本发明提供一种缺陷模拟系统与方法。该缺陷模拟系统包括缺陷布局数据产生器及处理器。该缺陷布局数据产生器，其提供一组缺陷布局数据，其包含一预定数量的点缺陷，其中该点缺陷的面积为至少一种预定尺寸。该处理器，其比较该缺陷布局数据和一预定的包含多...

本发明提供一种天线比决定方法，具体为一种决定电路中内连线的天线比的方法。上述内连线可绕穿至少一连接层且与至少一栅极氧化区耦接。每一连接层上所有构成元件的累积天线比，是考量与上述相关栅极氧化区耦接的既定连接层上每一构成元件，以及耦接于目前...

一种芯片布局数据集合与封装基板布局数据集合的整合式检错方法及系统。封装基板布局数据集合从第一格式被转换成第二格式，其中芯片布局数据集合以该第二格式呈现。合并属第二格式的上述芯片布局数据集合及上述封装基板布局数据集合，成为合并数据集合。接...

一种用以处理掩膜设计输出要求的系统。模板数据库存储多个用于不同工艺技术的掩膜制具模板，每一模板包含用于该工艺技术的其中之一的不同工艺的一组掩膜制具设定。查询数据库存储关于该工艺的掩膜制具数据的相异点的查询层级。处理器用以接收界定该掩膜设...

一种错误位置识别方法以及结合纯逻辑与物理布局信息的系统，适用于集成电路制造公司不需通过布局对线路图验证工具就可识别位于集成电路中的物理错误位置。该方法包括以下步骤：通过至少一个测试向量测试集成电路以识别集成电路中的错误部分；通过测试向量...

本发明提供一种速度或电力关键电路中用多临界电压基本设计单元的方法。所述在速度关键电路中使用多临界电压基本设计单元的方法，包括：使用一或多低临界电压基本设计单元，形成上述速度关键电路的初步实体布局；在不违反一速度限制的条件下，用一或多高临...

一种数据检索系统及方法，执行于一信息提供模块中，其中上述信息提供模块储存并提供制造工程数据集合。上述信息提供模块连接一网络。从上述网络接收一第一操作。响应上述第一操作经由上述网络提供上述工程数据集合的一部分。根据上述工程数据集合的上述部...

本发明公开一种字符转换方法与系统。该方法包括：首先取得以第一字符集编码的至少一个字符，其中该第一字符集依据单码世界字符标准，并且每一字符依据该第一字符集编码为第一字符码；再将每一该字符的该第一字符码转换为数值字符参考，其中该数值字符参考...

一种计算机可读介质以及数据处理系统，该数据处理系统包括：选取对应于一应用程序的一图形对象；将上述图形对象对应于一工作识别器；以及以上述图形对象的一图像显示上述工作识别器。用以将应用程序对应于用户工作。选取对应于应用程序的图形对象。图形对...

一种打印多数据来源的方法、计算机可读媒体及数据处理系统。搜集多个数据来源。每个数据来源分配至多个页面图像之一，其中每个页面图像具有逻辑表示法来表示连续页面之一上即将被打印的数据来源。分配至页面图像之一的一些数据来源不受到分配至其他页面图...

本发明提供一种商业评估系统及方法及相关成本利益预测方法，用于集成电路设计缩减的商业评估，用以预测可缩减合格率，依据本发明的一实施例提供一个评估系统来判断一集成电路芯片的一设计缩减的成本利益。该成本利益预测方法包括：依据该集成电路芯片的一...

本发明提供集成电路模拟方法与系统、静态随机存取存储器设计方法，其中适用于模拟集成电路的模拟系统，包括一程序变量产生器，产生一程序参数的一第一统计分布，一功效参数分布产生器，产生上述程序参数的一第二统计分布，一应力产生器，在一应力条件下产...

本发明是有关于一种划分图案布局的方法，包括：提供图案布局，其中此图案布局具有多个特征；检查图案布局以判定需划分的特征；以第一颜色与第二颜色对需划分的特征进行着色步骤；藉由分解具有图案冲突的特征以及将此分解特征涂上第一颜色与第二颜色，来解...

一种检查光掩模的方法与系统、计算机可读取的存储介质，该检查光掩模的方法包括将来自一发光源的光导入一光掩模的一第一面，使得该光的至少一部分透过该光掩模传送。从该光透过该光掩模被传送且从该光掩模的一第二面可观察的部分检测一第一光掩模图像。通...

本发明提出一种以网络为基础的集成电路测试线产生方法与系统。此系统包括用以产生并传送一请求的使用者界面以及用以自使用者界面接收请求的一测试线产生器，其中上述请求详细指明测试线所需的配置，测试线产生器根据请求产生包括测试线所需的信息的一布局...

一种为掩模设计执行数据准备的系统、方法和计算机可读媒体。接收集成电路的设计且执行数个光学临近修正前处理程序，使得这些光学临近修正前处理程序同时进行。执行光学临近修正处理程序以响应每一光学临近修正前处理程序均已完成的决定。执行光学临近修正...

一种检测并校正半导体装置的方法。该方法用以得到布局。该方法包括，将第一热点规则组合应用在整体布线，以产生详细布线；将第二热点规则组合应用在该详细布线，以产生后详细布线；以及将第三热点规则组合应用在该后详细布线，以产生该布局。在其它方法，...

本发明涉及一种在一单一层中程序化安排具有至少一第一电压与第二电压的电路的方法，其包括分别地限定对应第一电压与第二电压的第一层类型与第二层类型。指定第一层类型的至少一第一属性与第二层类型的至少一第二属性。指定具有第一电压的至少一第一网络与...

本发明涉及一种在集成电路（ＩＣ）执行统计静态时序分析的方法，其包括：于集成电路的一预定操作期间，识别集成电路中的多个开启装置；只选择多个开启装置的库；以及只使用所选择的库，计算集成电路的时间延迟。其中，用以计算时间延迟的库的数量是减少的。

本发明涉及一种取得集成电路内寄生接触／介层电容的系统及方法。使用本系统的寄生取得考虑实际接触／介层形状及尺寸变化，可导致接触／介层寄生电容取得的准确性改善。各种实施例的相同特征为包含产生一技术档案之步骤，其中电容表中的接触／介层电容由一...