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上海征世科技有限公司专利技术
上海征世科技有限公司共有87项专利
一种用微波等离子体技术生长单晶钻石的基片台制造技术
本发明提供了一种用微波等离子体技术生长单晶钻石的基片台,包含一呈圆形的微波等离子体基片台,所述基片台的上方紧贴着基片台表面有微波激发的一球形等离子体,所述基片台表面轴对称中心处有一个凹坑,该凹坑中能放置一个用于钻石生长的晶托。凹坑底部环...
一种提高微波等离子体生长单晶钻石生长速度的基片台制造技术
本发明提供了一种用微波等离子体技术提高单晶钻石生长速度的基片台技术,包含一呈圆形的微波等离子体基片台,所述基片台的上表面有放置晶托用的凹坑,晶托上放置单晶钻石生长用的钻石晶种,凹坑底部环绕晶托有一环形的金属细管,细管上有小孔,细管连接抽...
一种用于微波等离子体沉积金刚石膜装置中的刀具托盘制造方法及图纸
本实用新型提供了一种用于微波等离子体沉积金刚石膜装置中的刀具托盘,包含一呈圆形的微波等离子体基片台,所述基片台上设置一托盘呈圆形的托盘,所述托盘的上方放置含金属成分的刀具,利用微波激发的等离子体,在刀具表面沉积CVD金刚石膜,所述托盘上...
一种基片台及其装置制造方法及图纸
本实用新型提供一种基片台,用于承载圆片,所述基片台上表面呈圆形,所述基片台直径大于所述圆片,所述基片台的圆形边缘设有一个环形的凹坑,所述凹坑中填充有无机材料。由于微波激发的等离子体球是一个能量密度不均匀的球形体,导致对基片台上工件的热辐...
一种CVD金刚石膜片制造技术
本实用新型公开了一种CVD金刚石膜片,其由上而下依次包括第一硬质合金层、第一散热层、第一泡沫铝层、CVD金刚石层、第二散热层、第二泡沫铝层和第二硬质合金层,所述第一硬质合金层的中间部位上设有第一连接槽,所述第一散热层和第一泡沫铝层的中间...
一种CVD金刚石钻头制造技术
本实用新型公开了一种CVD金刚石钻头,所述CVD金刚石钻头包括连接手柄、刀具和钻头,所述刀具焊接在连接手柄的底端,所述刀具的顶端设有一凹槽,所述钻头上设有一凸块,所述钻头固定在连接手柄的顶端,并且凸块也固定在凹槽内,所述钻头的最大直径大...
一种MPCVD金刚石膜基片制造技术
本实用新型公开了一种MPCVD金刚石膜基片,所述MPCVD金刚石膜基片包括MPCVD金刚石层,所述金刚石层两侧分别设有相对称的卡槽,每个卡槽内内嵌有泡沫铝层,所述金刚石层两侧分别焊接有第一散热层和第二散热层,所述第一散热层上设有第一连接...
一种微波等离子体化学气相沉积形成的金刚石膜制造技术
本实用新型公开了一种微波等离子体化学气相沉积形成的金刚石膜,所述金刚石膜包括离型层、第一光学胶层、抗静电透明PET膜层、金刚石层、导热胶层、透明PET膜层和印刷涂层,所述抗静电透明PET膜层通过第一光学胶层固定在离型层上,所述金刚石层通...
一种化学气相沉积镀制的金刚石膜制造技术
本实用新型公开了一种化学气相沉积镀制的金刚石膜,所述金刚石膜包括离型层、第一导热填充胶层、基层、金刚石层、第二导热填充胶层和绝缘层,所述基层通过导热填充胶层固定在离型层上,所述金刚石层通过化学气相沉积工艺直接设置在基层上,所述绝缘层通过...
一种采用化学气相沉积形成的多晶金刚石的复合片制造技术
本实用新型公开了一种采用化学气相沉积形成的多晶金刚石的复合片,其包括:硬质合金层;上金刚石层,上金刚石层直接沉积在硬质合金层的上表面;下金刚石层,下金刚石层直接沉积在硬质合金层的上表面;上缓冲层,上缓冲层设置在上金刚石层的上表面;下缓冲...
