使用单一数据处理单元的多重工具制造技术

本发明专利技术是有关于一种使用单一数据处理单元的多重工具，用以经由影像束工艺而同时处理多片基材的方法与系统，此系统包括多重曝光模组，上述曝光模组可直接写入基材，配置上述曝光模组以自数据处理单元接收写入指令。本发明专利技术的系统与方法采用多重曝光模组，多重曝光模组自单一数据处理单元接收写入指令。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光微影技术，特别是涉及一种可同时处理多片基材的 光微影技术的装置与方法。
技术介绍
在微米工艺中，光微影技术或光学微影技术已为众所周知并用于选择 性地移除基材上的薄膜。光微影技术通常使用直接光源以将几何图案由一 光掩模转印至沉积在基材上的具有感光特性的化学光刻胶，经由光线的照 射而在光刻胶上产生曝光图案。其后可藉由一连串的化学处理步骤而蚀刻或者是转印曝光区域至位于光刻胶层之下的一或多层薄膜层中。用于微米工艺的改良的微影-型态系统可在光刻胶上转印或产生曝光 图案，而毋需采用生成光掩模的中间步骤。举例来说， 一直接写入(direct-write, DW)曝光工具用于直接将图案写入至基材上的一或多层材 料上(毋需使用光掩模)。由于档案可用于控制曝光源的精准度而将光线选 择性地照射在基材上的一或多层材料上，故图案通常依据一电子档案或计 算机型态的档案而写入至基材。更确切地说，通常此直接写入方式的曝光 工具是作为电路图案的曝光之用，毋须藉由具有相对于电路图案的图案的 光掩模或膜以照射光刻胶，而是藉由以具有适当能量与用量的集中束直接 并选择性地膝光位于基材上的光刻胶的所欲区域本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于直接写入图案的系统，其特征在于其包括：多个直接写入曝光单元；以及　一单一数据处理单元，耦接在每一上述直接写入曝光单元，该单一数据处理单元配置为送出一写入指令至每一上述直接写入曝光单元。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：林本坚，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]