苏州晶洲装备科技有限公司专利技术

苏州晶洲装备科技有限公司共有311项专利

  • 本实用新型涉及一种平板载具阴极移动装置,它包括:Z轴移动机构,Z轴移动机构包括滑轨Ⅰ和滑移设置在滑轨Ⅰ上的载台;X轴移动机构,X轴移动机构设置在载台上,X轴移动机构包括滑轨Ⅱ和滑移设置在滑轨Ⅱ上的载具支撑座;载具通电机构,载具通电机构设...
  • 本实用新型涉及基板制造技术领域,具体公开了一种基板归正装置。该装置包括传动组件和归正组件;传动组件包括下传动件,基板能放置于下传动件上,且下传动件能带动基板移动;归正组件包括两个归正件,两个归正件分别设于传动组件的两侧,归正件能与基板的...
  • 本发明涉及废液处理领域,尤其涉及一种有机废液处理装置。本发明提供的废液处理装置中,通过设置加热件将待提纯液体加热至其沸点,使待提纯液体中的有机分子和水均变成蒸汽状态,再利用特种膜去除至少部分水蒸气,剩下被拦截蒸汽(包含部分水蒸气和有机分...
  • 本发明属于水处理技术领域,公开了一种OLED清洗水的过滤设备及过滤方法,该OLED清洗水的过滤设备包括废液收集罐、微滤膜循环装置、纳滤膜循环装置和回用装置,废液收集罐用于收集未处理的OLED清洗水;微滤膜循环装置用于对废液收集罐内的OL...
  • 本实用新型涉及一种电化学沉积槽药量控制装置,它包括:药液浓度分析仪,药液浓度分析仪与槽体相连接,且从槽体接收药液进行浓度分析;药水供应组件,药水供应组件包括用于检测药液量的称重传感器,还包括气动隔膜泵以输送药水;药水添加组件,药水添加组...
  • 本实用新型涉及一种曲面玻璃滚轮传送装置,用于玻璃基板在药液槽中的滚轮输送,其特征在于,包括若干组平行设置的传送辊组,每组传送辊组包括承托辊、上浮动辊和设置于承托辊外侧的限位轮,所述上浮动辊对应设置于所述承托辊的上方,所述上浮动辊和承托辊...
  • 本实用新型公开了一种稳定控制药液腔压力的排风系统,该排风系统可应用于显示面板制备工艺中,属于显示面板制备技术领域。所述稳定控制药液腔压力的排风系统包括:支撑台;药液腔,设于所述支撑台上,所述药液腔用于注入药液和放置显示面板;主抽风管路,...
  • 本实用新型涉及一种上压轮装置,它包括:上压轮,所述上压轮设置有两个;皮带,所述皮带为闭环结构,所述皮带套设在两个相距一定距离的皮带轮上;连接杆,所述连接杆设置有两个,所述连接杆的下端分别连接对应的所述上压轮,两个所述连接杆的上端分别连接...
  • 本实用新型涉及一种具有药液循环功能的电化学沉积槽,它包括:槽体;喷盘,所述喷盘用于喷射药液以促进药液流动,所述喷盘设置在所述槽体内;循环管,所述循环管中设置有循环泵,所述循环管连接在所述槽体周壁与所述喷盘之间,所述循环组件用于将所述槽体...
  • 本实用新型涉及一种具有高精度控温功能的电化学沉积槽,它包括:槽体;喷盘,所述喷盘用于喷射药液以促进药液流动,所述喷盘设置在所述槽体内,所述喷盘将所述槽体内间隔成至少两个分区,每个所述分区中设置有两个温度传感器;循环管,所述循环管中设置有...
  • 本实用新型涉及一种消泡储液槽,它包括:槽体;回流管路,所述回流管路的出液口延伸进所述槽体内;回流挡板,所述回流挡板设置在所述回流管路出液口下方,所述回流挡板具有倾斜部分。由于在回流管路出液口下方设置了回流挡板,回流挡板具有倾斜部分,药液...
  • 本实用新型涉及一种槽式电化学沉积用药液添加装置,它包括:加液桶,所述加液桶内设置有液位计;进液管路,所述进液管路的出口连接在所述加液桶底部;出液管路,所述出液管路的进口连接在所述加液桶底部,所述出液管路中设置有气动阀,所述气动阀的出液端...
  • 本实用新型涉及一种生成低电阻率超纯水的装置,包括二氧化碳供给管路、超纯水供给管路、二氧化碳溶解装置,其中,所述二氧化碳溶解装置包括密闭的壳体、设置在壳体内的纤维膜管以及设置在壳体上的二氧化碳进口、二氧化碳出口、纯水进口、纯水出口,二氧化...
  • 本实用新型涉及一种玻璃基板导电连接装置,它包括:导电片,所述导电片具有弹性;防压板,所述防压板连接在所述导电片上,所述防压板上设置有支撑条,所述支撑条向所述导电片弹性变形方向延伸,且所述支撑条凸出于所述导电片表面。由于在导电片上连接了防...
  • 本实用新型涉及一种沉浸式湿法刻蚀装置,包括盛液托盘,在所述盛液托盘内沿其长度方向设置有若干个传动辊,所述盛液托盘的内壁上可移动地设置有液位传感器,所述液位传感器可沿竖直方向移动,所述液位传感器的设置高度高于传动辊上铜基板的高度,在所述传...
  • 本发明公开了一种废显影液过滤系统,该废显影液过滤系统中,第一循环过滤装置具有第一过滤腔,第一过滤腔内设置有第一过滤膜,第一过滤膜将第一过滤腔分为第一腔和第二腔,第一腔与供料罐连通,第二循环过滤装置具有第二过滤腔,第二过滤腔内设置有第二过...
  • 本发明提供了一种刻蚀液再生装置、刻蚀系统装置和刻蚀方法,所述的刻蚀系统装置包括循环连接的所述刻蚀液再生装置和刻蚀装置,所述的再生装置包括注入有刻蚀液的壳体,所述壳体外接有循环管路,所述循环管路分为独立的回收支路和循环支路接入所述壳体内,...
  • 本发明涉及喷射装置技术领域,公开了一种液刀及液体喷射装置,包括第一液刀板;第二液刀板,其与所述第一液刀板相对盖合固定连接,所述第二液刀板和所述第一液刀板之间配合形成喷射流道,所述喷射流道包括依次连通的入液腔、容置腔室和喷口通道;分流块组...
  • 本发明涉及显示技术领域,公开了一种清洁装置及刀具,清洁装置用于清洁刀具的刀口,刀具为气刀或液刀,刀具的刀体上设有沿刀口的延伸方向设置的导向槽,该清洁装置包括支架和刮片,支架的一端滑动配合于导向槽中;刮片与支架的另一端相连,至少部分刮片能...
  • 本发明涉及废液回收处理技术领域,尤其涉及一种光阻剥离液废液循环利用系统,其包括预处理单元、蒸发单元和调制回用单元,所述预处理单元用于将废液中的光阻和金属离子去除,包括依次连通的纳滤膜过滤装置和电渗析装置,废液依次经过所述纳滤膜过滤装置和...