本发明涉及一种等离子喷涂羟基磷灰石涂层后处理方法。该方法是将等离子喷涂羟基磷灰石涂层浸渍在负离子仅为氢氧根离子，浓度为０．１－１０摩尔／升溶液的电解质溶液中，用恒流直流电源进行阳极处理，通过阳极周围电化学反应过程中产生的局部高温使涂层内...

本发明涉及一种用于组装纳米－微米阵列材料的模板制备方法，其特点是：将具有７０％（１００）面的高纯铝箔进行预处理，放入含氯离子的酸性溶液中浸蚀，浸蚀过程中，铝箔作阳极，对铝箔施加电流密度为０．１×１０↑［４］～７．０×１０↑［７］Ａ／ｍ↑...

一种白钨矿发光膜材料的制备方法，涉及一种实用的白钨矿结构的钼酸盐或钨酸盐膜层的制备技术，属电化学氧化物厚膜制备技术领域。本发明利用原电池工作原理，将金属钨片或钼片与金属铂片用导线连接，放入含有相应金属阳离子（Ｃａ、Ｂａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｄ...

本发明涉及一种多层阻氢渗透复合膜的制备方法，属于材料技术领域。该方法采用铝及其合金涂层和微弧氧化的连用技术，在不锈钢基体上原位形成多层阻氢渗透复合膜，包括基体与涂层金属形成的合金层、涂层金属层、涂层金属与氧化物陶瓷形成的复合层和氧化物陶...

本发明涉及一种在金属铝模板中组装纳米－微米阵列材料的电镀方法，其特点是：将金属铝模板浸入电镀液中，在一定条件下施镀。施镀前金属铝模板不需要使用溅射或蒸发法涂上一层导电金属薄膜。施镀过程中，金属铝模板作为阴极，待镀金属板或石墨碳或金属铂作...

本发明是一种资源化脱除二氧化硫废气和提高软锰矿综合利用附加值相结合的方法。该方法是利用软锰矿浆和ｐＨ缓冲剂配比成的复合吸收剂与含二氧化硫（ＳＯ↓［２］）的废气进行氧化还原和中和反应脱除废气中的二氧化硫，废气净化达标后排放，吸收尾液（含有...

本发明公开了一种制备粒径可控超细金属粉体的新方法一电解乳化方法。利用本方法可以制备出从几十纳米到微米级一系列粒径可控、分散性好的超细金属粉体，该工艺方法具有工艺设备简单、生产成本低、对环境无污染、产量大、产效高以及成品粉末耐储运、便于保...

本实用新型是一种用于对电容器电极铝箔进行电化学扩面侵蚀的组合石墨电极，由电极层石墨、辅助导电层石墨和位于两者之间的绝缘间隔层构成，相互固置在一起。电极层石墨与辅助导电层石墨工作时位于电解液上方的部分用金属导电件连接在一起。位于电解液内的...

本发明是一种用于光电化学反应的离子隔膜光电解池结构，实现了无偏压直接光解水，该发明属于光电化学技术领域。该光电池结构包括：用全氟羧酸／磺酸复合离子膜将容器分为两个室，一个室盛酸溶液，为“酸室”，一个室盛碱溶液，为“碱室”。半导体光电材料...

共蒸发结合后退火工艺制备ＡｌＳｂ薄膜，本项发明所属域为新型光电子材料。在开发新型太阳能电池材料的过程中，ＡｌＳｂ由于具有能隙宽度为１．６ｅＶ，可吸收太阳可见光谱能量的９８％因而受到人们的重视。目前制备高质量ＡｌＳｂ薄膜的方法和手段较少，...

一种晶体生长的石英坩埚镀碳膜装置，包括加热炉、放置被镀膜石英坩埚的沉淀室和供气控制器。加热炉包括炉体、安装在炉体上的加热元件和控温测温器，炉体的炉膛下部设置有用于安放沉淀室的支座；沉淀室包括一端开口的管状本体和封闭管状本体端口的塞子，所...

一种钼酸盐功能薄膜，以导电或不导电的、晶态或非晶态的材料为衬底，晶粒度范围１０～５００ｎｍ，厚度１００～３０００ｎｍ。制备钼酸盐功能薄膜的工艺步骤为：（１）配制含Ｍｏ离子络合物的溶液，以钼酸铵或／和钼酸为溶质，以丙二醇或丙三醇或丙二醇、...

本发明提出的提高ＳｉＣ－Ｃ阻氢涂层对基体金属材料粘着性能的方法属于核技术及应用领域。在基体金属材料上制备ＳｉＣ－Ｃ阻氢（氚）涂层时，采用中间过渡层以提高涂层对基体的粘着性能，而且还能提高ＳｉＣ－Ｃ涂层的阻氢（氚）效果。其方法是在抛光清洗...

一种半圆柱磁控溅射阴极，属于磁控溅射装置中的溅射源部件。在圆柱靶管中装入环状永磁铁（１）、导磁垫片（２）以及冷却管组成。本实用新型的特征是永磁铁及导磁垫片的形状为圆环或大半圆环，并将其组合构成单元磁体，在轴线两边形成不对称圆柱磁场。本实...

本实用新型涉及多孔钛涂层大气等离子体喷涂惰性气体保护装置。该装置由中心开孔的底座、与底座连接的空心筒体、所说空心筒体上设计的保护气进气接口管、保护气体分布室、保护气喷气口、以及输粉接口管等构件组成。将本装置的底座与常规大气等离子体喷涂设...

本实用新型涉及一种制备羟基磷灰石生物活性涂层的悬浮液注入式等离子喷涂装置，包括等离子喷枪；还包括喷涂原料悬浮液贮存容器，悬浮液传送系统，悬浮液注入系统；其中悬浮液贮存容器为压力罐或为带高能超声波振荡功能的容器；传送系统包括传送动力装置和...

铝件的锡焊前采用含杂多酸类物质的表面处理剂清除掉铝表面的致密氧化膜，采用普通的锡焊工具，就可获得牢固持久的焊接．

本发明提出了一种胶体铜活化液的制备方法，其配方是：ＣｕＳＯ．５ＨＯ（或ＣｕＣｌ）＿＿＿＿＿＿３－３０ｇ／ｌ＿＿含Ｃｕ＿＿１－１０ｇ／ｌ明胶（或聚乙烯二醇）＿＿＿＿＿＿＿＿３－１０ｇ／ｌ浓度８５％的水合肼（或硫酸水合肼）＿＿１０－５０ｇ／...

用离子束反应溅射方法成膜的装置，主要用于制作多成分膜和多成分多层膜。本发明在装置的靶室中设有２～４个溅射离子源，采用聚焦离子源，以基片为中心分布于基片周围。每个离子源前方相应有一组装有４块不同材料的靶片的转动靶。对着基片设有一个用于辐照...

本发明采用多离子束反应共溅射装置，选取高纯金属，以及双金属合金或双金属拼接靶等作为靶材，在使衬底旋转并对它进行高温加热的条件下、通过控制各溅射离子源的能量和束流，选择适当的工作气体和气压，在不同衬底材料上在位生长制备均匀优Ｏ＆质的外延或...