Mask翻转设备制造技术

本实用新型专利技术涉及半导体技术领域，尤其涉及Mask翻转设备。本实用新型专利技术中，Mask水平放置于底部支撑机构上之后，紧抵固定限位组件，利用侧向归正机构对Mask进行侧向归正，通过顶部限位机构对Mask进行竖直方向上的限制，然后转动底部支撑机构至Mask处于竖直状态，以便于取料机械手对Mask进行移走。反之，取料机械手移送竖直状态的Mask至底部支撑机构上之后，转动底部支撑机构至水平状态，处于水平状态的Mask能够被取料机械手水平取走，从而完成对Mask的翻转。通过如此设置能够减轻翻转重量大的Mask的难度，保证翻转时无划痕或损伤，其中侧向归正机构和顶部限位机构能保证Mask位置准确，安全系数高，不易产生翻倒风险。不易产生翻倒风险。不易产生翻倒风险。

【技术实现步骤摘要】
Mask翻转设备


[0001]本技术涉及半导体
，尤其涉及Mask翻转设备。

技术介绍

[0002]Mask(Mask Reticle，光刻掩模版)清洗机用于OLED(Organic Light
‑
Emitting Diod，有机发光二极管)制程，清洗蒸镀设备内核心部件——Mask。AMOLED(Active
‑
matrix organic light
‑
emitting diode，主动矩阵有机发光二极体)采用Mask蒸镀方式实现，而Mask精密度极高，极其脆弱，价格也极其昂贵，并且Mask重量达100kg左右，故对于Mask的翻转要求极高，现有技术中对Mask的翻转为半自动翻转，不仅费劲而且容易造成Mask的损伤，并且与Mask清洗机设备对接误差较大，不利于后续取用。
[0003]因此亟需Mask翻转设备以解决上述问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种Mask翻转设备，能够减轻翻转重量大的Mask的难度，保证翻转时无划痕或损伤，位置准确，安全系数高，不易产生翻倒风险。
[0005]为达此目的，本技术采用了以下方案：
[0006]Mask翻转设备，包括：
[0007]机架；
[0008]底部支撑机构，该底部支撑机构设置于该机架顶面，该底部支撑机构与该机架转动连接，该底部支撑机构用于承载Mask，该底部支撑机构包括两个固定限位组件，两个该固定限位组件设置于同一侧，该固定限位组件用于抵接该Mask；
[0009]两个侧向归正机构，两个该侧向归正机构设置于该底部支撑机构上与该固定限位组件相邻的一侧，两个该侧向归正机构连接于该底部支撑机构的同侧，该侧向归正机构被配置为对该Mask进行侧向归正；
[0010]两个顶部限位机构，两个该顶部限位机构设置于该底部支撑机构上与该固定限位组件相对的一侧，该顶部限位机构被配置为限制该Mask在竖直方向上的位移。
[0011]示例性地，该底部支撑机构还包括支撑板和多个浮动支撑台，多个该浮动支撑台设置于该支撑板上，浮动支撑台与支撑板相对浮动连接，多个该浮动支撑台的高度一致。
[0012]示例性地，该浮动支撑台底部与该支撑板螺纹连接。
[0013]示例性地，该Mask翻转设备还包括转动机构，该转动机构安装于该机架上，该底部支撑机构通过该转动机构与该机架转动连接。
[0014]示例性地，该转动机构包括轴承座、转动轴和第一驱动组件，该轴承座安装于该机架上，该转动轴与该轴承座转动连接，该底部支撑机构与该转动轴固定连接，该第一驱动组件的输出端与该转动轴连接，该第一驱动组件被配置为驱动该转动轴相对该轴承座转动。
[0015]示例性地，该第一驱动组件为伺服电机驱动组件。
[0016]示例性地，该侧向归正机构包括第一限位块和第二驱动组件，该第二驱动组件设
置于该底部支撑机构上，该第一限位块竖直设置，该第一限位块能够与该Mask的侧边抵接，该第二驱动组件的输出端与该第一限位块连接，该第二驱动组件被配置为驱动该第一限位块沿水平方向移动并抵接该Mask的侧边。
[0017]示例性地，该第二驱动组件为气缸驱动组件。
[0018]示例性地，该顶部限位机构包括第二限位块和第三驱动组件，该第三驱动组件设置于该底部支撑机构上，该第二限位块为L型块，该第二限位块包括竖直延伸部和横向延伸部，该横向延伸部能够抵接该Mask的顶面，该第三驱动组件的输出端与该竖直延伸部连接，该第三驱动组件被配置为驱动该第二限位块沿竖直方向移动并抵接该Mask的顶部。
[0019]示例性地，该第三驱动组件为气缸驱动组件。
[0020]本技术的有益效果为：
