四川江化微电子材料有限公司专利技术

四川江化微电子材料有限公司共有18项专利

  • 本发明公开了一种低磷酸型钼铝钼蚀刻液及其制备方法,涉及钼蚀刻技术领域。本发明以按重量份计,包括磷酸40%~50%,醋酸40%~50%,硝酸1%~5%,添加剂0.01%~2%,其余为去离子水;所述添加剂主要由碱土金属盐、亚氨基二乙酸、甘氨...
  • 本发明公开了一种高效长寿命一剂型铜蚀刻液,涉及TFT‑LCDArray制程技术领域。本发明按重量百分比计,主要组成为双氧水5~15%、双氧水稳定剂0.001~1%、有机酸5~10%、混合有机碱5~10%、螯合剂0.001~1%、抗蚀剂0...
  • 本技术公开了一种硅片清洗装置,包括支架,所述支架的内部活动连接有清洗组件,所述清洗组件包括伺服电机一、放置盘、伺服电机二和清洗刷,所述支架的表面固定连接有喷洒组件,所述喷洒组件包括泵体和喷头。本技术通过启动伺服电机一使得放置盘转动,随着...
  • 本实用新型涉及精馏领域,采用的技术方案为:一种制备超净高纯试剂的精馏装置,包括精馏塔,所述精馏塔内设有若干层塔板,所述塔板上设有用于排出堆积在塔板上的液相的排液机构;所述排液机构包括若干设置在塔板上表面的罩体,所述罩体的底部设有若干第一...
  • 本实用新型公开了一种储罐的简易密闭取样装置,包括储罐和取样瓶,储罐设置有料液出口和料液进口,料液出口和料液进口之间连接有料液循环回路,取样瓶设置有进样口和出样口,进样口和出样口可拆卸连接有取样支管,取样支管与料液循环回路连通。该储罐的简...
  • 本实用新型涉及烘干设备领域,采用的技术方案为:一种光刻胶配套材料烘干设备,包括箱体和设置在箱体内的承载架,所述承载架上可拆卸连接承载板,所述承载板上转动连接有用于放置晶圆的转动组件,并在所述箱体内设有驱动组件,所述驱动组件与转动组件传动...
  • 本实用新型公开了一种用于大功率半导体的清洗装置,包括工作台,所述工作台上设置有洗液收集腔,所述工作台上设置有延伸至洗液收集腔内的放置件及翻转装置,所述翻转装置包括位于放置件一侧的推板及带动推板上下左右移动的驱动装置,所述推板靠近放置件一...
  • 本实用新型公开了一种超净高纯试剂亚沸蒸馏装置,包括蒸馏器及位于蒸馏器内的加热器,所述加热器两端设置有连接件,所述连接件远离加热器一端连接有支撑件,所述蒸馏器底部依次设置有第一调节腔、蒸发腔及第二调节腔,所述第一调节腔、第二调节腔底部均与...
  • 本实用新型涉及蚀刻液回收领域,目的在于提供一种具有结构简单、实用性强等优点的酸性蚀刻液循环回用装置。采用的技术方案为:一种酸性蚀刻液循环回用装置,包括电解池,所述电解池内设有自动调节液位的控制组件,所述控制组件包括设置在电解池底部的安装...
  • 本实用新型涉及蚀刻液领域,采用的技术方案为:一种碱性蚀刻液生产的管道系统,包括用于输送蚀刻液的输送管路,所述输送管路上设有用于降低蚀刻液温度的温度调节机构;所述温度调节机构包括一段连接在输送管路上的连接管,所述连接管内设有降温管,所述降...
  • 本实用新型涉及剥离液处理领域,采用的技术方案为:一种用于玻璃基板处理后的剥离液的再生系统,包括废液搅拌装置、过滤装置和精馏装置,所述废液搅拌装置通过管道与过滤装置相连,所述过滤装置通过管道与精馏装置相连;所述精馏装置包括精馏塔,所述精馏...
  • 本实用新型公开了一种铜蚀刻液的上料系统,包括若干原料储存罐、若干上料罐和混合罐,混合罐的出口通过管路依次连接第一磁力泵、过滤装置和成品罐;所述混合罐的罐体侧边设有称量模块;若干所述上料罐的出口分别通过并联的管路与混合罐的入口连接,若干所...
  • 本实用新型公开了一种电子化学品颗粒物控制过滤填充系统,包括采用管路依次连接的电子化学品罐、第一调节阀、第一磁力泵、压力计、一级过滤器、二级过滤器、三级过滤器、第二调节阀和电子化学品槽车,所述一级过滤器、二级过滤器和三级过滤器的滤膜孔径依...
  • 本实用新型公开了一种间歇式蒸馏装置,包括蒸馏罐、精馏塔和冷凝器,蒸馏罐的罐顶气相出口与精馏塔气相进口相连,精馏塔塔顶气相出口与冷凝器相连,精馏塔塔底物料出口通过塔底回流管与蒸馏罐罐底进料口相连。精馏塔塔底回流物料通过塔底回流管进入蒸馏罐...
  • 本实用新型公开了一种间歇式精馏塔塔底残液的过滤装置,包括壳体、壳盖和设置于壳体上的滤液出口,壳体内设置有花板,以及设置在花板上的多个筒状过滤件,筒状过滤件和花板将壳体内腔分隔成进液腔和出液腔,进液腔位于出液腔上方,进液腔内设置有布液管,...
  • 本实用新型公开了一种提篮式过滤器装置,包括主过滤器,主过滤器包括筒体、设置在筒体内的提篮式滤筒、设置在筒体顶部的法兰盖、侧壁进液口和侧壁滤液出口,侧壁进液口位于滤筒口部上方,侧壁滤液出口位于滤筒口部下方,筒体内设置有导流件,导流件位于所...
  • 本发明公开了一种铜钼合金的蚀刻液组合物,按蚀刻液组合物的重量100%计,其主要组成为5~12%的过氧化氢、5~10%的有机酸、5~10%的有机碱和0~0.5%的蚀刻抑制剂;有机碱为空间位阻胺或者其主要组成包含空间位阻胺,空间位阻胺25℃...
  • 本发明公开了一种改进的草酸铟溶解剂组合物,主要组分为碱性组分、螯合剂、pH值调节剂和水,螯合剂主要组成为螯合剂A和螯合剂B,螯合剂A为选自氨基多羧酸及其盐中的至少一种,螯合剂B为羟基多羧酸及其盐中的至少一种,改进的草酸铟溶解剂组合物的p...
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