一种浸入式光学投影系统与集成电路晶片的制造方法。该浸入式光学投影系统包括：一末端镜片元件；一晶圆基座，用于握持一晶圆；一透明板，于该浸入式光学投影系统使用时座落于该末端镜片元件与该晶圆间。该透明板具有一镜片侧表面与一晶圆侧表面，该浸入式...

本发明是有关于一种在基材上制造图案的方法及系统，一种高解析度的微影系统与方法。在一实施例中，提供了一种在基材上制造图案的方法，包括将图案区分成至少一第一子图案以及一第二子图案，其中第一子图案包含朝第一方向的复数个线，且第二子图案包含朝第...

本发明提供一种湿浸式光刻的方法、湿浸式光刻系统、及装置，包括：湿浸液体座架，用于包含湿浸液体；夹片台，用于将涂布有光致刻蚀剂的半导体晶片放置在该湿浸液体座架内；以及镜头，紧邻该湿浸液体座架并且可被放置用于通过该湿浸液体而将影像投影在该涂...

一种微影光罩及其制造方法与使用上述两者制造的半导体元件包括一个位于独立或半独立区域的设计特征，以及复数个垂直于设计特征的平行线型辅助特征。这些平行线型辅助特征包括位于设计特征两边的两组平行辅助特征。第一组平行辅助特征位于设计特征的第一边...

本发明涉及一种光罩及其制造方法与微影的方法。本发明提供一种光罩，包括一透明基板以及一吸收层，该吸收层紧邻于该透明基板。上述吸收层之中具有数个开口。此光罩还包括一波长缩短材料层，设置于该数个开口之中，其中该波长缩短材料层与该吸收层大体上形...

本发明是有关于一种光罩组及运用光罩组所形成的半导体结构，其中该光罩组，包括数次使用于制程中的全域光罩，适用于制造半导体元件。全域光罩包括接触窗结构、内连线结构或两者。为了每一层的使用，全域光罩包括供上下层元件连接的结构。当用于其他层时，...

本发明提供一种用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法。将一影像感测器阵列曝光于一光源的光。收集对应于一瞳孔图像的多个位置的地址及个别的强度，其是表示该光源的光在该影像感测器阵列上的强度。依据收集的该地址及强度，定义该瞳孔图像的内曲线及外...

本发明是有关于一种包含光罩的装置以及制造该光罩的方法。该光罩具有一图样表面及在图样表面上成一透明层。该制造光罩的方法，其包含以下步骤：提供一光罩基材，该光罩基材包含第一材质；图样化该光罩基材以形成一图样表面；以及在该图样表面形成一阻障层...

本发明公开了一种适用于浸润式微影制程的方法与系统。此方法包括：供应浸润流体给位于影像透镜和欲进行图案化的基材两者之间的空间。在位于此空间的浸润流体中产生电场。其中电场会促使微粒离开基材表面。藉由浸润流体体将微粒从基材表面移除。之后补充空...

本发明是关于一种光罩或晶圆上图案的近接式制程控制关键尺寸的改善方法，用以改善一基底的关键尺寸均匀性，并包含根据一第一基材上一图案的一近接式制程趋势决定一方程式。应用该方程式于一回归式模型以决定一第二基材的参数值。根据该第二基材的曝光制程...

本发明公开了增加微影产量的设备及其方法。该微影设备包含一第一透镜系统、一第一基材基台、一第二透镜系统，与一第二基材基台。第一基材基台可接收来自第一透镜系统的第一辐射能，并可在一曝光步骤中移动一基材。第二透镜系统的解析度高于第一透镜系统的...

本发明的除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的装置及方法，该装置包括一激光光源、一透镜组以及一平台。平台与透镜组保持一适当的距离，并供容纳与放置具有护膜的掩模。从该激光光源发出的激光经过该透镜组投射至平台上，且投射至平台的激光穿过护膜并除去...

本发明提供一种疏水性表面的掩模。该掩模包括：一基板；多个图案，形成于该基板上；以及一形成于未覆盖所述图案的该基板上的自组装单层。该自组装单层包括一通过汽化工艺或溶液工艺形成的烷基三氯硅烷层，例如十八烷基三氯硅烷层或全氟十烷基三氯硅烷层。

本发明是关于一种微影对焦以及／或能量的最佳化方法及其系统，该方法和系统使用特别设计的光学关键尺寸图案。在接收一包含复数个光罩的晶圆后，可使用整合式量测系统测量光罩的关键尺寸、线路末端缩短以及复数个光罩的侧壁角度，在模拟光谱数据库中执行光...

本发明是关于一种用以更换光阻过滤器（Ｒｅｓｉｓｔ　　Ｆｉｌｔｅｒ）的系统与方法，以此种方式来减少过滤器所诱致（Ｆｉｌｔｅｒ－Ｉｎｄｕｃｅｄ）的晶圆缺陷。在一实施例中，此实施光阻过滤器更换技术的系统至少包括连接至分配器（Ｄｉｓｐｅｎｓｅｒ...

本发明提供一种掩模的制造方法。该方法包括下列步骤：提供一基板，该基板具有位于该基板上方的第一衰减（ａｔｔｅｎｕａｔｉｎｇ）层以及位于该第一衰减层上的第一图像层；在写入模式下使用第一辐射能量对该第一图像层进行第一曝光步骤；对该第一衰减层进...

本发明是有关于一种光掩膜及其制造方法，该相位偏移光掩膜是一种使用两个独立曝光制程所制备的相位偏移光掩膜。此一光掩膜包括基材和位于基材上的元件图案区。此光掩膜具有用来定义元件图案的边界的罩幕图案，以及用来定义罩幕图案的边界的管理图案区。

本发明是有关于一种使用单一数据处理单元的多重工具，用以经由影像束工艺而同时处理多片基材的方法与系统，此系统包括多重曝光模组，上述曝光模组可直接写入基材，配置上述曝光模组以自数据处理单元接收写入指令。本发明的系统与方法采用多重曝光模组，多...

本发明提供一种用于微影图案化工艺的光掩模保护膜系统和集成电路的制造方法，该光罩保护膜系统包括透明基板；预定义图案，形成于上述透明基板上；保护膜，靠近于上述透明基板；保护膜框架，用以固定上述保护膜；吸震物，设置于上述保护膜框架和透明基板之...

一种具有阻隔构件的反射式液晶光闸。为提供一种减少漏光、降低介电层的厚度、增加光线进入介电层后的反射次数、提高投影显示系统品质、提高效率、降低成本的观看用装置部件，提出本发明，它包括基底、设置于基底上的第一反射层、设置于第一反射层上的用以...