多层化学气相沉积金刚石复合片制造技术

本实用新型专利技术提供了一种多层化学气相沉积金刚石复合片，包括一中部硬质合金层，及形成在所述中部硬质合金层两侧的上化学气相沉积金刚石层和下化学气相沉积金刚石层，在所述上化学气相沉积金刚石层背离所述中部硬质合金层的一侧还通过沉积形成上缓冲层，在所述上缓冲层背离所述上化学气相沉积金刚石层的一侧通过焊接形成一上硬质合金层，在所述下化学气相沉积金刚石层背离所述中部硬质合金层的一侧通过沉积形成下缓冲层，在所述下缓冲层背离所述下化学气相沉积金刚石层的一侧通过焊接形成一下硬质合金层。本实用新型专利技术可弥补化学气相沉积金刚石的脆性缺点且金刚石的附着力显著加强。

Multilayer chemical vapor deposition diamond composite sheet

The utility model provides a multilayer chemical vapor deposition diamond composite sheet, including a central hard alloy layer, and formed on both sides of the central chemical vapor phase deposition of diamond hard alloy layer and the lower layer chemical vapor deposition of diamond layers, in the chemical vapor deposition of diamond layers from the side in the middle of the hard alloy layer on the buffer layer is formed by deposition in the buffer layer from the upper side of the chemical vapor deposition of the diamond layer formed by welding a hard alloy layer, in which the chemical vapor deposition of diamond layers from the back side of the middle layer is formed by deposition of hard alloy under the buffer layer, in which the chemical gas buffer layer away from the lower side of the diamond layer deposition formed by welding a hard alloy layer. The utility model can compensate for the brittleness of the chemical vapor deposited diamond, and the adhesion force of the diamond is obviously enhanced.