一种多晶金刚石膜片制造技术
本实用新型公开了一种多晶金刚石膜片,其由上而下依次包括第一硬质合金层、第一散热层、多晶金刚石层、第二散热层和第二硬质合金层,所述第一硬质合金层与第一散热层的接触面的中间部位上设有第一连接槽,所述第一散热层的中间部位设有第一通孔,所述多晶...
一种采用微波CVD法制备的高质量金刚石颗粒的复合片制造技术
本实用新型公开了一种采用微波CVD法制备的高质量金刚石颗粒的复合片,其包括:硬质合金层,硬质合金层的上表面和下表面分别设有若干个安置槽,每个安置槽内内嵌一个第一金刚石颗粒;上金刚石层,上金刚石层通过化学气相沉积工艺直接沉积在硬质合金层的...
聚晶金刚石钻头制造技术
一种聚晶金刚石钻头,包含:PDC片,以及金刚石薄膜,形成在所述PDC片上表面,其特征在于,还包含:一氮化硅层或碳化硅层,形成在所述PDC片与金刚石薄膜之间;平坦化层,形成在所述金刚石薄膜与所述氮化硅层或碳化硅层之间。综上,本实用新型提供...
覆盖化学气相沉积的金刚石涂层的复合片制造技术
一种覆盖化学气相沉积的金刚石涂层的复合片,包含:PDC片,以及金刚石薄膜,形成在所述PDC片上表面,其特征在于,还包含:一氮化硅层或碳化硅层,形成在所述PDC片与金刚石薄膜之间。综上,本实用新型提供的复合片具备高强度、长寿命及高附着力的...
一种双面大面积BDD电极制备CVD的设备制造技术
本实用新型公开了一种双面大面积BDD电极制备CVD的设备,属于金刚石制备技术领域。其包括反应腔,所述反应腔的外部四周上设置有磁场线圈,反应腔的两端分别与加热装置和微波源连接,加热装置与基片连接,所述反应腔的侧壁上以及与微波源连接的一端均...
一种金刚石薄膜生产自动化配料粉碎一体机制造技术
本实用新型公开了一种金刚石薄膜生产自动化配料粉碎一体机,包括称料桶和伺服电动机,所述称料桶安装在配料台的入料口下侧,且称料桶下端安装有流料板,所述称料桶内下端面设置有底板,所述电磁继电器安装在开关的内部,所述伺服电动机与开关之间通过导线...
一种冷凝吸附式金刚石薄膜生产废气处理设备制造技术
本实用新型公开了一种冷凝吸附式金刚石薄膜生产废气处理设备,包括外壳,所述外壳内部从左到右依次设置有亲油疏水海绵、挡板和冷凝管,且亲油疏水海绵通过通风孔与冷凝管相连接,所述通风孔通过出气口与引风机相连接,所述亲油疏水海绵通过挤压板与气泵相...
一种直流等离子体CVD金刚石薄膜涂层制备设备制造技术
本实用新型公开了一种直流等离子体CVD金刚石薄膜涂层制备设备,属于金刚石薄膜制备技术领域。其包括等离子炬,所述等离子炬的中心设置有阴极,所述阴极设置在引弧嘴的内部,阴极与引弧嘴之间设置有阳极通道,阳极通道上设置有氩气喷嘴,引弧嘴的外部周...
复合金刚石薄膜制造技术
本实用新型提供了一种复合金刚石薄膜,包括:基座;设置于所述基座上的第一金刚石层;形成在所述第一金刚石层上表面的第一过渡层;在所述第一过渡层背离所述第一金刚石层一侧表面的硬质合金层;在所述硬质合金层背离所述第一过渡层一侧表面形成的第二过渡...
PDC钻头聚晶金刚石复合结构制造技术
本实用新型提供了一种PDC钻头聚晶金刚石复合结构,包括硬质合金基座及金刚石单晶聚晶层,所述金刚石单晶聚晶层覆盖在所述硬质合金基座上,所述硬质合金基座由第一基座部和第二基座部组成,其中所述第一基座部的截面呈矩形,所述第二基座部的截面呈梯形...
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