射束阱、射束引导装置、EUV辐射产生设备和用于吸收射束的方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种射束阱(20)，其包括：用于反射入射到所述反射器(21)的表面上的射束、尤其激光射束(5)的反射器(21)，以及用于吸收在所述反射器(21)的表面(21a)处经反射的射束的吸收器装置(22)。所述反射器(21)的表面是分段的并且具有多个反射器区域(23a‑g)，所述多个反射器区域构造用于将所述入射射束的相应的部分射束(25a‑g)反射到所述吸收器装置(22)的分配给所述相应的反射器区域(23a‑g)的吸收器区域(26a‑g)。本发明专利技术也涉及一种具有这种射束阱(20)的射束引导装置、具有这种射束引导装置的EUV辐射产生设备(1)以及所属的用于吸收射束、尤其用于吸收激光射束(5)的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】射束阱、射束引导装置、EUV辐射产生设备和用于吸收射束的方法
本专利技术涉及一种射束阱(Strahlfalle)以及用于将激光射束引导到目标区域的方向上用于产生EUV辐射的射束引导装置，所述射束引导装置具有这种射束阱。本专利技术也涉及一种具有这种射束引导装置的EUV辐射产生设备以及一种用于吸收射束、尤其用于吸收激光射束的方法。
技术介绍
用于吸收不期望的激光辐射的辐射能量的射束阱已由DE102010036161A1已知。那里所描述的射束阱包括两个反射器，其中，所述两个反射器中的至少一个设有吸收辐射能量的涂层。所述两个反射器如此相对于彼此定位，使得入射到第一反射器上的并且在此经反射的激光辐射指向所述第二反射器。入射到所述第二反射器上并且在此经反射的激光辐射指向回到所述第一反射器，使得在多次反射和在此持续的部分的吸收之后，吸收所述激光辐射的辐射能量。在EP1950000A1中描述了一种具有用于产生射束并且具有射束捕捉装置的射束发生器的设备。该射束捕捉装置具有具有彼此相对的平面表面的铝板。将射束指向射束捕捉装置并且通过在射束捕捉装置中的从第一表面到第二表面和从第二表面到第一表面的反复的反射本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种射束阱(20)，其包括：用于反射一入射到所述反射器(21)的表面(21a)上的射束、尤其激光射束(5)的反射器(21)，以及用于吸收在所述反射器(21)的表面(21a)处经反射的射束的吸收器装置(22)，其中，所述反射器(21)的表面(21a)是分段的并且具有多个反射器区域(23a‑g)，所述多个反射器区域构造用于将入射射束的相应的部分射束(25a‑g)反射到所述吸收器装置(22)的分配给相应的反射器区域(23a‑g)的吸收器区域(26a‑g)中。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种射束阱(20)，其包括：用于反射一入射到所述反射器(21)的表面(21a)上的射束、尤其激光射束(5)的反射器(21)，以及用于吸收在所述反射器(21)的表面(21a)处经反射的射束的吸收器装置(22)，其中，所述反射器(21)的表面(21a)是分段的并且具有多个反射器区域(23a-g)，所述多个反射器区域构造用于将入射射束的相应的部分射束(25a-g)反射到所述吸收器装置(22)的分配给相应的反射器区域(23a-g)的吸收器区域(26a-g)中。2.根据权利要求1所述的射束阱，其中，分段的表面(21a)构造所述反射器(21)的环绕的、优选旋转对称的罩面。3.根据权利要求1或2中任一项所述的射束阱，其中，所述反射器区域(23a-g)布置成同心地围绕所述反射器(21)的中心轴(24)。4.根据上述权利要求中任一项所述的射束阱，其中，所述反射器区域(23a-g)构造为抛物面或圆环面。5.根据权利要求4所述的射束阱，其中，在相应的抛物面或圆环面(23a-g)与所分配的吸收器区域(26a-g)之间构造有相应的抛物面或圆环面(23a-g)的环形线状焦点(27a-g)。6.根据上述权利要求中任一项所述的射束阱，其中，所述吸收器装置(22)具有用于使射束穿过到所述反射器(21)的分段的表面(21a)的圆柱形开口(30)。7.根据上述权利要求中任一项所述的射束阱，其中，所述反射器(21)由金属材料、尤其铜构成。8.根据上述权利要求中任一项所述的射束阱，其中，所述吸收器装置(22)的相应的吸收器区域构造为具有用于入射射束的相应的部分射束(25a-g)的尤其环形的进入开口(28-g)的吸收器室(26a-g)。9.根据权利要求8所述的射束阱，其中，所述吸收器室(26a)构造在两个平行定向的、优选平面的吸收器面(31a，32a)之间。10.根据权利要求8或9所述的射束阱，其中，所述吸收器室(26a)在与所述进入...

【专利技术属性】
技术研发人员：M·兰贝特，
申请(专利权)人：通快激光系统半导体制造有限公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE