本实用新型属于光伏制造技术领域，公开了一种循环式清洗装置，其包括内清洗槽、外层壳体、隔离层单元、循环层单元和液体处理单元。导流盖封盖在内层槽体上，内层槽体上设有第一循环口。外层壳体套在内层槽体外周，且间隔于内层槽体。隔离层单元沿内层槽体...

本实用新型提供了一种基板清洗装置，包括清洗室与纳米气泡发生机构，所述纳米气泡发生机构设置于所述清洗室的外部，用于向所述清洗室内提供纳米气泡；所述清洗室的侧壁上开设有入料窗口，待清洗基板由所述入料窗口进入所述清洗室内，所述清洗室内可拆卸设...

本实用新型涉及工件表面处理技术领域，公开了一种防药液携出结构以及包含该防药液携出结构的工件表面处理生产线。该防药液携出结构设置于第一水平传送装置的尾部，第一水平传送装置用于输送工件，工件上携带有药液，位于第一水平传送装置尾部的多个滚动件...

本实用新型属于半导体加工技术领域，公开晶圆烘干装置，包括烘干箱、气体循环组件和加热组件，烘干箱设有烘干槽、出风口和进风口；风管机构包括循环风管和导入风管，循环风管两端分别连通出风口和进风口，风机机构连通循环风管，烘干气体经循环风管形成循...

本实用新型涉及喷淋液刀技术领域，具体公开了液刀刀头。该刀头包括公刀头、母刀头和拼接刀体；公刀头包括设有第一贴合面的第一刀体，第一贴合面设有第一缓冲槽和与其连通的第一流道槽；拼接刀体设有相对的设有入液面和第二缓冲槽的第二贴合面，拼接刀体贯...

本实用新型属于抛光设备技术领域，公开了一种清洗装置，其包括壳体、输送组件、喷淋机构以及排水组件，壳体包括罩体和清洗槽，罩体设置于清洗槽的上方，罩体和清洗槽之间设有进口和出口，进口和出口沿第一方向分别开设于壳体的两侧，待洗件能自进口进入壳...

本实用新型属于加工设备技术领域，公开了一种液槽抽风装置，包括隔舱、风扇和喷淋组件，隔舱内部设有抽风隔腔，抽风隔腔具有进风口和出风口，进风口与液槽连通，出风口连接至外部，风扇引导气流由进风口流向出风口；具体地，风扇包括抽风风扇和排风风扇，...

本实用新型涉及运输传送技术领域，尤其涉及一种运输系统，包括回转运输模块，回转运输模块包括依次连接形成循环的输送机构、第一滑动机构、回传机构以及第二滑动机构，输送机构、第一滑动机构、回传机构以及第二滑动机构能够带动多个滑块循环移动，多个夹...

本发明公开了一种电镀装置，涉及太阳能电池电镀技术领域。该电镀装置包括支架、闸门机构及阴极组件，支架上设置有电镀槽，电镀槽内设置有阳极板和电镀液，电镀槽沿第一方向的一端开设有第一开口；闸门机构包括沿第一方向间隔设置的第一闸门与第二闸门，第...

本实用新型属于半导体刻蚀技术领域，公开了一种槽体盖板组件及湿法刻蚀设备。其中槽体盖板组件用于封闭刻蚀槽的上端开口，包括盖体和吸湿结构，盖体内设置有空腔，吸湿结构置于所述空腔中，盖体的下表面还设置有多个通风孔，所有通风孔与空腔连通；湿法刻...

本实用新型公开了一种导向轮调整装置，包括安装座，安装座包括第一调节板、基座和第二调节板，第一调节板能够沿第一方向连接于机架上，第一调节板上设置有第一腰形槽，第一调节板的第一腰形槽内设置有与机架相连的第一固定件，基座设置于第一调节板，第二...

本发明涉及工件清洗技术领域，公开了一种清洗系统，用于该清洁系统的清洗方法，以及该清洗系统的自清洁方法。该清洗系统设置多个清洗槽和储液槽，使用时，由储液槽对清洗槽内的清洗废液进行回收并用于下一道清洗槽的清洗操作，即清洗液能够流经全系统的每...

本发明提供了一种改善电池结合力的图形化电池制备方法及TOPCon电池，所述的制备方法包括：(Ⅰ)提供电池基底，在电池基底的n型掺杂面上由内到外依次制备隧穿氧化层、第一多晶硅层与第一氮化硅层，在p型掺杂面上由内到外依次制备第二多晶硅层、氧...

本实用新型公开了一种电镀装置，涉及电镀技术领域。该电镀装置包括电镀槽和挡板，电镀槽内设置有电镀阳极和待电镀阴极。挡板设置于电镀阳极和待电镀阴极之间。挡板上设置有多个通流孔，任意相邻两个通流孔的间距均相同。多个通流孔设置为至少两排，任意相...

本实用新型涉及半导体技术领域，尤其涉及Mask翻转设备。本实用新型中，Mask水平放置于底部支撑机构上之后，紧抵固定限位组件，利用侧向归正机构对Mask进行侧向归正，通过顶部限位机构对Mask进行竖直方向上的限制，然后转动底部支撑机构至...

本发明属于基板制程技术领域，公开了一种升降机构及OLED平板显示清洗设备。该机构包括外壳、第一、第二、第三和第四升降装置。壳体内设有升降空间，第一升降装置包括在升降空间内滑动地第一升降台和用于输送基板的第一输送组件，第二升降装置包括在升...

本发明提供了一种负极集流体及其制备方法和应用，所述负极集流体包括高分子层和设置在所述高分子层至少一侧表面的结合层，所述结合层在远离集流体的一侧表面依次设置有导电层和增强层，所述结合层包括金属光热材料，所述导电层和增强层均独立地包括金属。...

本发明提供了一种半导体基板清洗系统及方法，所述半导体基板清洗系统包括清洗室、循环模块与纳米气泡供给模块，所述清洗室分别连接所述循环模块与纳米气泡供给模块；所述清洗室内盛装有清洗液，待清洗基板浸没于所述清洗液中，所述循环模块用于控制所述清...

本实用新型提供了一种浓度综合检测装置以及除锈系统装置，所述浓度综合检测装置包括转换器、分析器和至少一个检测组件，所述检测组件包括浓度传感器、pH传感器和比重传感器；所述比重传感器分别独立电性连接所述转换器，所述转换器用于接收所述pH传感...

本实用新型属于传输技术领域，公开了一种上料装置以及内衬清洗设备。该上料装置包括载物装置以及钩取装置，载物装置用于承载花篮，钩取装置包括驱动机构以及钩取机构，钩取机构包括第一驱动件和挂钩组件，第一驱动件与驱动建构的输出端传动连接，第一驱动...