【技术实现步骤摘要】
多层化学气相沉积金刚石复合片
本技术涉及一种多层化学气相沉积金刚石复合片。
技术介绍
CVD(ChemicalVaporDeposition化学气相沉积)金刚石。含碳气体和氧气的混合物在高温和低于标准大气压的压力下被激发分解，形成活性金刚石碳原子，并在基体上沉积交互生长成聚晶金刚石(或控制沉积生长条件沉积生长金刚石单晶或者准单晶)。由于CVD金刚石中不含任何金属催化剂，因此它的热稳定性接近天然金刚石。同高温高压人工合成聚晶金刚石一样，CVD金刚石晶粒也呈无序排列，无脆性解理面，因此呈现各向同性。CVD金刚石现在被用为刀具材料的一种。金刚石的高硬度、高耐磨性使得金刚石薄膜成为极佳的工具材料。作为工具材料，金刚石薄膜可以由两种不同的应用形式。第一种形式是将沉积以后的金刚石膜剥离下来，然后重新加以切割、研磨，并焊接到工具的端部。由于这种钎焊强度远低于PCD材料金刚石层与硬质合金之间的结合强度。当它应用于断续切削时，其界面的连接就显得很脆弱。若能够解决CVD金刚石的钎焊问题，那么CVD金刚石刀具材料将能够在整个机械加工领域同PCD材料竞争。这种材料与PCD相比，具有热稳定性好、工具使用寿命长的优点。缺点是晶粒间的内聚强度低，材料表现出较大的内应力和脆性。另外，由于CVD金刚石缺乏导电性，阻碍了该材料对电火花切割和抛光加工技术的应用。而该技术在金刚石刀具加工业，尤其是木材刀具的刃磨和重刃磨上得到了广泛的应用。第二种形式是将金刚石膜直接沉积到工具表面上，薄膜厚度较薄，成本较低。这种方法也有不足：沉积的薄膜对衬底材料的附着力不容易提高。现有的金刚石复合片结构多为金刚石层与硬质合金层复合的单层结构。用于钻头等工具上受到限制。
技术实现思路
本技术提供了一种多层化学气相沉积金刚石复合片，包括一中部硬质合金层，及形成在所述中部硬质合金层两侧的上化学气相沉积金刚石层和下化学气相沉积金刚石层，在所述上化学气相沉积金刚石层背离所述中部硬质合金层的一侧还通过沉积形成上缓冲层，在所述上缓冲层背离所述上化学气相沉积金刚石层的一侧通过焊接形成一上硬质合金层，在所述下化学气相沉积金刚石层背离所述中部硬质合金层的一侧通过沉积形成下缓冲层，在所述下缓冲层背离所述下化学气相沉积金刚石层的一侧通过焊接形成一下硬质合金层。优选地，所述上化学气相沉积金刚石层的厚度大于所述下化学气相沉积金刚石层的厚度。优选地，所述上化学气相沉积金刚石层的厚度厚度为0.5-1.5mm，所述下化学气相沉积金刚石层的厚度为0.2-0.4mm。优选地，所述上化学气相沉积金刚石层的厚度为1mm，所述下化学气相沉积金刚石层的厚度的厚度为0.2mm。优选地，所述上缓冲层和下缓冲层的材料选自氮化硅或碳化硅。优选地，所述上缓冲层和下缓冲层的厚度为0.05-0.2mm。优选地，所述硬质合金层的厚度为2-10mm。本技术的有益效果：1、硬质合金从两个侧面保护化学气相沉积金刚石片，可弥补化学气相沉积金刚石的脆性缺点；2、切割速度快，效率高；3、金刚石的附着力显著加强。附图说明图1是本技术结构示意图；具体实施方式下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部内容。图式中相同的号码代表相同或相似的组件。另一方面，众所周知的组件与步骤并未描述于实施例中，以避免对本技术造成不必要的限制。如图1所示，为一种多层化学气相沉积金刚石复合片，包括形成在中部硬质合金层201两侧形成的上化学气相沉积金刚石层101和下化学气相沉积金刚石层102，在上化学气相沉积金刚石层101背离中部硬质合金层201的一侧通过沉积形成上缓冲层301，在上缓冲层301背离上化学气相沉积金刚石层101的一侧通过焊接形成一上硬质合金层202，进一步地，在下化学气相沉积金刚石层102背离中部硬质合金层201的一侧通过沉积形成下缓冲层302，在下缓冲层302背离下化学气相沉积金刚石层102的一侧通过焊接形成一下硬质合金层202。其中，上化学气相沉积金刚石层的厚度大于下化学气相沉积金刚石层的厚度，在本实施例中，上化学气相沉积金刚石层的厚度为1mm，下化学气相沉积金刚石层的厚度为0.2mm，可选地，上化学气相沉积金刚石层101厚度为0.5-1.5mm，下化学气相沉积金刚石层的厚度为0.2-0.4mm，通过实验研究，将下化学气相沉积金刚石层的厚度更薄可以使整个结构的寿命更长。缓冲层的材料可以选氮化硅或碳化硅，由于硬质合金层和化学气相沉积金刚石层之间的应力较大，设置缓冲层可显著改善整个结构的牢固度，缓冲层的厚度在本实施例中设置为0.05-0.2mm。硬质合金层的厚度可选2-10mm，由难熔金属的硬质化合物和粘结金属通过粉末冶金工艺制成的一种合金材料，例如金属型碳化物。上述实施例的一种多层化学气相沉积金刚石复合片可以用作钻头等切割工具。综上，本技术与现有技术相比较具有如下优点：1、硬质合金从两个侧面保护化学气相沉积金刚石片，可弥补化学气相沉积金刚石的脆性缺点；2、切割速度快，效率高；3、金刚石的附着力显著加强。本技术还可有其它多种实施例，在不背离本技术精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本技术作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本技术所附的权利要求的保护范围。以上仅为本技术的较佳实施例，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多层化学气相沉积金刚石复合片，其特征在于：包括一中部硬质合金层，及形成在所述中部硬质合金层两侧的上化学气相沉积金刚石层和下化学气相沉积金刚石层，在所述上化学气相沉积金刚石层背离所述中部硬质合金层的一侧还通过沉积形成的上缓冲层，在所述上缓冲层背离所述上化学气相沉积金刚石层的一侧通过焊接形成的一上硬质合金层，在所述下化学气相沉积金刚石层背离所述中部硬质合金层的一侧通过沉积形成的下缓冲层，在所述下缓冲层背离所述下化学气相沉积金刚石层的一侧通过焊接形成的一下硬质合金层。

【技术特征摘要】
1.一种多层化学气相沉积金刚石复合片，其特征在于：包括一中部硬质合金层，及形成在所述中部硬质合金层两侧的上化学气相沉积金刚石层和下化学气相沉积金刚石层，在所述上化学气相沉积金刚石层背离所述中部硬质合金层的一侧还通过沉积形成的上缓冲层，在所述上缓冲层背离所述上化学气相沉积金刚石层的一侧通过焊接形成的一上硬质合金层，在所述下化学气相沉积金刚石层背离所述中部硬质合金层的一侧通过沉积形成的下缓冲层，在所述下缓冲层背离所述下化学气相沉积金刚石层的一侧通过焊接形成的一下硬质合金层。2.如权利要求1所述的多层化学气相沉积金刚石复合片，其特征在于：所述上化学气相沉积金刚石层的厚度大于所述下化学气相沉积金刚石层的厚度。3.如权利要求2所述的多...

【专利技术属性】
技术研发人员：龚闯，吴剑波，朱长征，余斌，
申请(专利权)人：上海征世科技有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31