【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于废水回收利用，涉及一种氢氟酸废液的回收装置及方法。
技术介绍
1、随着半导体技术的快速发展，相关的光伏、液晶等产业中经常会使用硅及硅化合物原料，该类原料在清洗、刻蚀等工艺中经常会使用到氢氟酸，由此产生大量的氢氟酸废液，难以直接再次利用。氢氟酸废液的主要组成有氢氟酸、氟硅酸以及水等，其ph值较低，腐蚀性、氧化性强，直接排放会对环境造成严重污染，因而，如何有效处理电子行业的氢氟酸废液，是目前迫切需要解决的重要课题。
2、目前，处理氢氟酸废液最常用的方法为沉淀法，通过向氢氟酸废液中投放熟石灰、氯化钙及混凝剂等药剂，使氟离子与钙离子反应生成氟化钙沉淀，以达到去除氢氟酸的目的，但该过程中需要添加钙离子，使得水的硬度增大，水质变差，且将氢氟酸转化成废渣，难以再生利用，造成资源浪费。除了沉淀法，其他可采用的方法包括蒸馏、膜分离等，通常需要多种单元操作组合使用，以实现氢氟酸的回收利用。
3、cn 113754121a公开了一种含氢氟酸废水的处理系统和方法，该处理方法包括：先对含氢氟酸废水进行固液分离处理，得到液相产...
【技术保护点】
1.一种氢氟酸废液的回收装置，其特征在于，所述回收装置包括氢氟酸废液储存单元、微纳米气泡发生器和分离单元，所述分离单元为内外层结构，外侧为壳体，内部为分离槽，所述壳体和分离槽之间留有空隙，所述分离槽的上部敞口；所述氢氟酸废液储存单元的出口管路分为两支，一支与微纳米气泡发生器相连，另一支与分离单元中分离槽的入口相连，所述微纳米气泡发生器的出口与分离槽的入口相连，所述壳体的顶部设有冷凝管路，所述壳体的底部设有氢氟酸溶液出口。
2.根据权利要求1所述的回收装置，其特征在于，所述氢氟酸废液储存单元包括氢氟酸储罐；
3.根据权利要求1或2所述的回收装置，...
【技术特征摘要】
1.一种氢氟酸废液的回收装置，其特征在于，所述回收装置包括氢氟酸废液储存单元、微纳米气泡发生器和分离单元，所述分离单元为内外层结构，外侧为壳体，内部为分离槽，所述壳体和分离槽之间留有空隙，所述分离槽的上部敞口；所述氢氟酸废液储存单元的出口管路分为两支，一支与微纳米气泡发生器相连，另一支与分离单元中分离槽的入口相连，所述微纳米气泡发生器的出口与分离槽的入口相连，所述壳体的顶部设有冷凝管路，所述壳体的底部设有氢氟酸溶液出口。
2.根据权利要求1所述的回收装置，其特征在于，所述氢氟酸废液储存单元包括氢氟酸储罐；
3.根据权利要求1或2所述的回收装置，其特征在于，所述分离槽中的液面上方设有温度调节装置；
4.根据权利要求1-3任一项所述的回收装置，其特征在于，所述壳体的顶部设有气体出口；
5.一种采用权利要求1-4任一项所述的回收...
【专利技术属性】
技术研发人员：李园，胡磊，施利君，蒋新，
申请(专利权)人：苏州晶洲装备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。