本技术属于射频离子源技术领域，尤其为一种射频离子源装置，包括底板以及设置在所述底板上方的安装箱和设置在所述安装箱内部的基座，所述基座的上表面固定连接有射频离子源本体，还包括设置在所述底板和所述安装箱之间的缓震组件，所述缓震组件包括通过铰...

本实用新型属于中和器技术领域，尤其为一种中和器安拆结构，包括真空腔室以及安装在所述真空腔室一侧的离子源主体和固定在所述真空腔室上呈对排列的两组电动推杆，所述真空腔室的内侧壁靠近所述电动推杆一侧固定有支撑架，所述电动推杆和所述支撑架之间设...

本实用新型公开了一种等离子体高压电源，包括发生器架和壳体，所述发生器架的顶端设置有封装架，且封装架的前端安装有加固架，所述壳体设置于加固架的前端，所述壳体的前端安装有操作面板架，所述封装架的后端安装有内置嵌入散热机构，且内置嵌入散热机构...

本实用新型公开了一种防水涂层镀膜装置，包括升降组件、承载组件、密封组件、工作台、真空罩、离子源、电子枪和坩埚，所述升降组件的顶部设置有工作台，且工作台的一侧设置有密封组件，所述工作台的另一侧设置有离子源，且离子源的顶部设置有承载组件，所...

本实用新型属于等离子刻蚀技术领域，尤其为一种等离子刻蚀装置，包括主体，所述主体的内部设置有可便捷拆卸更换的拖盘。通过旋转限位环使其上下移动可经顶环带动导杆旋转，调整相邻导杆之间的夹持范围，此时即可直接将物料搁置于上端，操作简单可有效防止...

本实用新型公开了一种功能材料生长单晶炉，包括副炉和压紧环机构，所述副炉的底部安装有炉盖，且炉盖的外侧设置有压紧环机构，所述压紧环机构的底部设置有主炉，所述压紧环机构包括有粘合圈、连接柱和密封胶圈，所述压紧环机构的中部设置有密封胶圈，且密...