本发明提供一种以计算机执行的双态制造数据处理方法及系统及所制造的集成电路产品。该双态制造数据处理方法包含如下步骤：建立一种数据分析样态。从各种来源收集制造数据，并将所述制造数据分类成至少两种预定类别数据型态。分析所述数据型态的其中一种的...

本发明揭露一种过滤制程数据的方法及其系统，用以过滤送到一统计控制模型的制程数据，以提升该控制模型的性能。该数据过滤器从一组制程数据中选取一组样版数据、形成包括该组样版数据以及一组采样数据的一组网格、并计算出该组网格中的一网格的每一点间的...

本发明是有关于一种微影制程的曝光装置及方法，该微影制程的曝光装置，至少包括可变聚焦元件。可变聚焦元件可包含在电场存在下可被变形的透明膜。透明膜的变形可允许放射光束的焦距作调整。在一实施例中，可调整可变聚焦元件，藉以提供曝光目标上的第一位...

本实用新型提供了一种具有双嵌附层的减光型相移光罩，其包括：一透明基底；一透光性嵌附层覆盖于透明基底上；以及一稳定性嵌附层覆盖于透光性嵌附层上，透光性嵌附层与稳定性嵌附层构成一双嵌附层，其中稳定性嵌附层的化学稳定性比透光性嵌附层佳，双嵌附...

本实用新型提供一种浸润式光刻系统。该光刻系统由一个光学表面、一个与光学表面的一部分接触且ｐＨ值小于７的浸润流体、以及一个上表面形成有光阻层的半导体结构所构成，其中该光阻层的部分表面与浸润流体接触。本实用新型提供的光刻系统，不仅提高了分辨...

本发明揭露一种光罩组合及应用此光罩组合制造接触洞（Ｃｏｎｔａｃｔ　Ｈｏｌｅ）的方法，其是在形成半导体元件的接触洞时，利用构装光罩（Ｐａｃｋｅｄ　Ｍａｓｋ）及解除光罩（Ｕｎｐａｃｋｅｄ　Ｍａｓｋ）的组合，以构装与解除（Ｐａｃｋｉｎｇ　Ａｎ...

本发明揭露一种交替式相移光罩（ＡｌｔｅｒｎａｔｉｎｇＰｈａｓｅ－ＳｈｉｆｔｉｎｇＭａｓｋ；ＡｌｔＰＳＭ）及其相对应的解除光罩（ＵｎｐａｃｋｉｎｇＭａｓｋ），以及利用构装的交替式相移光罩与解除光罩，以构装及解除（ＰａｃｋｉｎｇＡｎ...

本发明公开了一种抗静电光罩（ｒｅｔｉｃｌｅ）的制造方法，其依藉在光罩制造过程中，采用马南根尼干燥技术（Ｍａｒａｎｇｏｎｉ　ｄｒｙｅｒ）进行干燥处理并将抗静电材料加入异丙醇（ＩＰＡ），以在干燥处理期间同时于光罩表面上涂布形成一抗静电层作为...

本发明公开了一种可装设数块光罩的光罩支架及微影曝光系统。一种可装设数块光罩的光罩支架，具有复数个窗口，可装设复数个光罩，以进行微影曝光程序，并在晶圆上定义由这些光罩所组合成的曝光结合区域，其中在每一个光罩的侧边上具有微调装置，可在装设光...

一种光罩平放装置，在第一实施例中，光罩平放装置，同时容置两并排的两光罩，并排后长边沿着扫描方向，因此，第一次照光后，晶圆的相邻像场被使用以不同的光罩照光，在第二次照光时，再将每一像场补以另一光罩照光，而达到每一像场皆使用两个光罩照光的效...

本发明提供一种消除微影制程中线末端变短效应的方法，其步骤为：（１）曝光此感光层于第一罩幕下，其中将感光层所欲形成的图案上的每一条线或开口的末端往外延伸一第一延长部分所形成的图案，即为第一罩幕的图案；（２）曝光此感光层于第二罩幕下，其中第...

本发明是一种防止静电破坏的光罩，首先在光罩的铬金属接近边缘处形成一环形图案，其中该环形图案具内封环，与彼此相隔等距且与内封环成平行排列的复数个分离外封环。而，内、外封环间具有复数个微细小针，每一微细小针的一端分别和内、外封环的其中的一连...

本发明揭露一种光罩组合，包括：一第一光罩，具有平行且交错排列的复数相位０度透光区与复数相位１８０度透光区；以及一第二光罩，具有一透明基底与一条状遮光层，其中上述条状遮光层覆盖于上述透明基底部分表面，上述条状遮光层的宽度不小于上述相位０度...

一种曝光装置及曝光方法。为提供一种降低制程成本、提高光罩上透明板光学性质、适用于短波长光源的半导体制造设备及方法，提出本发明，其曝光方法包括提供光罩，并将保护盖固定于光罩表面；将覆盖保护盖的光罩移入曝光准备室内部；于曝光准备室内部拆除保...

本发明涉及一种曝光系统及其曝光方法，利用在欲曝光的晶片与镜头之间提供一液体，以提高曝光路径的折射率。此曝光系统至少包括：一液体槽，用以承载液体；一晶片支撑装置，设置于液体槽内部，用以支撑晶片，使得晶片表面与液体接触；以及一曝光装置，具有...

一种光罩保护膜的卸除装置，其特征在于，至少包括：　　　　一底座元件，该底座元件上具有至少一滑动轴；　　　　至少一承载与固定元件，该至少一承载与固定元件置于该底座元件上，且用以承载及固定具有一光罩保护膜的一光罩；　　　　至少一把手固定元件...

本发明涉及一种防止产生光阻残渣的方法。至少包括：提供一基底，在基底上形成有一介电层；接着，在介电层上形成一无氮类抗反射层；最后，在无氮类抗反射层上形成一光阻图案层，确保期间无氮类抗反射层不与光阻图案层交互作用因此不会形成光阻残渣（ｓｃｕ...

本发明光致抗蚀剂层的显影方法提供一种形成一光致抗蚀剂掩膜的方法。该方法包括：形成一光致抗蚀剂材料层于一晶圆上并以一光源对该光致抗蚀剂层曝光，接着对该光致抗蚀剂层显影。在该晶圆烘干前，以一种或多种清洗液清洗晶圆。清洗液可包括表面活性剂、酸...

本案公开一种于光刻步进及扫描投影系统中实现于两或多个失焦位置之两或多个失焦晶片图像之分离重叠的方法。该方法包含使掩膜板及晶片中之一个相对于扫描方向倾斜，以及将光束分开于位于该掩膜板之不同失焦区中之至少两个发光区域。

本发明是有关于一种浸润式微影方法，其至少包括以下步骤：形成光阻于基板上；利用由至少一百万赫兹超音波源振动的冲洗液来冲洗光阻；当光阻浸于液体内时，将光阻曝露于放射源下；以及将光阻显影。