[0021]本技术提供的Mask翻转设备中，Mask水平放置于底部支撑机构上之后，紧抵固定限位组件，利用侧向归正机构对Mask进行侧向归正，通过顶部限位机构对Mask进行竖直方向上的限制，然后转动底部支撑机构至Mask处于竖直状态，以便于取料机械手对Mask进行移走。反之，取料机械手移送竖直状态的Mask至底部支撑机构上之后，转动底部支撑机构至水平状态，处于水平状态的Mask能够被取料机械手水平取走，从而完成对Mask的翻转。通过如此设置能够减轻翻转重量大的Mask的难度，保证翻转时无划痕或损伤，其中侧向归正机构和顶部限位机构能保证Mask位置准确，安全系数高，不易产生翻倒风险。
附图说明
[0022]图1是本技术提供的Mask翻转设备一个视角下的结构示意图；
[0023]图2是本技术提供的Mask翻转设备另一个视角下的结构示意图；
[0024]图3是图1中A处的局部放大图；
[0025]图4是图2中B处的局部放大图。
[0026]图中：
[0027]100、机架；200、底部支撑机构；210、固定限位组件；220、支撑板；230、浮动支撑台；300、侧向归正机构；310、第一限位块；320、第二驱动组件；400、顶部限位机构；410、第二限位块；411、横向延伸部；412、竖直延伸部；420、第三驱动组件；500、转动机构；510、轴承座；520、转动轴；530、第一驱动组件；600、Mask。
具体实施方式
[0028]下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部。
[0029]本技术中限定了一些方位词，在未作出相反说明的情况下，所使用的方位词如“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”，这些方位词是为了便于理解而采用的，因而不构成对本技术保护范围的限制。
[0030]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第
一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0031]在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0032]如图1～图4所示，本实施例提供一种Mask翻转设备，包括机架100、底部支撑机构20本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.Mask翻转设备，其特征在于，包括：机架(100)；底部支撑机构(200)，所述底部支撑机构(200)设置于所述机架(100)顶面，所述底部支撑机构(200)与所述机架(100)转动连接，所述底部支撑机构(200)用于承载Mask(600)，所述底部支撑机构(200)包括两个固定限位组件(210)，两个所述固定限位组件(210)设置于同一侧，所述固定限位组件(210)用于抵接所述Mask(600)；两个侧向归正机构(300)，两个所述侧向归正机构(300)设置于所述底部支撑机构(200)上与所述固定限位组件(210)相邻的一侧，两个所述侧向归正机构(300)连接于所述底部支撑机构(200)的同侧，所述侧向归正机构(300)被配置为对所述Mask(600)进行侧向归正；两个顶部限位机构(400)，两个所述顶部限位机构(400)设置于所述底部支撑机构(200)上与所述固定限位组件(210)相对的一侧，所述顶部限位机构(400)被配置为限制所述Mask(600)在竖直方向上的位移。2.根据权利要求1所述的Mask翻转设备，其特征在于，所述底部支撑机构(200)还包括支撑板(220)和多个浮动支撑台(230)，多个所述浮动支撑台(230)设置于所述支撑板(220)上，所述浮动支撑台(230)与所述支撑板(220)相对浮动连接，多个所述浮动支撑台(230)的高度一致。3.根据权利要求2所述的Mask翻转设备，其特征在于，所述浮动支撑台(230)底部与所述支撑板(220)螺纹连接。4.根据权利要求1所述的Mask翻转设备，其特征在于，所述Mask翻转设备还包括转动机构(500)，所述转动机构(500)安装于所述机架(100)上，所述底部支撑机构(200)通过所述转动机构(500)与所述机架(100)转动连接。5.根据权利要求4所述的Mask翻转设备，其特征在于，所述转动机构(500)包括轴承座(510)、转动轴(520)和第一驱动...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘礼勇，施利君，陈书良，
申请(专利权)人：苏州晶洲装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：