本实用新型提供了一种覆盖CVD金刚石涂层的石油钻头，包括硬质合金基座及金刚石单晶聚晶层，所述金刚石单晶聚晶层覆盖在所述硬质合金基座上，所述硬质合金基座由第一基座部和第二基座部组成，其中所述第一基座部的截面呈矩形，所述第二基座部的截面呈锥...

本实用新型提供了一种生产金刚石的籽晶承载盘，包括基台，所述基台上放置一籽晶承载盘，所述籽晶承载盘的中心端面开设有凹陷部，所述凹陷部大于等于2个，且所述凹陷部的下部和中部均呈倒梯形状。该籽晶承载盘形成的金刚石单晶形状对称，边缘圆润。

本实用新型提供了一种互嵌结构的CVD金刚石膜片，包括：基板；设置于所述基板上的金刚石膜；形成在所述金刚石膜上表面的第一阻隔层；形成在所述第一阻隔层上表面的抗应力层，且在所述抗应力层的上表面具有多个凹槽106；形成在所述抗应力层的上表面且...

本实用新型提供一种能改善应力的金刚石膜层结构，包括：基台；设置于所述基台上的应力分散层；形成在所述应力分散层上的金刚石层；形成在所述金刚石层上的硬质合金层，其中，所述应力分散层包括位于最下层的第一无机层、位于中间层的有机层和位于最上层的...

本实用新型提供了一种具有凹槽结构的金刚石膜，包括：基材，所述基材上表面形成多个凹槽；设置于所述基材上表面的金刚石层；形成在所述金刚石层上表面的硬质合金层，其中，所述基材的厚度为1‑5mm，所述凹槽的宽度为0.1‑0.5mm，所述凹槽的间...

本实用新型提供了一种多层化学气相沉积金刚石复合片，包括一中部硬质合金层，及形成在所述中部硬质合金层两侧的上化学气相沉积金刚石层和下化学气相沉积金刚石层，在所述上化学气相沉积金刚石层背离所述中部硬质合金层的一侧还通过沉积形成上缓冲层，在所...

本实用新型涉及金刚石生产技术领域，尤其是用于等离子体化学气相沉积法双向生长单晶金刚石的衬底托。包括水冷基片台，所述水冷基片台上设有衬底托，所述衬底托由水平底部和中心凸起部位组成，所述衬底托水平底部为圆盘，所述中心凸起部位设有方形通孔，所...