生设备具有真空室(64)、根据上述权利要求中任一项所述的聚焦装置以及具有第一射束源(56)和第二射束源(58)，靶材料(12)能够被引入到所述真空室中进入所述目标区域(62)中用以产生EUV辐射，所述聚焦装置用于将至少两个激光射束聚焦到在所述目标区域(62)中的运动的靶材料(12)上，所述第一射束源用于产生第一激光射束(18)，所述第二射束源用于产生第二激光射束(20)。
9.根据权利要求8所述的EUV射束产生设备，在所述EUV射束产生设备中，所述第一激光射束(18)具有第一波长，所述第二激光射束(20)具有第二波长，所述第二波长与所述第一波长不同。
10.根据权利要求9所述的EUV射束产生设备，在所述EUV射束产生设备中，所述第一波长在500与1200nm之间，所述第二波长在8μm与12μm之间。
11.根据权利要求8至10中任一项所述的EUV射束产生设备，在所述EUV射束产生设备中，所述第一激光射束(18)是脉冲式的和/或所述第二激光射束(20)是脉冲式的。
12.根据权利要求8至11中任一项所述的EUV射束产生设备，以及根据权利要求8所述的聚焦装置，其具有第三射束源(60)，所述第三射束源用于产生第三激光射束(50)。
13.根据权利要求12所述的EUV射束产生设备，在所述EUV射束产生设备中，所述第三激光射束(50)是脉冲式的和/或具有与所述第二激光射束(20)不同的波长和/或与所述第二激光射束(20)不同的偏振。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.用于将至少两个激光射束聚焦到在目标区域(62)中的运动的靶材料(12)上用以产生euv辐射的聚焦装置(10)，所述聚焦装置具有：
2.根据权利要求1所述的聚焦装置，所述聚焦装置设立为用于，
3.根据权利要求2所述的聚焦装置，在所述聚焦装置中，所述第一射束成形元件(26)构造呈如下聚焦元件的片段的形式：所述聚焦元件相对于所述聚焦元件的光学轴线(30)旋转对称地构造；和/或
4.根据上述权利要求中任一项所述的聚焦装置，在所述聚焦装置中，所述第一聚焦元件(26)的和所述第二聚焦元件(28)的光学轴线(30，32)与所述反射光学元件(70)的光学轴线(72)几乎平行地、平行地或者叠合地定向，并且所述第一聚焦元件(26)的和所述第二聚焦元件(28)的光学轴线(30，32)以小于3mm的方式相对于彼此错位。
5.根据上述权利要求中任一项所述的聚焦装置，在所述聚焦装置中，所述第一射束成形元件(26)构造呈透镜或者反射镜的形式；和/或
6.根据上述权利要求中任一项所述的聚焦装置，在所述聚焦装置中，所述第一射束聚焦装置元件(26)在射束方向上看布置在双镜组件的后方；和/或
7.根据上述权利要求中任一项所述的聚焦装置，所述聚焦装置设立为用于，将第三激光射束(50)沿着第三主轴线(54)从所述第一射束成形元件(26)引导到所述目标区域(62)中，其中，所述第三主轴线(54)相对于所述第一激光射束(18)的第一主轴线(42)成大于2°、尤其是大于4°的锐角。
8....
【专利技术属性】
技术研发人员：B·雷加阿尔德，
申请(专利权)人：通快激光系统半导体制造有限公司，
类型：发明
国别省市：
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