深圳市恒运昌真空技术股份有限公司专利技术

深圳市恒运昌真空技术股份有限公司共有57项专利

  • 本技术公开了一种等离子体产生装置及等离子体加工设备,涉及等离子体加工技术领域,其中,该等离子体产生装置包括等离子体产生主体、电离组件以及扩散组件,等离子体产生主体具有贯穿设置的气流通道,该气流通道具有进气口和出气口,分别用于接入和排出工...
  • 本技术公开了一种电离装置和等离子体处理装置,涉及等离子体刻蚀技术领域,其中,电离装置包括壳体以及电离组件;所述壳体具有气体输送通道;所述电离组件包括多个电极,多个所述电极设置于所述气体输送通道内,且至少两个沿第一方向相对间隔设置,所述第...
  • 本技术公开了一种安装座、电离组件和等离子体发生装置,涉及等离子体处理技术领域,其中,所述安装座具有进气通道、第一电极安装槽和第二电极安装槽;所述第一电极安装槽和所述第二电极安装槽在所述安装座上位于所述进气通道的两侧;所述第一电极安装槽具...
  • 本技术公开了一种连接组件及等离子体产生装置,涉及等离子体处理技术领域,连接组件用于等离子体产生装置,等离子体产生装置包括电源组件和电极组件,连接组件包括第一连接件和第二连接件;第二连接件与第一连接件连接,第二连接件和第一连接件分别设置有...
  • 本技术属于散热风扇故障保护电路技术领域,具体涉及一种散热风扇的故障保护电路,包括依次连接的输入电路、鉴别电路和开关电路,输入电路通过输入二极管能够获取至少一个散热风扇的报警端信号,根据分压原理,当至少一个散热风扇故障时,鉴别电路中的第二...
  • 本申请涉及射频应用技术领域,公开一种射频电源系统及半导体工艺设备。该射频电源系统包括射频功率发生电路、切换电路和阻抗匹配电路;射频功率发生电路用于接入外部的交流电压源并输出射频功率;切换电路连接射频功率发生电路的输出端,具有第一输出支路...
  • 本技术涉及射频技术领域,具体涉及一种传感器模块和阻抗匹配器。所述传感器模块包括:射频通道线、信号感应线和双面PCBA板;所述射频通道线设置在所述PCBA板的一面,所述信号感应线设置在所述PCBA板的另一面,所述射频通道线与所述信号感应线...
  • 本发明涉及射频电源技术领域,尤其涉及一种射频电源点火控制方法及系统,该方法应用于包括功率放大器的射频电源,方法包括:控制功率放大器输出高于目标功率的功率信号至输入负载,以使输入负载中的气体过冲点火;基于电压电流传感器确定输入负载中电压和...
  • 本技术中公开了一种消弧电路、装置及系统,该消弧电路包括:信号传输模块和定时模块;信号传输模块分别与定时模块和负载连接;信号传输模块用于输送脉冲使能信号至定时模块;定时模块用于在接收到脉冲使能信号时开始脉冲定时,并在定时时间达到预设输出时...
  • 本发明公开了一种温度调节电路、阻抗匹配器和等离子体产生装置,涉及温度调节技术领域,其中,温度调节电路包括:多个温度检测电路,每个温度检测电路用于检测对应的阻抗匹配电路的工作温度,并输出相应的温度检测信号;开关电路,开关电路包括多个输入端...
  • 本技术公开一种扩散板和等离子体刻蚀装置,其中扩散板包括扩散板本体,扩散板本体上开设有多个气孔,多个气孔的孔径自扩散板本体的中心至板边方向呈渐扩设置;扩散板本体具有相对的第一端和第二端,多个气孔沿扩散板本体的第一端至第二端方向分设为多个第...
  • 本申请公开了多段阻抗的匹配器电路及等离子体产生装置,本申请涉及电源技术领域,多段阻抗的匹配器电路包括:输入接口,输入接口用于输入待匹配信号;控制电路,控制电路的第一输入端与输入接口连接,控制电路用于检测待匹配信号的频率和功率,并输出对应...
  • 本申请公开了多带通的匹配器及等离子体产生装置,本申请涉及电源技术领域,多带通的匹配器包括:多个带通滤波电路,多个带通滤波电路中的至少两个相互并联,多个带通滤波电路中的任意两者的频率范围不同;阻抗匹配电路,阻抗匹配电路的输入端与带通滤波电...
  • 本技术提供一种刻蚀装置,包括装置本体、安装组件和驱动机构,装置本体具有刻蚀腔,刻蚀腔内具有刻蚀区,装置本体能够沿第一方向向刻蚀区注入等离子体;安装组件设于刻蚀腔内,安装组件用于固定或者定位待刻蚀的电路板于刻蚀区;驱动机构与安装组件驱动连...
  • 本技术公开了一种棒状电感器及射频阻抗调整器,属于电感技术领域。本技术解决了现有陶瓷RFC电感在超功率下击穿空气引发一次打火和二次打火的问题。本技术包括实心棒状骨架和绕在实心棒状骨架上的线圈;实心棒状骨架包括隔挡和多个分区,相邻两个分区之...
  • 本发明公开一种阻抗匹配方法、装置及等离子体产生装置,涉及阻抗匹配技术领域。其中,阻抗匹配方法用于控制可调阻抗匹配电路。所述方法包括:获取可调阻抗匹配电路的初始参数与接入信号的信号参数;根据所述初始参数与所述信号参数,确定所述可调阻抗匹配...
  • 本申请公开了一种阻抗匹配调节方法、装置及等离子体产生设备,涉及阻抗匹配技术领域,其中方法包括:确定等离子体腔室的等效阻抗的变化规律的相关参数;获取等离子体腔室当前周期的前半周期的等效阻抗,基于相关参数对等离子体腔室前半周期的等效阻抗进行...
  • 本申请公开了匹配器的保护电路及等离子体产生装置,本申请涉及匹配器技术领域,匹配器的保护电路包括:检测电路,检测电路与阻抗匹配器电连接,检测电路用于获取阻抗匹配器当前的状态参数,输出对应的检测信号;保护控制电路,保护控制电路的受控端与检测...
  • 本技术公开了一种等离子体处理设备的承载传输机构,属于等离子体技术领域。本技术解决了现有技术中基片移入、等离子体处理中承载、移出过程繁琐且效率低和基片下表面被颗粒污染的问题。本技术包括开口、载体滑板、基片放置槽、吸尘孔和导气通道,载体滑板...
  • 本申请涉及一种用于处理卷材的等离子体清洗设备,包括:壳体,壳体内设置有清洗舱,清洗舱用于对卷材进行清洗;气体供应机构,气体供应机构的输入端设有气体舱和连接管,所述气体舱的输入端与连接管的第一端连接,连接管的第二端的外壁设有螺纹,所述气体...