清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于抛光设备技术领域，公开了一种清洗装置，其包括壳体、输送组件、喷淋机构以及排水组件，壳体包括罩体和清洗槽，罩体设置于清洗槽的上方，罩体和清洗槽之间设有进口和出口，进口和出口沿第一方向分别开设于壳体的两侧，待洗件能自进口进入壳体，再从出口出去，输送组件设置于清洗槽内且用于运送待洗件，喷淋机构设置于罩体内且用于对待洗件喷射清洗液体；排水组件沿第二方向可伸缩地设置于清洗槽的槽底且能排出清洗槽内的清洗液体，排水组件能够调节清洗槽内的水位的高度。上述结构能够提高清洗装置的清洗能力，使得玻璃基板的洁净度更好，且能够在现有清洗装置中进行调整，无需增加其他结构，成本低。成本低。成本低。

【技术实现步骤摘要】
清洗装置


[0001]本技术涉及抛光设备
，尤其涉及一种清洗装置。

技术介绍

[0002]对于玻璃基板在进行加工过程中，由于玻璃基板常用于精密加工领域，因此，需要对玻璃基板进行抛光研磨，使得玻璃基板的表面更加光滑、平整。在对玻璃基板进行抛光研磨过程中，通常会用到抛光粉或研磨粉，粉状物质会附着于玻璃基板的表面，因此，在抛光研磨后会对玻璃基板进行清洗，使玻璃基板上的粉状物质清洗掉。
[0003]而在玻璃基板清洗过程中，其用于输送玻璃基板的传送辊上会在传送过程中粘上部分粉状物质，进而会在传输过程中附着在玻璃基板的背面，造成玻璃基板未清洗干净。现有技术中，通过增加在清洗装置中增加浸润槽，以在不断的进水和排水过程中，实现对传送辊的清洁，进而提高玻璃基板清洗后的洁净度。但是，增加了浸润槽和相对设置的进水口和排水孔，使得整个清洁装置的成本增加，且对清洁水的需求也在增加，造成使用成本较高。
[0004]因此，亟需设计一种清洗装置，以解决上述技术问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种清洗装置，能够提高清洗装置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.清洗装置，其特征在于，包括：壳体(10)，包括罩体(11)和清洗槽(12)，所述罩体(11)设置于所述清洗槽(12)的上方，所述罩体(11)和所述清洗槽(12)之间设有进口(13)和出口(14)，所述进口(13)和所述出口(14)沿第一方向分别设置于所述壳体(10)的两侧，待洗件能自所述进口(13)进入所述壳体(10)，再从所述出口(14)出去；输送组件，设置于所述清洗槽(12)内，所述输送组件用于运送所述待洗件；喷淋机构(30)，设置于所述罩体(11)内，所述喷淋机构(30)用于对所述待洗件喷射清洗液体(50)；以及排水组件(40)，沿第二方向可伸缩地穿设于所述清洗槽(12)的槽底，所述第二方向垂直于所述第一方向；所述清洗槽(12)内的所述清洗液体(50)能从所述排水组件(40)排出，所述排水组件(40)被配置为能够调节所述清洗槽(12)内的水位的高度，以调节所述输送组件浸润于所述清洗液体(50)中的高度。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述排水组件(40)包括：连接管(41)，穿设于所述清洗槽(12)的槽底，且所述连接管(41)与所述清洗槽(12)的槽底之间密封设置；以及伸缩管(42)，所述伸缩管(42)可移动穿设于所述连接管(41)内，且所述伸缩管(42)和所述连接管(41)之间密封设置。3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述伸缩管(42)的底部设有卡接部(421)，所述连接管(41)的内壁设有限位部(411)，所述卡接部(421)能与所述限位部(411)抵接，以限制所述伸缩管(42)伸出所述连接管(41)。4.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，所述连接管(41)的内壁设有凹槽，所述排水组件(40)还包括第一密封件(43)，所述第一密封件(43)设置于所述凹槽内，所述第一密封件(43)的一端抵接于所述凹槽的槽底，另一端抵接于所述伸缩管(42)。5.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：窦鹏鑫，施利君，宋金林，
申请(专利权)人：苏州晶洲装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：